Способ изготовления кремниевых многослойных структур

 

Способ изготовления кремниевых многослойных структур, включающий создание n-n⁺- или n-p⁺-двухслойной кремниевой структуры, формирование на ее поверхности маскирующего покрытия, формирование слоя p-типа диффузией акцепторных примесей со стороны слоя n-типа, формирование термическим окислением пленки окисла кремния, фотолитографическое вскрытие в ней окон со стороны слоя p-типа и формирование n⁺ - областей диффузией донорной примеси в окна пленки окисла кремния, отличающийся тем, что, с целью упрощения технологии изготовления структур за счет сокращения количества высокотемпературных операций, маскирующее покрытие формируют толщиной 0,2-0,4 мкм путем нанесения пленки окисла кремния, содержащей 0,33-6,3 мас.% окисла алюминия и 0,65-2,8 мас.% оксида бора, на обе стороны структуры, формирования слоя p-типа диффузией акцепторных примесей со стороны n-слоя проводят термообработкой структуры