Способ получения слоя стекла

 

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) (11) 1 11@ С 03 С 17/02

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ

Н ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ уjQ =gô (21) 3654957/29-33 (22) 29. 07. 84 (46) 07.01.86. Бюл. Р 1 (72) Т.Г.Духанова, В.Ю.Васильев .и В.А.Борисова (53) 666. 1.056 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

И 510057, кл. Н 01 1 21/20, 1974.

Авторское свидетельство СССР

Р 508824, кл. Н 01 L 21/205, 1974. (54) (57) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ СЛОЯ СТЕКЛА из газовой фазы путем осаждения на подложку нагретую до 300-500 С, смеси, 0 включающей силан, легирующие примеси, кислород и газ-носитель, о т л и ч а«о шийся тем, что, с целью уменьшения разброса толщины осаждаемых слоев и улучшения воспроизводимости, в смесь вводят пары хлорзамещенного углеводорода, молярное отношение которого к силану составляет 0,5-2,0.

1203046

Т а б и н ц а 1

TpMIIP.—

Параметр осаждением слоев для способа

Содержание каипонситае, об.Х

Эксрзтура осажперииспт известного предлагаемого деиия, Ос

Усредненная

Разброс толщпн, Вид хлорзамещенного углезодорода азброс толщин, Х

Величина мольного отношеУсредненная ско-. скопо подложке по пирамиде рость осано пирамиде по под ложке рость осажденпя, Л/иин дениз, А/мин лня хлорзамещенного углеводарода к силану

6 280 Трихлор- 9 5 250 1,15 зтилен

450 Силан 0,15 I

Кисларод 2,6

Фосбин 8,8-10 2

Аргон Остальное!

0 5

4,5

То же, что и е 3 предыдущем составе ° но вместо босФииа — трпметилфасфат 0,1 4

240 То ке

170 1,15

13 .7

15 8 !

4 7

300 Силан 0,15 5

Кислород 0,75 6

Трихлор- 12 зтилен

6 250 1 15

280

Изобретение относится к химическому осаждению диэлектрических слоев из газовой фазы на подложку и может быть использовано для получения изолирующих и пассивирующих слоев окисла и силикатных стекол в производстве полупроводниковых приборов и .интегральных микросхем.

Цель изобретения — уменьшение. разброса толщины осаждаемых слоев и улучшение воспроизводимости.

Способ осуществляется следую%!м образом.

Пластины кремния в количестве ь

24 шт. располагаются на гранях вращающейся пирамиды с резистивным нагревом, герметично закрываются металлическим колпаком и нагреваются до о

450 С. После нагрева пластин через отверстие в верхней части колпака в реактор в потоке газа †носите подается смесь силана, легиру!08тей примеси (фосфин, тр!и!етилфосфат), кислорода и паров трихлорэтилена °

Продукты реакции выводятся из реактора через отверстие в его нижней части и выбрасыьаются в вытяжную вентиЛЯЦП!0.

После выдерживания пластин в парогазовой смеси в течение заданного времени напуск реагентов прекращают, реактор продувают, поднимают колпак

5 и производят выгрузку пластин с пирамиды.

Состав газовой смеси следующий, об. X

Силан О, 1-0,4

Кислород О, 5-5 !

О Легирующая примесь 10 вЂ,10

-3

Газ-носитель Остальное

В табл. l приведены режимы проведения способа и свойства полученного слоя; в табл. 2 — свойства слоев окисла и фосфорсиликатного стекла, полученных предлагаемым методом.

Преимущества предлагаемого спосо70 ба осаждения слоев окисла и силикатных стекол по сравнению с известными состоят в том, что при его применении в 1,5 — 2 раза уменьшается разброс толщины по подложке и в партии

25 обрабатываемых подложек, улучшаются воспроиэводимость процессов осаждения слоев окисла и силикатных стекол и внешний вид осаждаемого слоя.

1203046

Продолжение табл 1

Темпе, ратура ОСЯХ дания, с

Содерханне

КОМНОНЕИТОВ» об. 2

Эксперимент известнсго предлагаемого

Разброс толщин, й

Разброс тол» щин, 2

ВелиУсредненная скоВид хлорзамещенного углеводорода

Усредненная скорость осяхления>

А/мин под окка по пирамиде по подлохке по пир мщпе рость

ОС ЯХДЕ НИ А, А/мин

Фосфин 8, 8 ° 1О Я

Аргон Остальное 7 15

450 Силан 0,15 8 15

Кислород 2,6

11 5

5,8!

1,8 фосфии 8,8 ° 10 9 !4

Аргон Остальное 10 15

6,2 190 0,5

10,6,Тоmo

6,0

11,2

То хе, что и в предмдущем составе, но вместо фос-11 фина - триметнлфосфат ... О, 1 12

450

8з3 4>0 155 2 О

То хе

8,5 4,2

14.12 6,0

Ж

6,5 250 1, 15, 300 Силан 0,15 13 ° 17

Четыреххлористьй углерод

Кислород О, 75 14

Фосфин 8,8 10

Аргон осз яльное . 1 5

Силен О, 15 16

11 5

10 ° 6

7,5

15 !

Хлорнстьз! метнлев

500

Кислород 3,0

Тнрметилфосфат О, 1 17 20

5 250 1 15

Аргон остальное 18 18!

Таблица 2

Фосфорсиликатное стекло (Р 0 4 мас./) Параметр слоя звестное предлагаемое

1, 45-1, 47 1, 45-1, 46 к

Показатель преломления

Скорость растворения в травителе, А/с для стекла

50 для окисла

Параметр осяхдеиныс слоев для способа

ВНИИПИ Заказ 8380/28 Тираж 456 Подписное

Филиал ППП "Патент", г.Ужгород, ул.Проектная, 4 чина мольного отноmlo пня хлор замещеиного угла. водорода к снлану

Способ получения слоя стекла Способ получения слоя стекла Способ получения слоя стекла 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к оптико-интерференционным спектральным приборам и может быть применено в оптических системах, в частности для квантовой электроники, спектроскопии и т.д

Изобретение относится к области получения матирующих, в том числе цветных декоративных покрытий на изделия сортового, тарного, строительного и других видов стекла

Изобретение относится к области декорирования стекла и изделий из него и может быть использовано в стекольной промышленности
Изобретение относится к растворам, используемым при производстве огнестойких остеклений, содержащим водорастворимый алюминат и жидкое стекло, к способам получения таких растворов и к производству вспучивающихся промежуточных слоев из таких растворов, которые могут включаться в огнестойкие остекления
Изобретение относится к области технологии силикатов и касается способов декорирования стеклоизделий

Изобретение относится к способам декорирования стеклянного объекта типа сосуда или бутылки
Изобретение относится к производству стеклянной декоративно-облицовочной плитки
Изобретение относится к кристаллическому льду в качестве фритты, используемой для декорирования листового стекла
Наверх