Способ измерения m-параметра p-n-перехода в полупроводниках

 

1. Способ измерения m-параметра p-n-перехода в полупроводниках, включающий измерение амплитуды переменного напряжения Um1, обусловленного протекания через p-n-переход переменной составляющей тока Im1 с частотой 1 и постоянной составляющей I0, соотношение между которыми A1 = (Im1/I0) поддерживают постоянным, и определение m-параметра расчетным путем по величине амплитуды измеренного напряжения, отличающийся тем, что, с целью повышения точности и расширения диапазона определения m-параметра полупроводниковых приборов по постоянному току, повторяют вышеуказанные операции при предварительно установленных частоте переменной составляющей тока, равной, 1/, и амплитуде переменной составляющей тока Im1, вычисляемой из соотношения A11/2= (Im/Io), которое поддерживают постоянным в процессе повторного измерения, измеряют амплитуду переменного напряжения Um2 на образце и определяют значение последовательного омического сопротивления R и m-параметра по формулам R= (Um1-2Um2)/Im1 m = 2Um2q/(A22kT), где q - заряд электрона; k - постоянная Больцмана; T - абсолютная температура.

A2= A11/2. 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что при повторном измерении амплитуды переменного напряжения на образце устанавливают величину тока через исследуемый p-n-переход равной сумме двух гармонических сигналов и постоянной составляющей I = Im2(cos21t+cos22t)+Io, причем 21-22= 1, где 21, 22 - частоты гармонических сигналов, составляющих величину тока.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полупроводниковой технике и фотоэлектронике и может быть использовано, для контроля параметров полупроводников

Изобретение относится к способам диагностики полупроводниковых приборов в процессе их изготовления

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для измерения параметров полупроводниковых кристаллов и приборных структур на их основе

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано при - контроле технологических процессов в полупроводниковом приборостроении

Изобретение относится к полупроводниковому производству и может быть использовано в контрольно-измерительном оборудовании для контроля параметров подключаемых интегральных микросхем

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может быть использовано в производстве полупроводниковых приборов для разбраковки структур по номенклатурным группам

Изобретение относится к неразрушающему контролю параметров полупроводников и может быть использовано для определения однородности и качества материалов

Изобретение относится к неразрушающему контролю качества полупроводниковых приборов (ПП) и интегральных микросхем (ИМС) и может-быть использовано для отбраковки ПП и ИМС со скрытыми дефектами

Изобретение относится к способам диагностики полупроводниковых приборов в процессе их изготовления

Изобретение относится к неразрушающему контролю параметров полупроводников и может быть использовано для определения однородности и качества материалов

Изобретение относится к электронной технике, в частности к устройству для испытания в генераторном режиме электровакуумных и полупроводниковых приборов

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при испытаниях транзисторов Дарлингтона

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при контроле и измерении параметров силовых транзисторов, в частности при испытаниях на устойчивость к вторичному пробою

Изобретение относится к области электронной техники, в частности к средствам контроля изделий на устойчивость к электроперегрузкам

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для быстрого контроля исправности транзисторов, Цель изобретения - повышение достоверности контроля

Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники и может найти применение в электронной технике для измерения напряжений на диэлектрике и полупроводнике, а также их временного изменения в МДПДМ-структурах
Наверх