Электродуговой плазмотрон



Электродуговой плазмотрон
Электродуговой плазмотрон
Электродуговой плазмотрон
H05H1/26 - Плазменная техника (термоядерные реакторы G21B; ионно-лучевые трубки H01J 27/00; магнитогидродинамические генераторы H02K 44/08; получение рентгеновского излучения с формированием плазмы H05G 2/00); получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов (получение нейтронов от радиоактивных источников G21, например G21B,G21C, G21G); получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов (атомные часы G04F 5/14; устройства со стимулированным излучением H01S; регулирование частоты путем сравнения с эталонной частотой, определяемой энергетическими уровнями молекул, атомов или субатомных частиц H03L 7/26)

Владельцы патента RU 2614533:

Публичное акционерное общество "Электромеханика" (RU)

Изобретение относится к области плазменной техники. Предложен электродуговой плазмотрон. Электродуговой плазмотрон содержит корпус, в котором соосно установлены анод, катод и изоляционная втулка с отверстиями. Проточная часть анода выполнена в виде канала переменного поперечного сечения, образованного тремя соосными цилиндрами, которые сопряжены между собой усеченными конусами. Конусы обращены своими верхними основаниями к центральному цилиндру. Катод представляет собой медную водоохлаждаемую обойму с тугоплавкой вставкой и имеет на конце форму усеченного конуса. Отверстия в изоляционной втулке располагаются в несколько рядов, каждый из которых содержит не менее шести отверстий, распределенных равномерно по окружности. Отверстия располагаются так, что их оси скрещиваются с продольной осью плазмотрона. Техническим результатом является увеличение рабочего тока плазмотрона до 2000А, повышение производительности процесса распыления, повышенный ресурс работы электродов и возможность получения плазменных струй с различной формой и температурой. 2 ил., 2 пр.

 

Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к электродуговым плазмотронам, и может быть использовано в технологических процессах плавки и обработки металлов и сплавов, в частности для получения металлических порошков и гранул методом центробежного распыления, и в других областях промышленности, где применяется низкотемпературная плазма.

Среди способов получения металлических порошков известны методы центробежного распыления, реализуемые на установках типа УЦР (RU 2549797 C1, 27.04.2015; RU 2356696 C1, 27.05.2009). В составе таких установок для оплавления торца вращающейся металлической заготовки применяются в основном плазмотроны постоянного тока, к конструкции которых предъявляются особые требования.

Наиболее близким к заявляемому по технической сущности и достигаемому результату является плазмотрон ПСМ-100 (RU №2350052 C1, 20.03.2009), содержащий корпус, вольфрамовый катод и соединенное с корпусом сопло-анод с выходным каналом. Выходной канал сопла-анода выполнен коническим, расширяющимся к выходу, при этом сопло-анод в зоне выходного канала выполнено биметаллическим в виде соединенных между собой медной стенки и молибденового экрана.

Указанный плазмотрон имеет ряд недостатков. Стабильная работа плазмотрона возможна в достаточно узком диапазоне силы тока: приблизительно от 800 до 1200 А. При токах дуги выше 1200 А анод плазмотрона подвергается интенсивной эрозии с вероятностью местного отслоения молибденового экрана от медного корпуса, что ограничивает технологические возможности плазмотрона, особенно в процессах центробежного распыления тугоплавких и жаропрочных сплавов, таких как сплавы молибдена или вольфрама или жаропрочные никелевые сплавы, распыление которых при малых мощностях плазмотрона не эффективно из-за крайне низкой производительности процесса. Катод плазмотрона выполнен в виде вольфрамового стержня, соединенного с охлаждаемым корпусом через цанговый зажим. Стержень установлен консольно и имеет достаточно большой вылет, в связи с чем возникают дополнительные сложности в обеспечении соосности электродов при изготовлении и сборке плазмотрона. В то же время несоосность электродов существенно сокращает ресурс их работы. Основной теплосъем с поверхности катода происходит через контактную поверхность цангового зажима и за счет конвективного теплообмена с потоком плазмообразующего газа. Такой теплоотвод является малоэффективным, в следствие чего для работы на токах более 1200 А требуется применение вольфрамовых стержней диаметром порядка 12-14 мм. Из-за неизбежной эрозии катода и уноса материала с потоком плазмообразующего газа длина стержня постепенно уменьшается, и при достижении некоторой длины остаток стержня становится непригодным для дальнейшего использования из-за невозможности его надежного закрепления, что ведет к нерациональному использованию материала катода.

Задачами, на решение которых направлено предлагаемое изобретение, являются: повышение производительности процесса центробежного распыления металлических заготовок, увеличение ресурса работы электродов плазмотрона и возможность получения плазменных струй с различной формой и температурой.

Поставленные задачи достигаются тем, что применяется плазмотрон, имеющий корпус, в котором соосно установлены изолированные друг от друга водоохлаждаемые электроды - анод и катод, между которыми располагается узел ввода плазмообразующего газа, отличающийся тем, что проточная часть анода выполнена в виде канала переменного поперечного сечения, образованного тремя соосными цилиндрами, которые сопряжены между собой усеченными конусами с углами при вершинах α=30…60° и β=30…60°, конусы обращены своими верхними основаниями к центральному цилиндру с диаметром d, диаметр выходного цилиндра D=(1,35…1,5)d, его длина L≥0,02D2; катод представляет собой медную водоохлаждаемую обойму с тугоплавкой вставкой и имеет на конце форму усеченного конуса, который располагается в конусном сужении канала анода; угол при вершине конуса катода γ=70…90°; узел ввода плазмообразующего газа представляет собой изоляционную втулку с внутренним диаметром dв, вдоль оси которой располагаются ряды отверстий, каждый ряд содержит не менее шести отверстий, распределенных равномерно по окружности, при этом отверстия в рядах располагаются так, что их оси скрещиваются с продольной осью плазмотрона под углом δ=20-90°, а расстояние между осями отверстий и продольной осью плазмотрона 0≤r≤dв/2.

Вследствие газодинамических и тепловых процессов, происходящих внутри канала анода указанной геометрии, замыкание анодного пятна дуги происходит преимущественно на поверхности выходного цилиндра анода во всем рабочем диапазоне токов. При этом под действием газодинамических и электромагнитных сил анодное пятно дуги непрерывно перемещается по поверхности выходного цилиндра. Этот участок имеет сравнительно большую площадь поверхности, по которой происходит распределение тепла, выделяющегося в анодном пятне дуги, чем достигается высокая стойкость анода при токах до 2000 А.

После возбуждения дуги в межэлектродном зазоре дуговой шнур вытягивается вдоль канала анода и удерживается на его оси потоком плазмообразующего газа. Поток холодного плазмообразующего газа проходит через межэлектродный зазор и движется вдоль центрального цилиндра анода, предотвращая замыкание дуги на его стенку. Движущийся вдоль по каналу газ прогревается, расширяется, и замыкание дуги происходит на выходном цилиндре. Такой характер горения дуги обеспечивает стабильность ее средней длины, равномерный прогрев плазмообразующего газа по оси и по периферии канала и равномерное распределение температуры по сечению плазменной струи во всем рабочем диапазоне. При этом дуга имеет слабовыраженную восходящую вольт-амперную характеристику.

Катодное пятно дуги удерживается потоком газа на торце тугоплавкой вставки катода. Тепло, выделяющееся в катодном пятне, отводится от тугоплавкой вставки в медную обойму катода, которая непрерывно охлаждается проточной водой. Такая конструкция обеспечивает длительную работу плазмотрона на токах до 2000 А.

Расположение отверстий в изоляционной втулке в несколько рядов способствует более равномерному распределению давления газа по сечению канала анода, по сравнению с однорядным расположением отверстий, что предотвращает одностороннее замыкание дуги на поверхность анода, в результате чего увеличивается ресурс работы электродов и равномерность прогрева газа.

Выполнение катода в форме усеченного конуса дает возможность применять как вихревую, так и аксиальную стабилизацию дуги и их комбинации и получать соответственно короткие расходящиеся или длинные остронаправленные плазменные струи.

Наиболее короткие и широкие плазменные струи реализуются применением изоляционных втулок с тангенциально расположенными отверстиями (δ=90°, r=dв/2). Наиболее вытянутые и узкие струи получаются при δ=20-30°, r=0.

Параметры плазменной струи зависят также от геометрических размеров анода, в особенности от значения диаметра D и длины L выходного цилиндра. При увеличении диаметра D длина плазменной струи уменьшается, а ее диаметр увеличивается; увеличение длины L уменьшает среднемассовую температуру плазменной струи, в то же время струя становится более сконцентрированной, с меньшим углом расхождения.

Изменение геометрических размеров не влияет на стабильность работы и стойкость электродов, если выполнены указанные ранее условия: D=(1,35…1,5)d, α=30…60°, β=30…60°, L≥0,02D2, γ=70…90°, δ=20-90°, 0≤r≤dв/2.

Технический результат изобретения заключается в увеличении рабочего тока плазмотрона до 2000 А, что значительно повышает производительность процесса центробежного распыления металлических заготовок, а также в увеличении ресурса работы электродов плазмотрона в среднем до 150 ч и в возможности получения плазменных струй с различной формой и температурой.

Изобретение поясняется чертежами. На фиг. 1 представлен разрез рабочей части плазмотрона, на фиг. 2 показан вариант исполнения изоляционной втулки с двумя рядами тангенциально расположенных отверстий (δ=90°, r=dв/2).

Плазмотрон содержит охлаждаемый корпус 1 (фиг. 1) с рубашками охлаждения 2 и 3, анод 4, накидную гайку 5, обтекатель 6, катод 7, катододержатель 8 с трубкой 9, изоляционную втулку 10 (фиг. 1, фиг. 2), уплотнительные кольца 11, 12 и 13.

Анод 4 устанавливается в посадочное отверстие корпуса 1 и прижимается к корпусу с помощью накидной гайки 5, герметичность соединения обеспечивается уплотнительными кольцами 11 и 12. Обтекатель 6 служит для образования рубашки охлаждения 14 на внутренней стенке анода 4. Во внутренней части корпуса 1 имеется канавка 15, через которую плазмообразующий газ поступает в отверстия изоляционной втулки 10. Катод 7, герметично соединен с катододержателем 8 и установлен соосно с анодом 4; герметичность обеспечивается уплотнительным кольцом 13. Для подачи охлаждающей воды на обойму катода 7 служит трубка 9.

Плазмотрон работает следующим образом.

Включается подача охлаждающей воды на анод 4 и катод 7. Через рубашку охлаждения 2 корпуса 1 вода поступает в рубашку охлаждения 14 анода 4 и отводится обратно через рубашку охлаждения 3 корпуса 1. Через трубку 9 вода поступает на внутреннюю стенку обоймы катода 7 и отводится обратно через полость 16 в катододержателе 8.

Включается подача плазмообразующего газа. Газ поступает в канавку 15 корпуса 1, откуда попадает в отверстия изоляционной втулки 10 и затем в электродуговую камеру 17, образованную пространством между катодом 7 и анодом 4. Газ движется непрерывно вдоль по каналу анода 4.

На электроды - анод 4 и катод 7 - подается напряжение от источника питания (прямая полярность). С помощью осциллятора производится пробой промежутка между катодом 7 и анодом 4 (межэлектродный зазор), в результате чего образуется электропроводящий канал в среде плазмообразующего газа, и под действием приложенного напряжения возбуждается электрическая дуга. В потоке плазмообразующего газа дуга вытягивается вдоль канала анода 4 и удерживается на его оси. Катодное пятно дуги удерживается потоком газа на торце тугоплавкой вставки катода 7. Анодное пятно непрерывно перемещается по поверхности выходного цилиндра анода 4. Процесс горения дуги продолжается до тех пор, пока не будет прекращена подача напряжения на электроды. Проходящий через электрическую дугу газ прогревается и превращается в низкотемпературную плазму, выходящую из канала анода 4 в виде плазменной струи.

Испытания опытного образца проводились в составе установки центробежного распыления ГРАНУЛА 2500 на ПАО «Электромеханика» (г. Ржев).

Пример 1. В первом цикле испытаний проводилось распыление 10-и заготовок из жаропрочного никелевого сплава диаметром 80 мм, длиной 700 мм при непрерывной работе плазмотрона. Для испытаний был изготовлен анод с d=18 мм, D=26 мм, L=22 мм, α=52°, β=40°, катод с γ=90° и изоляционная втулка с dв=35 мм с двумя рядами по 6 тангенциально расположенных отверстий (δ=90°, r=dв/2). Ток дуги в процессе плавки был равен I=2000 А, напряжение U=70 В, скорость вращения заготовки n=24000 об/мин.

Пример 2. Второй цикл заключался в распылении 20-и заготовок из титана марки ВТ 1-0 диаметром 58 мм, длиной 700 мм. При испытании использовался анод с d=19 мм, D=28 мм, L=25 мм, α=52°, β=60°, катод с γ=90° и изоляционная втулка с dв=35 мм с двумя рядами по 8 отверстий при δ=45°, r=0. Ток на дуге I=1300 А, напряжение U=62 В, скорость вращения заготовки n=33000 об/мин.

Испытания показали стабильность работы плазмотрона на указанных режимах в течение всего цикла плавки и высокую производительность распыления: ~2 кг/мин для жаропрочного никелевого сплава при I=2000 А и ~0,9 кг/мин для титана при I=1300 А. При визуальном осмотре электродов следов эрозии на их рабочих поверхностях обнаружено не было.

Электродуговой плазмотрон, имеющий корпус, в котором соосно установлены изолированные друг от друга водоохлаждаемые электроды - анод и катод, между которыми располагается узел ввода плазмообразующего газа, отличающийся тем, что проточная часть анода выполнена в виде канала переменного поперечного сечения, образованного тремя соосными цилиндрами, которые сопряжены между собой усеченными конусами с углами при вершинах α=30…60° и β=30…60°, конусы обращены своими верхними основаниями к центральному цилиндру с диаметром d, диаметр выходного цилиндра D=(1,35…1,5)d, его длина L≥0,02D2; катод представляет собой медную водоохлаждаемую обойму с тугоплавкой вставкой и имеет на конце форму усеченного конуса, который располагается в конусном сужении канала анода; угол при вершине конуса катода γ=70…90°; узел ввода плазмообразующего газа представляет собой изоляционную втулку с внутренним диаметром dв, вдоль оси которой располагаются ряды отверстий, каждый ряд содержит не менее шести отверстий, распределенных равномерно по окружности, при этом отверстия в рядах располагаются так, что их оси скрещиваются с продольной осью плазмотрона под углом δ=20-90°, а расстояние между осями отверстий и продольной осью плазмотрона 0≤r≤dв/2.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области исследования физических свойств вещества, в частности к исследованию процессов в газоразрядных приборах и плазме. Между электродами при фиксированном расстоянии между ними подается напряжение, возникающий ток плавит и испаряет тонкую проволочку, которая размещается между электродами, расстояние от катода до анода выбирается таким, при котором разряд без проволочки самопроизвольно не возникает, а между электродами создаются условия для лавинного пробоя разрядного промежутка, возникающего при наличии в воздухе паров испаряющейся проволочки.

Изобретение относится к устройству для осуществления процесса плазменного химического осаждения из паровой фазы. Цилиндрический резонатор устройства плазменного химического осаждения стекломатериала из паровой фазы на внутреннюю поверхность подложки в виде трубки содержит наружную цилиндрическую стенку, выполненную с резонансной полостью, проходящей в периферийном направлении вокруг оси цилиндра, боковую стенку с частями, ограничивающими резонансную полость в направлении оси цилиндра, и щелевую структуру, расположенную в периферийном направлении вокруг оси цилиндра с обеспечением доступа микроволновой энергии из резонансной полости радиально внутрь упомянутой трубки.

Изобретение относится к области средств получения высоких динамических давлений и температур и может быть использовано для проведения химических реакций, изменения кристаллической структуры твердых тел при высоком давлении и температуре, в частности для получения искусственных алмазов (алмазного порошка), для сжатия DT-льда с целью получения нейтронного источника, для осуществления инерциального термоядерного синтеза.

Изобретение относится к области плазменной техники. Предложен электрод для использования в горелке для сварки плазменной дугой.

Изобретение относится к области получения плазм, представляет собой способ и устройство для получения плазмы, которые могут использоваться для обогрева, уничтожения любых типов отходов, газификации углеродсодержащих твердых и жидких материалов, для плавления и пайки металлических и неметаллических материалов.

Предлагаемое изобретение относится к области использования электроракетных двигательных установок в составе космического аппарата и предназначено для проведения испытаний ее на электромагнитную совместимость с информационными бортовыми системами, например на помехоустойчивость бортового вычислительного комплекса КА.

Предложен низкочастотный излучатель электромагнитной энергии. Он содержит трансформаторы с магнитопроводом, замыкающимся с помощью излучателей и вторичных обмоток трансформаторов.

Изобретение относится к области плазменной техники. Индукционный плазматрон содержит трубчатый корпус плазматрона, трубу для удержания плазмы, расположенную в трубчатом корпусе плазматрона соосно с ним, головную часть газораспределителя, расположенную на одном конце трубы для удержания плазмы и структурированную поставлять по меньшей мере одно газообразное вещество в трубу для удержания плазмы; индукционный связующий элемент для подачи энергии газообразному веществу для получения и поддержания плазмы в трубе для удержания плазмы, а также емкостный экран, включающий в себя пленку из проводящего материала, нанесенную на внешнюю поверхность трубы для удержания плазмы, или внутреннюю поверхность трубчатого корпуса плазматрона.

Система предназначена для управления струей плазмы. Система содержит генератор плазмы, камеру сжатия плазмы, имеющую наружную стенку, образующую внутреннюю полость камеры, и просвет, причем внутренняя полость камеры частично заполнена жидкой средой, причем выпускное отверстие генератора плазмы гидравлически соединено с внутренней полостью камеры сжатия через просвет, генератор волн давления, содержащий несколько поршней, расположенных вокруг камеры, причем поршни предназначены для создания направленной в жидкую среду сходящейся волны давления, средство образования полости для образования в жидкой среде удлиненной пустой полости, и устройство управления струей, содержащее средство для инжекции отклоняющего струю материала, сообщающееся с источником отклоняющего струю материала и имеющее выпускной конец, направленный в место образования струи в полости, причем средство для инжекции выполнено с возможностью инжекции отклоняющего струю материала в полость таким образом, чтобы струя текучей среды, образованная в месте образования струи, была прервана или отклонена в сторону от генератора плазмы.

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к способам и устройствам с излучающей плазмой, и может быть использовано для решения широкого круга технических задач, например при испытаниях приборов и материалов на устойчивость к облучению световым излучением, аналогичным излучению природных и техногенных факторов.

Изобретение относится к электрореактивным двигателям прямоточного типа (ПЭРД), в которых в качестве рабочего вещества используется газообразная окружающая среда. ПЭРД предназначен для управления движением низкоорбитального космического аппарата. ПЭРД содержит корпус (1) с прямоточным каналом в форме цилиндра. На входе в прямоточный канал установлено газозаборное устройство с каналами (2), ориентированными параллельно оси симметрии прямоточного канала. Выход каналов (2) сообщен с входной камерой (3). В выходном отверстии прямоточного канала расположена ионно-оптическая система (7), включающая эмиссионный электрод (8), ускоряющий электрод (9) и замедляющий электрод (10), подключенные к источникам электропитания (11, 12). В камере ионизации и ускорения ионов установлен индуктор (5) в форме спирали. Витки индуктора (5) расположены вдоль поверхности вращения, соосной прямоточному каналу. Площадь поперечного сечения поверхности вращения увеличивается в направлении от газозаборного устройства к электродам ионно-оптической системы (7). На внешнюю поверхность витков индуктора (5) нанесено проницаемое для электромагнитного поля диэлектрическое покрытие. Эмитируемые нейтрализатором (13) электроны поступают в ионный поток через диэлектрический транспортирующий канал (15). Технический результат заключается в уменьшении габаритных размеров ПЭРД, снижении его аэродинамического сопротивления, повышении эффективности использования газообразного рабочего вещества, отбираемого из окружающей среды, и увеличении удельного импульса двигателя. 11 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к плазменным технологиям, в частности к способам измерения поглощенной мощности в СВЧ-разрядах. При реализации предложенного способа измерения мощности, поглощаемой единицей объема СВЧ-разряда, получают СВЧ-разряд в водородсодержащем газе, фотографируют плазму СВЧ-разряда через светофильтр, выделяющий линию серии Бальмера, по интенсивности оптического излучения определяют границу плазмы разряда, вычисляют занимаемый плазмой объем, а также поглощаемую плазмой полную мощность. Мощность, поглощаемую единицей объема СВЧ-разряда, вычисляют как отношение полной поглощенной плазмой мощности к занимаемому плазмой объему. Техническим результатом изобретения является повышение точности измерений. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к области плазменной техники. Система (1) водяного охлаждения для плазменной пушки (2), способ охлаждения плазменной пушки (2) и способ увеличения срока службы плазменной пушки (2). Система (1) включает в себя водяной охладитель, выполненный с возможностью и установленный для удаления тепла из охлаждающей воды, подаваемой в плазменную пушку (2), контроллер, (7) выполненный с возможностью и установленный для отслеживания напряжения на пушке для плазменной пушки (2), и, по меньшей мере, один проточный клапан (8), соединенный с и управляемый контроллером (7) для регулирования потока охлаждающей воды. Когда напряжение на пушке падает ниже заданного значения, контроллер (7) управляет, по меньшей мере, одним клапаном (8) потока, для увеличения температуры плазменной пушки и напряжения на пушке. Технический результат - повышение срока службы плазменной пушки. 3 н. и 18 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к источникам получения и управления потоком плазмы атмосферного давления. Источник образован цилиндрической трубкой из диэлектрического материала, с входной частью - трактом для поступления газа и выходной частью - соплом для вывода плазмы. Источник содержит пару электродов 4 и 5, подключенные к импульсному источнику питания и расположенные на внешней поверхности трубки на расстоянии друг от друга. Источник дополнительно содержит электрод 6, размещенный на внутренней поверхности цилиндрической трубки входной части, и соединенный с ним штыревой электрод 7, введенный соосно в сопло, при этом параметры частей (длина, радиус, толщина, диэлектрическая проницаемость) таковы, что электрическая емкость входной части много больше емкости выходной части. Технический результат - возможность получения плазменных струй атмосферного давления в общедоступных и дешевых газах (воздух, азот) при сниженном расходе газа. 2 ил.

Изобретение относится к способу и устройству для низкотемпературного упрочнения оптического контакта диэлектрических поверхностей газоразрядных приборов, в частности резонаторов моноблочных газовых лазеров, в процессе их технологической сборки. Заявленное устройство содержит диэлектрический корпус, внутри которого размещен внешний цилиндрический электрод, подключенный к генератору периодического напряжения, и внутренний заземленный протяженный электрод. При этом диэлектрический корпус выполнен с возможностью подачи газа вдоль внутреннего заземленного протяженного электрода, а внутренний заземленный протяженный электрод выполнен в виде спирали из термостойкой проволоки толщиной 0,1-0,3 мм. В заявленном способе при атмосферном давлении осуществляют плазменную активацию отполированных поверхностей диэлектриков и приводят их в контакт, причем плазменную активацию поверхностей диэлектриков осуществляют холодной плазменной струей в течение 2-3 с. Технический результат заключается в повышении однородности параметров формируемой плазменной струи и повышении качества оптического контакта. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано в газоразрядных устройствах с самонакаливаемым полым катодом. Способ изготовления самонакаливаемого полого катода из нитрида титана для систем генерации плазмы включает формирование трубчатого изделия из смеси порошков, содержащей нитрид титана, 10 вес.% титана, не более 2 вес.% пластификатора поливинилбутираля, импульсным или статическим прессованием, экструзией, шликерным литьем или альтернативным способом, отжиг трубчатого изделия в вакуумной печи в потоке азота при давлении 1 Па при температуре 500°С в течение 1 ч для термического разложения пластификатора и удаления продуктов разложения из объема трубчатого изделия, установку трубчатого изделия в качестве катодного электрода в электроразрядную систему, содержащую анодный электрод, постоянную прокачку азота через трубчатое изделие, приложение между анодом и трубчатым изделием напряжения и зажигание тлеющего разряда между трубчатым изделием и анодом, ток которого постепенно увеличивают по мере прекращения дугообразования, что обеспечивает удаление поверхностных загрязнений и рост температуры трубчатого изделия, переход разряда в термоэмиссионный дуговой режим и нагрев катода до температуры 2000°С. Выдержка сформованного трубчатого изделия в плазме собственного разряда в качестве катодного электрода при работе в термоэмиссионном дуговом режиме обеспечивает его твердофазное спекание и формирование самонакаливаемого полого катода из нитрида титана с высокой плотностью, термоэмиссионными свойствами и повышенным ресурсом. 3 ил.

Изобретение относится к области исследования физических свойств вещества, в частности к исследованию процессов в газоразрядных приборах и плазме. Между электродами при фиксированном расстоянии между ними подается напряжение, возникающий ток плавит и испаряет тонкую проволочку, которая размещается между электродами, расстояние от катода до анода выбирается таким, при котором разряд без проволочки самопроизвольно не возникает, а между электродами создаются условия для лавинного пробоя разрядного промежутка, возникающего при наличии в воздухе паров испаряющейся проволочки. При этом при подаче напряжения на разрядный промежуток на катоде образуется канал, созданный тепловой кумулятивной струей, плавящей металл, исходящий из точки контакта катода и проволочки. Технический результат – возможность управлять траекторией тепловой кумулятивной струи, плавящей металл, и траекторией образованного ей канала на поверхности металлического катода. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в малогабаритных приборах ЯМР- и ЭПР-спектроскопии высокого спектрального разрешения. Технический результат состоит в повышении степени однородности магнитного поля в рабочей области системы и увеличении его напряженности. Магнитная система содержит заключенные в замкнутый магнитопровод две установленные параллельно друг другу с образованием воздушного зазора остаточно намагниченные пластины, выполненные наборными из жестко соединенных между собой постоянных магнитов. Каждый из них имеет фиксированное соответствующее расчетному значение модуля вектора магнитного момента и его пространственную ориентацию в теле магнита согласно местоположению в пластине. С одной стороны магнитные пластины жестко соединены с магнитопроводом. Пластина по размещению магнитов делится на три концентрические зоны: центральную, составляющую по площади (Sц) величину 10-15% от всей площади полюса (S), периферийную, имеющую площадь (Sп), равную 54-60% от величины S, и промежуточную, равную по площади Sпр разности Sпр=S-(Sц+Sп). В центральной зоне установлены идентичные по величине магнитного момента магниты с ориентацией вектора остаточной намагниченности перпендикулярно плоскости пластины. Модуль их вектора составляет величину 0,6 по отношению к таковому у периферийных магнитов с аналогичной ориентацией вектора остаточной намагниченности. В промежуточной зоне установлены магниты с величиной модуля вектора остаточной намагниченности, равной таковой у периферийных, но с его ориентацией в теле магнита в направлении к центру пластины под углом в диапазоне 50÷60° относительно нормали к плоскости пластины. 2 з.п. ф-лы, 14 ил.

Изобретения относятся к способам и устройствам для осуществления тлеющего разряда и могут найти применение при обработке поверхности и нанесении покрытий на поверхности различных изделий в вакууме, в машиностроении для поверхностной термообработки, напыления и упрочнения, а также для получения излучения, например для накачки лазеров. Технический результат - обеспечение горения тлеющего разряда при давлении от 10 Торр и ниже. В способе осуществления тлеющего разряда, включающем зажигание тлеющего разряда между анодом и катодом в газоразрядной камере с поперечным к направлению электрического поля потоком рабочего газа, при зажигании тлеющего разряда устанавливают давление в газоразрядной камере от P=10 Торр и ниже, создают разные концентрации частиц газа в различных областях межэлектродного пространства, за счет организации сверхзвукового потока рабочего газа в заданной области межэлектродного зазора в поперечном к электрическому полю направлении при скорости потока газа более V=300 м/с. Устройство для осуществления тлеющего разряда содержит откачную вакуумную систему, подключенную к газоразрядной камере с размещенными в ней анодом, катодом, патрубками для подачи и откачки рабочего газа, устройством для формирования потока рабочего газа. Устройство содержит конфузор, а устройство для формирования потока рабочего газа выполнено как сверхзвуковое сопло, являющееся диффузором, причем конфузор и диффузор установлены в межэлектродном пространстве в газоразрядной камере соосно против друг друга таким образом, что ось конфузора и диффузора находится в поперечном к оси анода и катода направлении на заданном расстоянии относительно анода и катода, также имеется патрубок для откачки остаточного газа из газоразрядной камеры. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к электроду для плазменных горелок для плазменной резки и применению электрода для указанной плазменной горелки. Электрод для плазменных резаков, выполненный в соответствии с изобретением, содержит держатель электрода и эмиссионную вставку, которые соединены друг с другом запрессовкой и/или подгонкой по форме. Эмиссионная вставка вдоль своей продольной оси имеет по меньшей мере одну секцию, которая расположена между двумя другими секциями или рядом с другой секцией и имеет уменьшенный наружный диаметр при вращательно-симметричной конструкции эмиссионной вставки, или имеет уменьшенную поверхность поперечного сечения при вращательно несимметричной эмиссионной вставке по отношению к другой(им) секции(ям). Секция (7.22), имеющая постоянный наружный диаметр или постоянную поверхность поперечного сечения, расположена между указанной секцией (7.23) с уменьшенным наружным диаметром или уменьшенной поверхностью поперечного сечения и конически сужающейся секцией. Технический результат - повышение срока службы и качества резки. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 22 ил.

Изобретение относится к области плазменной техники. Предложен электродуговой плазмотрон. Электродуговой плазмотрон содержит корпус, в котором соосно установлены анод, катод и изоляционная втулка с отверстиями. Проточная часть анода выполнена в виде канала переменного поперечного сечения, образованного тремя соосными цилиндрами, которые сопряжены между собой усеченными конусами. Конусы обращены своими верхними основаниями к центральному цилиндру. Катод представляет собой медную водоохлаждаемую обойму с тугоплавкой вставкой и имеет на конце форму усеченного конуса. Отверстия в изоляционной втулке располагаются в несколько рядов, каждый из которых содержит не менее шести отверстий, распределенных равномерно по окружности. Отверстия располагаются так, что их оси скрещиваются с продольной осью плазмотрона. Техническим результатом является увеличение рабочего тока плазмотрона до 2000А, повышение производительности процесса распыления, повышенный ресурс работы электродов и возможность получения плазменных струй с различной формой и температурой. 2 ил., 2 пр.

Наверх