Способ получения ферментного фотографического материала
Способ получения ферментного фотографического материала, включающий модификацию гидрофильной целлюлозной подложки обработки n-нитробензоилхлоридом в пиридине, треххлористым титанов в соляной кислоте, диазотирующим агентом и азидом щелочного металла с последующим нанесением щелочной фосфатазы в активной форме, отличающийся тем, что, с целью улучшения сенситометрических показателей фотоматериала, обработку n-нитробензоилхлоридом ведут при 18 - 20oC в течение 2 - 3 ч, а перед нанесением фосфатазы подложку обрабатывают 0,5 - 1%-ным раствором нормальной лошадиной сыворотки или 0,02 - 0,05%-ным раствором бычьего сывороточного альбумина и сушат.
Похожие патенты:
Изобретение относится к способам получения фотополимеризующихся композиций для защитных рельефов, которые находят применение в технологии печатного монтажа и в полиграфии для получения рельефных изображений
Сухой пленочный фоторезист // 1371281
Изобретение относится к фотографии , в частности к фотополимеризующейся композиции (ФК) для изготовления эластичных фотополимерных печатных форм
Позитивный фоторезист // 1364051
Изобретение относится к позитивным фоторезистам на основе о-нафтохинондиазидов, применяемых в процессах производства радиоэлектронных и микроэлектронных изделий и сверхбольших схем методами контактной и проекционной фотопечати
Способ изготовления защитных рельефов // 1340398
Изобретение относится к способам изготовления защитных рельефов и может быть использовано при производстве печатных плат с использованием сухих пленочных фоторезистов в радио- и электротехнической промышленности
Сухой пленочный фоторезист // 1311456
Изобретение относится к сухим пленочным фоторезистам, которые используются для получения защитных рельефных изображений при производстве печатных плат в радио- и электротехнической промышленности
Изобретение относится к фторполимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов водно-щелочного проявления, находящих применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радиоэлектронной промышленности
Фотографический материал // 2164033
Изобретение относится к фоточувствительным материалам на основе оксидов цинка и/или титана в связующем
Термопроявляемый фотографический материал // 2165636
Изобретение относится к термопроявляемым фотографическим материалам на основе водопроницаемых полимеров с добавками солей металлов и может быть использовано в системах записи оптической информации
Фоторезистная композиция // 2199773
Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции
Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению
Фоторефрактивный полимерный материал // 2242782
Изобретение относится к фоторефрактивному полимерному материалу с высокой дифракционной эффективностью в ближней инфракрасной области электромагнитного спектра и может быть использовано в оптоэлектронных устройствах, в процессах записи динамических голограмм в реальном масштабе времени и других фотонных технологиях
Изобретение относится к составу для светочувствительного слоя фотоматериалов, которые могут быть использованы в системах записи информации, для получения изображения в фотографии и полиграфии
Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Нанокомпозиционный материал // 2332352
Изобретение относится к нанотехнологии и направлено на создание нанокомпозиционных материалов с эффективно управляемыми оптическими свойствами, которые могут быть использованы в нелинейной оптике, информационной технике, при разработке средств оптической памяти и т.д
