Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции

 

Изобретение относится к фотополимеризующимся защитным покрытиям в полиграфической , радиотехнической, приборостроительной , целлюлозно-бумажной промышленности . Цель изобретения - повышение светочувствительности фотополимеризующейся композиции (ФПК) для создания лакового покрытия печатной продукции. В состав ФПК входят следующие компоненты, мае. %: (мет)акриловый мономер, например, триэтиленгликольдиметакрилат или полиэтиленгликольдиметакрилат, или лентаэритриттетраакрилат 10-20; диметиламиноэтилметакрилат 6-10; 4-фенилбензофенон 1,5-2,5; 2,2-диметоксидифенилацетофенон 2-3; олигоуретанметакрилат (ОУА-2000Т) 80,5-64,5. Олигоуретанметакрилат марки ОУА-2000Т, получаемый на основе монометакрилового эфира этиленгликоля, 2,4-толуилендиизоцианата и оксипропиленгликоля, имеет мол. м. 2550-2600. Указанный состав позволяет повысить светочувствительность ФПК в 2 раза: время отверждения (с помощью лампы ДРТ-400 на расстоянии 20 мм) слоя ФПК, нанесенного толщиной 10 мкм на печатные оттиски, равно 15-21 с, в то время как для прототипа это время равно 43 с. 1 табл, сл с N к 00 00 4 СЛ

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 G 03 F 7/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ. (21) 4777340/04 (22) 02.01,90 (46) 23.04.92. Бюл. М 15 (71) Украинский полиграфический институт им.Ив.Федорова (72) И.З.Миклушка, P.È,Ìåðâèíñêèé, З.Г.Токарчик и B.М. Гранчак (53) 771,5(088,8) (56) Волчек В.Л. Отделка полиграфической продукции. — М,: Книга, 1988, с.80

Заявка Японии N. 60-18557, кл, В 41 М 7/02.

Заявка Японии N 55 — 41917, кл. B 41 М 7/00.

Заявка Японии N. 60-20200, кл. В 41 М 7/02.

Авторское свидетельство СССР

N. 11557777555566, кл. G 03 С 1/68.

Берлин А.А, и др, Акриловые олигомеры и материалы на их основе. — М.: Химия, 1983, с, 232. (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ ЖИДКАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ПОКРЫТИЯ ПЕЧАТНОЙ ПРОДУКЦИИ (57) Изобретение относится к фотополимеризующимся защитным покрытиям в полиИзобретение относится к жидким фотополимеризующимся покрытиям для облагораживания и защиты печатных оттисков и может быть использовано в полиграфической, радиотехнической, приборостроительной и целлюлозно-бумажной промышленностях.

Для облагораживания полиграфической продукции применяют жидкие лаки, состав Ы, 1728845 А1 графической, радиотехнической, приборостроительной, целлюлозно-бумажной промышленности. Цель изобретения повышение светочувствительности фотополимеризующейся композиции (ФП К) для создания лакового покрытия печатной продукции. В состав ФПК входят следую,щие компоненты, мас. : (мет)акриловый мо номер, на пример, триэтилен гликольдиметакрилат или полиэтиленгликольдиметакрилат, или пентаэритриттетраакрилат

10 — 20; диметиламиноэтилметакрилат 6 — 10;

4-фенилбензофенон 1,5-2;5; 2,2-диметоксидифенилацетофенон 2-3; олигоуретанмета к р ил а т (О УА-2000Т) 80,5 — 64,5.

Олигоуретанметакрилат марки ОУА-2000Т, получаемый на основе монометакрилового эфира этиленгликоля, 2,4-толуилендиизоцианата и оксипропиленгликоля, имеет мол. м, 2550-2600, Указанный состав позволяет повысить светочувствительность ФПК в 2 раза: время отверждения (с помощью лампы

ДРТ-400 на расстоянии 20 мм) слоя ФПК, нанесенного толщиной 10 мкм на печатные

1 евеаВ оттиски, равно l5 — 21 с, в то время как для прототипа это время равно 43 с. 1 табл, М 00 (л

1 которых содержит пленкообразующие вещества на основе натуральных и синтетических смол, растворитель и различные модифицирующие добавки.

К недостаткам этих лаков следует отнести наличие в составе токсичных растворителей, низкую адгезию к печатному оттиску, изменение цветовых характеристик красочного слоя, большое время сушки, 1728845

2 — 3

80,5

В качестве декоративных покрытий печатной продукции применяются также композиции, отверждаемые фотохимическим способом.

Известна фотополимеризующаяся композиция для покрытия печатной продукции на основе водной дисперсии полимера, полученного полимеризацией этиленового соединения в воде, этиленненасыщенного мономера и фотосенсибилизатора. Покрытия из этой композиции являются невлагостойкими и обладают низкой адгезией к красочному слою печатного оттиска.

Известна фотополимеризующаяся композиция для покрытия поверхности запечатанного материала, содержащая 5-20 гликоля, глицерина, высших спиртов C>o—

Ceo или их смесь, Однако в процессе старения ухудшаются декоративные свойства покрытия, что ограничивает область применения композиции.

Известна фотополимеризующаяся композиция для покрытия печатных оттисков, состоящая из форполимера с этиленовыми ненасыщенными двойными связями, акрилового или аллилового мономера и фотосенсибилизатора с добавлением 0,5 — 10 жидких масел или кислот. B качестве фотоинициатора используется этиловый, бутиловый эфиры бензоина или бензофенон.

Недостатком этой композиции является большое содержание фотоинициирующей системы (10 — 15 мас. ), что неблагоприятно сказывается на декоративных свойствах покрытия и ухудшает адгезию к печатному оттиску. Для устранения этих недостатков в композицию вводят 0,5 — 10 жирного масла или жирной кислоты, а это снижает светочувствительность композиции и увеличивает время отверждения покрытия.

Наиболее близкой к предлагаемой композиции является фотополимеризующаяся композиция, включающая метакрилдизтил ен гли кол ьфталат (МДФ-2), триа к рилат пентаэритрит (ПЭТА), диалкиламиноэтилметакрилат (ДМАЭМ), а в качестве фотоинициатора — 4-фенилбензофенон, Недостатком этой композиции является низкая светочувствительность, что не обеспечивает высокой скорости отверждения покрытия.

Цель изобретения — повышение светочувствительности композиции для создания лакового покрытия печатной продукции.

Поставленная цель достигается тем, что композиция, включающая олигоуретанметакрилат, (мет)акриловые мономеры и фотоинициирующую смесь, в качестве олигомера содержит олигоуретанметакрилат марки

ОУА-2000Т, получаемый на основе монометакрилового эфира этиленгликоля, 2,4-толуилендиизоцианата и олигооксипропиленгликоля, структурная формула которого

СН3

5 ННСОО(СН СН О)„СОНН

СН =С-СОО(СН.1 ОСОНН., СН СН, CH =C -COO(CH2I 0C0ЙН

3 с мол.м. 2550 — 2600, в качестве мономеров содержит диэтиламиноэтилметакрилат и

10 триэтиленгликольдиметакрилат или полиэтиленгликольдиметакрилат или пентаэритриттетраакрилат, в качестве фотоинициатора— смесь 4-фенилбензофенона и 2,2-диметоксидифенилацетофенона при следующем со15 держании компонентов, мас. :

Триэтиленгли кол ьдиметакрилат (ТГМ-3) или полиэтиленгликольдиметакрилат (ТГМ-13) или

20 пентаэритриттетраакрилат (ПЭТА) 10 — 20

Диметиламиноэтилметакрилат (ДМАЭ М) 6 — 10

4-Фенилбензофенон (Ф БФ) 1,5 — 2,5

25 2,2-Диметоксидифенилацетофенон (К)

Олигоуретанметакрилат (ОУА-2000Т) 80,5 — 64,5

Пример (известный). Приготавливают

30 светочувствительную композицию следующего состава, мас, :

Метакрилдиэтиленгликольфталат (МДФ-2) 63

Пентаэритриттриакрилат (ПЭТА) 20

35 Диметиламиноэтилметакрилат (ДМАЭ М) 15

4-Фенилбензофенон 2

Композицию после тщательного перемешивания равномерно наносят толщиной

40 10 мкм ракельным устройством на оттиски, отпечатанные масляной типографской краской на мелованной бумаге. Покрытия отверждают излучением ртутно-кварцевой лампы высокого давления типа ДРТ-400, нахо45 дящейся на расстоянии 20 мм до облучаемой поверхности. Мерой светочувствительности композиции принимают время облучения, при котором поверхностный слой покрытия отверждается до устранения липкости.

50 Пример 1. Приготавливают светочувствительную композицию следующего состава, мас, .

Триэтилен гликольдиметакрилат (ТГМ-3)

55 Диметиламиноэтилметакрилат (ДМАЭ М) 6

4-Фенилбензофенон (Ф БФ) 1,5

2,2-Диметоксидифенилацетофенон (К) 2

Олигоуретан мета крилат (ОУА - 2000Т) 1728845

Последующие примеры представлены в таблице.

Составитель А.Круглов

Техред М,Моргентал

Редактор И.Горная

Корректор М.Демчик

Заказ 1408 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб„4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина. 101

Приготовление композиции, нанесение 5 и отверждение покрытия проводят аналогично известному примеру.

Как видно из таблицы, покрытия, полученные из предлагаемой фотоинициирую- 10 щей композиции, отверждаются при меньшем времени облучения ртутно-кварцевой лампой высокого давления, Повышение светочувствительности композиции в

2 — 3 раза увеличивает производительность 15 труда, уменьшает энергозатраты при.отверждении покрытия, улучшает качество отделки печатных оттисков.

Формула изобретения

Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции, включающая ненасыщенный метакриловый оли гомер — олигоуретанметакрилат, (мет)акриловый мономер — диметиламиноэтилметакрилат и фотоинициатор -4-фенилбензофенон, отличающаяся тем, что, с целью повышения светочувствительности композиции, она дополнительно содержит 2,2-диметоксидифенилацетофенон при следующем соотношении компонентов, мас. .; (Мет)акриловый мономер 10-20

Диметиламиноэтилметакрилат 6 — 10

4-Фенилбензофенон 1,5 — 2,5

2,2-Диметоксидифен илацетофенон 2 — 3

Олигоуретанметакрилат Остальное

Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции Фотополимеризующаяся жидкая композиция для покрытия печатной продукции 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к полиграфической промышленности и позволяет улучшить качество поверхности печатающих элементов фотополимерной печатной формы

Изобретение относится к полиграфической промышленности, используется для изготовления цилиндрических фотополимерных форм глубокой печати и позволяет повысить качество форм

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к электротехнике и технологии изготовления прецизионных индуктивных элементов со сложной конфигурацией

Изобретение относится к способу изготовления мелкорельефных фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции
Изобретение относится к технологии микроэлектроники

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано при создании устройств на основе сверхпроводящих материалов

Изобретение относится к способам изготовления рельефных фотополимерных печатных форм

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх