Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления

 

Изобретение относится к полиграфическому оборудованию для гравирования печатных форм и может быть использовано в других областях техники для сварки, сверления, гравирования и нагрева электронным лучом. Целью изобретения является обеспечение стабильности гравирования. Одновременно с фокусировкой электронного луча в зоне поверхности печатной формы регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации. Размер изображения исто тика зарядов устанавливают пропорционально размеру растровой ячейки. Электронный луч диафрагмируют до получения практически прямоугольного распределения плотности мощности луча на поверхности. Устройство содержит три длиннофокусные линзы, две динамические линзы, размещенные в первой и третьей длиннофокусных линзах, и апертурную диафрагму . 2 с. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил. i О) С

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

А3 (19) (И) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К llATEHTY

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

IlO ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ (21) 3496070/28-12 (22) 28.09.82 (31) 81 108156.1 (32) 10 ° 10.81 (33) EP (46) 15.01.89. Бюл. У 2 (71) Др.-инж. Рудольф Хелль ГмбХ (DE) (72) Зигфрид Байсвенгер (DE) (53) 677.851.25(088.8) (56) Патент ФРГ М 2458370, кл. В 41 С 1/04, 1984. (.54) СПОСОБ ГРАВИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННЫМ

ЛУЧОМ РАСТРОВЫХ ЯЧЕЕК РАЗЛИЧНЫХ РАЗМЕРОВ НА ПОВЕРХНОСТИ ПЕЧАТНОЙ ФОРМЫ

И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (57.) Изобретение относится к полиграфическому оборудованию для гравирования печатных форм и может быть использовано в других областях тех(5)) 4 В 41 С 1/04, Н 01 J 37/00 ники для сварки, сверления, гравирования и нагрева электронным лучом.

Целью изобретения является обеспечение стабильности гравирования. Одновременно с фокусировкой. электронного луча в зоне поверхности печатной формы регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации. Размер изображения исто . ..:ика зарядов устанавливают пропорционально размеру растровой ячейки. Электронный луч диафрагмируют до получения практически прямоугольного распределения плотности мощности луча на поверхности.

Устройство содержит три длиннофокусные линзы, две динамические линзы, размещенные в первой и третьей длиннофокусных линзах, и апертурную диафрагму. 2 с. и 1 з,п. ф-лы, 5 ил.!

452471

Изобретение относится к полиграфическому оборудованию для гранирования печатных форм и может быть использовано в других областях техники для сварки, сверления, гравирования и нагрева электронным лучом.

Цель изобретения — обеспечение, стабильности гравирования.

На фиг. 1 представлена схема устройства для осуществления способа, на фиг. 2 и 3 — схема граниронания и график распределения плотности луча при гравировании болыних. растровых ячеек; на.фиг. 4 и 5 — то же, при 15 гравировании малых растровых ячеек, Устройство для гранирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы содержит (фиг. 1) длиннофокус- 2р ные линзы 1, 2 и 3 и апертурную диафрагму 4, размещенные по ходу электронного луча между источником 5 электронов и печатной формой 6. В линзах

1 и 3 размещены динамические линзы

7 и8.

Способ реализуют следующим образом.

При возбуждении линзы 7 изменяется на незначительную величину расстояние изображения от первой длинно— фокусной линзы 1. Масштаб иэображения комбинации линз 1 и 7 при этом также изменяется на незначительную величину, Так как изображение источника 5 электронов с помощью комбинации линз

1 и 7 представляет объект второй короткофокусной линзы 2, то незначительное осевое смещение первого промежуточного изображения ведет к большому изменению масштаба иэображения линзы 2. Масштаб изображения комбинации линз 3 и 8 изменяется из-за смещения второго промежуточного изображения на небольшую величину. Возни- кающая из-за этого ошибка в положении 5 фокуса на поверхности печатной формы

6 может компенсироваться путем регулировки динамической линзы 8.

Пример . Если линза 1 уменьшает н три раза и линза 7 не возбуж50 дается, то вторая короткофокусная линза 2 может быть отрегулирована так, что она образует масштаб изображения, равный i, Если линза 3 затем образует масштаб изображения, равный 4, то общее уменьшение равно

12. На фиг, 1 получающийся ход луча изображен сплошными линиями. Если возбудить теперь размещенную в линзе

1 линзу 7, то первое промежуточное иэображение становится ближе к комбинации линз 1 и 7. Одновременно стаковится больше расстояние второй короткофокусной линзы 2 от объекта. Зто означает, что короткофокусная линза 2 имеет теперь при неизменном ноэбуждении масштаб изображения, например, равный 3. Общий масштаб уменьшения устройства изменился в результате до 36. Получающийся ход луча изображен ка фиг. 1 пунктирной лин ией.

Если за короткофокусной линзой 2 размещается айертурная диафрагма 4, то дополнительно осуществляется модуляция масштаба изображения, а также модуляция энергии излучения. Благодаря этому можно гравировать с почти одинаковой плотностью мощности как малые, так и большие. ячейки.

Условия фокусировки в точке воздействия луча показаны для больших ячеек на фиг. 2 и 3, для малых ячеек — на фиг. 4 и 5, На фиг. 3 и 5 обозначены: L плотность мощности излучения; r радиус в точке воздействия.На фиг.25 даны размеры в качестве примерных данных.

Изобретение обеспечивает очень быстрое изменение масштаба изображения. Время регулировки при переходе от сильного к слабому уменьшению и наоборот составляет приблизительно 1 мкс.

Формула и з о б р е т е н и я

1. Способ граниронания электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы, заключающийся в том, что растровые ячейки изготавливают путем воздействия постоянно направленного на поверхность дефокусируемого электронного луча, фоКусируют его в зоне поверхности и регулируют длительность его воздействия, о т л и— ч а ю шийся тем, что, с целью обеспечения. стабильности гравирования, одновременно с фокусированием регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации, причем размер изображения источника заряжен1452471 ных частиц устанавливают пропорционально размеру растровой ячейки.

2, Способ по и. I о т л и ч а ю шийся тем, что удаленные от оси лучи диафрагмируют до получения почти прямоугольного распределения плотности мощности как для больших, так и для малых .растровых ячеек.

3, Устройство для гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы, содержащее источник электронов и размещенную по направлению электронного луча основную системулинз,отличающееся тем, что, с целью обеспечения стабильности гравирования, оно снабжено по меньшей мере двумя дополнительнЫми системами линз и апертурной диафрагмой; при этом дополнительные системы линз и апертурная диафрагма размещены последовательно по направлению электронного луча между источником электронов и основной системой линз.

1452471

Составитель Е. Хачатурова

Редактор А. Лежнина Техред М.яндык Корректор М. Самборская

Заках 7094/57 Тираж 338 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г, Ужгород, ул. Проектная, 4

Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство для его осуществления 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к элионной технике, в частности к электронному облучению мишени,и может быть использовано, в частности, в эле- .-лучевых приборах для микролитографического структурирования тонких слоев при изготовлении конструктивных элементов с размерами в субмикронном диапазоне

Изобретение относится к области микроэлектронной техники и может быть использовано при очистке поверхности металлических и полупроводниковых изделий

Изобретение относится к области масс-спектрометрического анализа

Изобретение относится к конструкции электромагнитных линз с о.хлаждаемой обмоткой и может быть использовано в электронно-лучевых приборах, в частности в электронных микроскопах, рентгеновских микроанализаторах , электронографах и других аналогичных приборах

Изобретение относится к технической физике, в частности к радиацирииому материаловедению, и предназначено для улучшения электрофизических, химических и механических свойств поверхности изделий из металлов и сплавов, полупроводников, диэлектриков и др

Изобретение относится к электронным гравировальным машинам, выполняющим гравюру на формных печатных валах или плоских клише с точечным растром для глубокой печати и позволяет значительно расширить эксплуатационные возможности гравировальной машины путем введения режима программного коммутирования растра, при котором создание фоновых структурных растровых гравюр осуществляется простым набором программы на клавиатуре задатчика программы коммутирования растра (программника)

Изобретение относится к изготовлению печатных форм и позволяет расширить технологические возможности устройства путем изготовления тканей с полутоновым рисунком
Наверх