Устройство для нанесения покрытий в вакууме

 

Изобретение может быть использовано для экономического нанесения покрытия на вертикально установленные кварцевые резонаторы и другие элементы электронной техники. Цель изобретения - снижение расхода испаряемого материала и упрощение конструкции. Устройство содержит подлож кодержатель 9 и испаритель, выполненный в виде нагревателя 7 и расположенных по одной оси трубопроводов 1 и 2, один из которых расположен в нагревателе 7, а другой - напротив подложкодержателя 9, и позиции 8 для испаряемого материала. Выполнение трубопроводов 1 и 2 с сужениями йа концах, причем трубопровод 2 охватывает конец трубопровода 1, а позиция 8 для испаряемого материала размещена в трубопроводе 2, закрытом крышкой 3, позволяет проводить нанесение на вертикально расположенные подложки и снизить количество деталей испарителя. 1 ил. W fe

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК. (я)5 С 23 С 14/24

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4434256/21 (22) 03.05.88 (46) 23.09.91. Бюл. ¹ 35 (71) Киевский политехнический институт им. 50-летия Великой Октябрьской социалистической революции (72) Г.Т.Левченко и А.Н.Радзиковский (53) 621.793.14 (088.8) (56) Патент CLllA ¹ 4700660, кл. С 23 С 14/24, 1987. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ (57) Изобретение может быть использовано для экономического нанесения покрытия на вертикально установленные кварцевые резонаторы и другие элементы электронной

„„!Ж„, 1678899 А1

I техники. Цель изобретения — снижение расхода испаряемого материала и упрощение конструкции. Устройство содержит подложкодержатель 9 и испаритель, выполненный в виде нагревателя 7 и расположенных по одной оси трубопроводов 1 и 2, один из которых расположен в нагревателе 7, а другой — напротив подложкодержателя 9, и позиции 8 для испаряемого материала.

Выполнение трубопроводов 1 и 2 с сужениями йа концах, причем трубопровод 2 охватывает конец трубопровода 1, а позиция 8 для испаряемого материала размещена в трубопроводе 2, закрытом крышкой 3, позволяет проводить нанесение на вертикально расположенные подложки и снизить количество деталей испарителя, 1 ил.

1678899

20 Формула изобретения

Составитель И.Фишель

Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор С.Шевкун

Редактор Н.Гунько

Заказ 3186 Тираж 558 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул,Гагарина, 101

Изобретение относится к технике нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для изготовления изделий радиотехники, оптики и электронной техники, в частности, для напыления электродов на кварцевые резонаторы.

Цель изобретения — снижение расхода испаряемого материала при нанесении покрытий на вертикально расположенные подложкодержатели и упрощение конструкции.

На чертеже изображено устройство, общий вид.

Устройство содержит трубопроводы 1 и

2 и крышку 3, установленные последовательно и поддерживаемые штифтом 4 и пружиной 5, закрепленные на кронштейне 6.

Трубопровод 2 окружен нагревателем 7, в нем также размещена позиция 8 для испаряемого материала. Подложкодержатель 9 расположен напротив выходного отверстия трубопровода 1.

Трубопроводы 1 и 2 и крышка 3 могут быть также соединены на резьбе или за счет сужений на концах.

Устройство работает следующим образом.

После откачки до рабочего вакуума включают нагреватель 7 и нагревают трубопровод 2 с позицией 8 до температуры испарения. Поток испаренного материала проходит через отверстия в трубопроводах

1 и 2 и попадает на подложкодержатель 9, формируя на ней пленку. Часть потока, не попадающего на подложкодержатель 9, осаждается на трубопроводе 1, имеющем более низкую по сравнению с трубопроводом 2 температуру.

После окончания цикла напыления меняют подложкодержатель, трубопроводы 1 и 2 также меняют местами, При этом трубопровод 2, находящийся в нагревателе 7, догружают напыляемым материалом и проводят следующий цикл напыления.

5 Осевший в предыдущем цикле напыления на трубопроводе 1 материал используется в следующем цикле вместе с вновь догружаемым материалом.

Предлагаемое устройство для напыле10 ния пленок по сравнению с с известным проще в изготовлении, состоит из меньшего количества деталей, не требует корректировки режима в процессе эксплуатации.

Кроме того, устройство позволяет вести на15 пыление на вертикально расположенные подложки и может быть использовано для подстройки резонаторов в промышленных вакуумных установках.

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее подложкодержатель и испаритель, выполненный в виде нагревате25 ля и расположенных по одной оси двух трубопроводов, один из которых расположен в нагревателе, а второй — напротив подложкодержателя, и позиций для испаряемого материала, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с

30 целью снижения расхода испаряемого, материала при нанесении покрытий на вертикально расположенные подложкодержатели и упрощения конструкции, трубопроводы выполнены с сужениями на концах, 35 причем трубопровод со стороны подложкодержателя охватывает конец другого, а позиция для испаряемого материала размещена в трубопроводе, расположенном в нагревателе, при этом указанный тру40 бопровод снабжен крышкой.

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Устройство для нанесения покрытий в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано для осаждения пленок при изготовлении приборов микроэлектроники, оптических покрытий, элементов интегральной оптики

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в тонкопленочной технологии
Изобретение относится к нанесению тонкопленочных покрытий в вакууме, в частности защитных, износостойких и декоративных покрытий на изделия из различных материалов

Изобретение относится к машиностроению, в частности к нанесению покрытий в вакууме, и может быть использовано при нанесении покрытий на режущий инструмент, изготовленный из сталей, твердых сплавов и керамических материалов

Изобретение относится к микроэлектронике и направлено на обеспечение минимальной неравномерности покрытия подложки тонкой пленкой распыляемого материала

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом ультрадисперсных порошков и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия

Изобретение относится к области получения высокотемпературных материалов, используемых для защиты от окисления и газовой коррозии и в качестве защитных покрытий термонагруженных деталей газовых турбин и двигателей внутреннего сгорания

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано для получения толстых пленок металлов при изготовлении, например, разводки коммутационных плат

Изобретение относится к материаловедению, а именно к способам изготовления преимущественно износостойких, прочных и жаропрочных материалов на металлической, металлокерамической или полимерной основе, а также изделий из этих материалов

Изобретение относится к полупроводниковой области техники и может быть использовано в молекулярно-лучевой эпитаксии для снижения плотности дефектов в эпитаксиальных структурах

Изобретение относится к устройствам взрывного испарения с резистивным нагревом для испарения металлов
Наверх