Способ отделения анодноокисного покрытия

 

Использование: при удалении дефектных покрытий и изучении свойств пленок. Сущность изобретения: деталь помещают в щелочной раствор и ведут катодную обработку наложением пульсирующего напряжения 100-300 В частотой 20-2000 Гц. 1 табл.

СОЮЭ СОВЕТСКИХ сОциАлистических

РЕСПУБЛИК (я)ю С 25 D 11/18

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

С?

«4

О

О о

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 4876192/26 (22) 20.07,90 (46) 07,04,93. Бюл. М 13 (75) В.H.Ìàëûøåâ и Н.В.Малышева (56) Ярошинский И.С. и др. Метод отделения анодной пленки от поверхности алюминие- . вого сплава. Физико-химическая механика материалов, 1972, т. 8, hL 22, с. 112-114, Авторское свидетельство СССР

t4 1244213, кл. С 25 0 11/18, 1983.

Изобретение относится к электрохимической обработке металлов со сформированным на них покрытием преимущественно методом микродугового оксидирования и может найти применение при удалении дефектных покрытий с целью их повторной обработки методом МДО, а также в научных исследованиях структуры, фазового и элементного состава формируе- . мых покрытий.

Цель изобретения — увеличение сплошности и интенсификации процесса отделения покрытия.

Укаэанная цель достигается тем, что, в отличие от известного способа, включающего катодную обработку s электролите оксидирования, последнюю ведут при наложении пульсирующего напряжения

100-300 В частотой 50-2000 Гц.

Указанные пределы напряжения катодной поляризации 100-300 В обеспечивают отделение МДО-пленки покрытия сплошным м слоем. П ри выходе эа эти пределы пленка начинает отделяться частями, что затрудняет процесс снятия покрытия с поверхности детали.

Наложение импульсов катодной поляризации в пределах частотного диапазона.3Ц, 1807096 А1

2 (54) СПОСОБ ОТДЕЛЕНИЯ АНОДНО-ОКИСНОГО ПОКРЫТИЯ (57) Использование: при удалении дефект- йых покрытий и изучении свойств пленок.

Сущность изобретения; деталь помещают в щелочной раствор и ведут катодную обработку наложением пульсирующего напряжения 100-300 В частотой 20-2000 Гц,.1 табл.

50-2000 Гц позволяет интенсифицировать процесс путем использования явления резонанса частот импульсов напряжения и собственных частот оксидируемого основного металла материала детали, Величина резонансной частоты зависит от атомной массы металла, efo валентности и имеет значение, например, для алюминия трехвалентного—

1179 Гц, титана четырехвалентного — 497 Г ц, двухвалентного — 995 Гц; железа двухвалентного, — 865 Гц, трехвалентного — 568 Гц; меди двухвалентной — 759 Гц; магния двухвалентного — 1990 Гц; циркония четырехвалентного — 262 Гц; тантала пятивалентного—

105 Гц и т.д.

При ведении процесса отделения пленки по предложенному способу на частоте близкой к резонансной, для данного металла основы, интенсивность процесса увеличивается в 2-3 раза, Изобретение может быть проиллюстрировано примерами, представленными в таблице.

Предлагаемый способ осуществляют на импульсном источнике питания позволяющем изменять частоту следования импульсов в диапазоне 10-2000 Гц, 1807096

Характеристики отделяемых покрытий оценивали по известным методикам. Толщину пленки.измеряли на микроскопе МБС9 с точностью " 5 мкм. Сплошность отделения покрытия определяли в ф, по отношению к очищенной поверхности образцов. Пористость отделенной пленки определяли под микроскопом путем подсчета количества сквозных пор на 1 см . Шеро2 ховатость металла образцов исходную и после отделения покрытия определяли профилографом-профилометром модели

201.

Таким образом, предлагаемый способ отделения покрытий позволяет снимать де.фектные пленки с сохранением исходной

Пример выполнения

Г (Г"

Параметры

5 (6 Прототип

4 3

10 4

1а

10 3

Гексаметафосфат натрия (Набрба Ьв)

Плотность тока, А/дмз

6 10.

1

3

25

5 5

30 35

15 анодная катодная

Температура электролита, С

35 ЭО

60 40

130 85 днг-б Вт-3

Время формирования покрытия, мин

45 Эа

95 65

AO Нйг

30

18 I 70

Д16Т

90

Толщина покрытия, мкм

Иатериал образца

Основной материал фтат

Д16Т

Al; ИВ

;. Al

41 т

Та

2. Режим проведения отделения покрытий:

Тот же самым электролит оксидирования

1Оь-ный р-р Н

50 (постоянное) Электролит

200 250

50 500

1179 497

30 lo

300

100

Катодное напряжение,В

150

100

Ггоа

1200 2000

Частота импульсде, Гц

100

105 1179

1179 1179

1990

Резонансная частота основного металла, Гц

Время катодной обработки, мин!

20

3. Характеристики отделяемой пленки:

Толщина пленки после отде-, ления мкм

150 80

120 80

Не отделяется

Сплошность отделения плен.ки,Ф

85 90

6 21

Пористость, пор/смз

Шерховатость поверхности металла, мкм

8,40 К,га r 40 R 40 R 30 R 20 R 40

В 40 Rz30 Г,40 К 40 Rz40 R 20 исходная после отделения

1. Состав электролита микродугового оксидирования,г/л:

Гидроокись калия (КОН) жидкое стекло (МазЫ019НзО)

Алшминат натрия (NaA10<) поверхности детали и значительно интенсифицирует процесс при наложении пульсирующего напряжения в частотном диапазоне, близком к резонансной частоте обрабатываемого материала.

Ф ор мул а и зоб рете н ил

Способ отделения анодно-окисного покрытия, преимущественно полученного микродуговым оксидированием, включаю"0 щий катодную обработку в электролите ot<сидирования, о тл и ч а ю шийся тем, что, с целью увеличения сплошности и интенсификации процесса отделения, катодную обработку ведут и ри наложении

"5 пульсирующего напряжения 100-300 В частотой 50-2000 Гц,