Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок

 

Изобретение относится к получению фотополимеризующихся композиций, используемых для заливки и герметизации блоков магнитных головок при изготовлении устройств звукозаписи, вычислительной техники, и позволяет улучшить магнитные свойства магнитных головок. Для этого композиция содержит в качестве фотосенсибилизатора раствор 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона в диметакрилатэтиленгликоле и дополнительно содержит низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук при следующем соотношении компонентов, мас.% : олигокарбонатметакрилат 93,1-95,8

2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,01-0,02

диметакрилатэтиленгликоль 2,00-3,39

низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук 2,0-3,5. 2 табл.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК ((9) SU((() ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

И А ЬТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4477528/23-05 (22) 06,07.88 (46) 15,11.90. Бил. Ф 42 (72) Pj.Л.Авраменко, Я,Д,Колесникова, Т,Н LI1коп, О.P.Ïåòðîâ, A.Ñ.Æèëÿê, Ю.С.Епишкин, .В,К.Габданк„ Г.Г.Ларина

P.Ï.ßñèíàâè÷þñ В.10.Íàéêÿëèñ, В,П.Белюнене и Д.И.Науекайтене (53) 668.395.7(088.8) (56) Патент США N - 4481258, кл. кл. 428-371, опублик. 1984.

Авторское свидетельство СССР

Р 421973, кл. С 03 С 1/68, 1974. (54) ФОТООТВЕРЖДАЕМАЯ КОМПОЗИЦИЯ

ДЛЯ ГЕРМЕТИЗАЦИИ БЛОКОВ МАГНИТНЫХ

ГОЛОВОК (57) Изобретение относится к получению фотополимеризующихся композиций, Изобретение относится к технологии пластических масс и может быть использовано для заливки и герметизации блоков магнитных головок при изготовлении устройств звукозаписи, вычислительной техники и др.

Цель изобретения — улучшение маг-. нитных свойств магнитных головок.

Приготовление композиции для герметизации магнитных головок осуществляют в следующей последовательности.

Вначале приготавливают раствор фотосенсибилизатора. Для этого взвешивают необходимое количество 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона и растворяют его в требуемом количестве диметакрилатэтиленгликоля при комнатной щ) C 09 K 3110, G 03 С 1/72

2 используемых для заливки и герметизации блоков магнитных головок при изготовлении устройств звукозаписи, вычислительной техники, и позволяет улучшить магнитные свойства магнитных головок. Для этого композиция содержит в качестве фотосенсибилизатора раствор 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона в диметакрилатзтиленгликоле и дополнительно содержит низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук при следующем соотношении компонентов, мас,7: олигокарбонатметакрилат 93,1—

95,8; 2, 2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,01-0;02; диметакрилатэтиленгликоль 2,00-3,39; низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук 2,0-3 5.

2 табл. температуре и непрерывном перемешивании до полного растворения. Для приготовления раствора фотосенсибилизатора пригодна любая емкость. После приготовления раствора фотосенсибипизатора взвешивают требуемое количество синтетического каучука и олигокарбонатметакрилата. Указанные компоненты смешивают в течение 10-15 мин при комнатной температуре в стеклянной или металлической емкости, После приготовления компонентов производят получение комг оэиции, для чего раствор 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона в диметакрилатэтиленгликоле вводят в смесь синтетического каучука и олигозфиркарбонатметакрилата.

Получ нный состав тщательно переме3 160651 шнвают. в течение 40-50 мин при комнатной температуре, не допуская .попадания на него видимого света., После смешения приготовленную комг:с5 зицию подвергают отстаиванию в темном месте при комнатной температуре в течение 1-1,5 ч или вакуумированию в течение 10-15 мин для удаления воздуха, попавшего в нее при смешении.

Приготовленную таким образом композицию используют для герметизации блоков магнитных головок. Гермети .цию блоков магнитных головок про»,водят свободной заливкой при комнатной температуре, После заливки блоков композицию отверждают под действием УФ"света, полученного от ламп ЛУФ-80 холодного свечения. Время отверждения композиции 2-15 мин. Рас- 20 стояние от поверхности залитого блока до лампы ЛУФ-80 8-10 см. Температура отверждения комнатная.

После отверждения производят испытания композиции по приведенному 25 ниже комплексу свойств.

Одновременно по данному комплексу свойств испытывали композицию-прототип и базовую композицию. В качестве базовой композиции принята исполь- 30 эуемая в производственных условиях композиция на основе эпоксидного олигомера УП-5-206.

В табл.2 приведены данные сравнительных испытаний свойств композициипрототипа, базовой композиции и предлагаемой композиции по примерам .1-8, Жизнеспособность предлагаемой композиции и композиции-прототипа при хранении в темноте практически не or40 раничена, на свету составляет 5-6 ч, а базовой композиции — 40-50 мин.

45 Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков .магнитных головок, включающая олигокарбонатметакрилат и фотосенсибилизатор, о т л и ч а ю— щ а я с я тем, что, с целью улуч50 шения магнитных свойств магнитных головок, она содержит в качестве фотосенсибилнзатора раствор 2,2-диметок-.. си-2-фенилацетофенона в диметакрилатэтиленгликоле и дополнительно низко55 молекулярный диметилсилоксановый каучук при следующем соотношении компонентов, мас.7.:

Олигокарбонатметакрилат 93,1-95,8!

Испытывают следующие показатели: магнитную проницаемость па ГОСТ

19755-81, импеданс по ГОСТ 19755-81, частотную характеристику воспроизведения по ГОСТ 19755-81, ЭДС по ГОСТ

19755-81> наличие контакта сердечника с экраном по ГОСТ 19755-81, ударную вязкость по ГОСТ 14235-69, разрушающее напряжение при изгибе по

ГОСТ 17036-71, степень отверждения определяли методом экстракции по общепринятой лабораторной методике в аппарате Сокслетта, жизнеспособность определяют визуально по общепринятой лабораторной методике, фиксируя время гелеобразования с помощью секундомера, вязкость но В3-4 определяли по ГОСТ 8420 -57, контактное давление (определение остаточных напря. — . жений) проводили тенэометрическим методом на приборе ЦТИ-5, При измерении контактного давления применяли модели в виде тонкостенного цилиндраг на внутренней поверхности которого наклеивали проволочные тензодатчики

9 4 для измерения осевых и окружных деформаций.

Цилиндр с наклеенными тенэодатчиками помещают в разъемную форму, после чего модель заливают испытываемым материалом таким образом, чтобы он образовал вокруг цилиндра слой толщиной 6 мм, При отверждении композиции возникают остаточные напряжения, которые деформируют цилиндр. По величине изменения сопротивления тензодатчиков определяется деформация цилиндра и, следовательно, вызвавшие ее усилия.

Контактное давление рассчитывают по формуле расчета тонкостенного цилиндра р = ЯoE 6/r(1 — P/2), Я, где P - контактное давление, кг/см

r — - средний радиус цилиндра, мм; я — модуль упругости материала цилиндра, кг/см

Я

6 — толщина стенки цилиндра, мм;

С вЂ” относительная окружная деформация; (Ч вЂ” коэффициент Пуассона.

В табл,1 приведены примеры получения предлагаемой композиции для гер-. метизации магнитных головок, Формула изобретения

1606519

Ниэкомолекулярный диметилсилоксайовый каучук

2, 2-Диме токси-2-фенилацетофенон

Диметакрилатэтиленгликоля

0 01-0,02

2,00-3,39

2,0-3,5

Таблица 1

Компонент (I Г (контрольные

95 8 96 195 92е6 95 95

93, 01 95

0,2 0,2

4,8 гликоль

Синтетический каучук СКТН

3,6 3,0

3,5 2,0 2,0 1;9

4,8

"Композиция не отверждается.

"«Степень, отверждения композиции низкая. ябан Композиция имеет низкие магнитные и прочностные свойства.

Таблица 2

Композиция по примеран

Показат предлагаемая контрольные

22 12

225 227

2Б 228

18

228.

224

17

228

232

236

24 25

232 230

238 234

lO

223

210

11

208

40 42

4,0 4,1

031 03

0,30 O 31

4 1

411

0 3

0 32

49 47

5 5 4,7

036 .036

0,41 0,42

4 2

4э l

О 3

0,31

4 7

4,7

О 36

0,4Т

4 0

4 ° 1

0 33

0,37

4 5

3,7

0 33

О 38 эдс, в

9,8 7,0 7 ° 4

8 3 -7-8

6,0 5,7

9,8 9,7

30 37

96 96 97

Олигокарбонатметакрилат

2,. 2-Диме ток си-2-фенилацетофенон

ДиметакрилатэтиленМагнитная проницаемость тыс,ед. (безразмерная величина), целевой показатель

Импеданс после заливки,Ом

Чаетотная характеристика восцроизведания, дВ

Калнчне контакта сердечника с зкраном ударная вязкость, кди/и и

Раз руиаищее напряиение, при изгибе, ИПа

Содержание компонентов, мас.Х, в предлагаемой композиции и по примерам

3 4 5 . 61 7 8»"

010 001 02 0005 03

3,39 2,99 2 0 1,9 3,5 2,0

1606519

11родол> ещ. е табл. 2

Показатель

Композиция по примерам мпози я-пропредлагаемая контрольные г ) з

4 5 6 7 8

95 87 87 87 89 88 - 25 37

190 101 100 104 98 96 107 14 106

0„15 0,2

0,8

0,7 0,1 0,1 0,1 О, 2 0,2

П р и и е ч а и и е. Иагнитиая головка имеет два вывода. Вывод 1 записан в числителе, вывод 2 в знаменателе, "Показатель степени отверждения для предлагаемой композиции занижен, так как синтетический каучук фотохимически-не отвергается, за счет чего масса зкстрагируемой части увеличивается. редактор Н,Киштулинец

Заказ 3528 Тираж 591 Подписное

ВИИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r,Óæãîðoä, ул. Гагарина, 101

Степень отверядеиия, Й

Вязкость flO

В3-4, с

Контактное и авление, а

Базовая композиция

Составитель Г,Мишензникова

Техред N.Ходанич Корректор С.Шевкун

Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области оптической обработки информации, в частности к способам получения изображения на халькогенидных структурах, и может найти применение в системах записи информации и голографии

Изобретение относится к дефектоскопии, позволяет улучшить качество композиции за счет повышения ее чувствительности

Изобретение относится к гетероциклическим соединениям, в частности к 9-диэтипамино-3-метакрилоилокси-5Н- бензо а феноксазин-5-дицианметилену, который может использоваться в качестве термонапьшяемого фоторезиста для сухой литографий

Изобретение относится к записи информации в высокочастотном электрическом поле и позволяет улучшить качество композиции для сокращения времени получения изображения

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для изготовления печатных плат и форм

Изобретение относится к способам получения голографических дифракционных решеток на позитивных фоторезистах, нанесенных на стеклянные подложки

Изобретение относится к композициям на основе модифицированных эпоксидных смол, отверждаемых при температуре окружающей среды аминными отвердителями, и может быть использовано для герметизации и склеивания различных изделий и конструкций

Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано для защиты микроэлектронных изделий от внешних воздействий

Изобретение относится к производству кислотоупорных замазок на основе жидкого стекла для футеровки оборудования энергетической и химической промышленности

Изобретение относится к радиоэлектронике, а именно к заливочным компаундам, применяемым для герметизации радиоэлектронной аппаратуры и изделий электротехнического назначения

Изобретение относится к нефтедобывающей промышленности

Изобретение относится к получению составов для мастик, используемых для герметизации швов и устройства гидроизоляционных покрытий

Изобретение относится к полимерным составам (замазкам) для склеивания и отделки узлов протеза при его сборке

Изобретение относится к получению полимерных составов (замазок), которые могут быть использованы для заделки мелких и крупных дефектов гильз при подгонке по культе инвалидов, склеивания и герметизации узлов при сборке и ремонте протезов
Наверх