Способ определения поверхностного потенциала

 

Bc= О©;у

ИАТ- : ..;. -Та .Хйй бл те

ИЗОБРЕТЕНИЯ

308390

Еоюз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 28.XII.1966 (№ 1122041/26-25) МПК б 01г 29(00

Н Oll 7/ОО с присоединением заявки №

Приоритет

Комитет од двлам

Изобретений и открытий ори Совете Министров есср

УДК 621.317.799:537. .311.3(088.8) Опубликовано 01.Ч!!.1971. Бюллетень № 21

Дата опубликования описания ЗОХ111.1971

Авторы изобретения С. П. Кальвенас, Л. А. Климка, В. И. Гуога и Ю. К. Пожела

Заявитель

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПОВЕРХНОСТНОГО ПОТЕНЦИАЛА

ПОЛУПРОВОДНИКА

2 о ю®+ о,, и

В,У 2йо + о®

Ro„ — сопротивление объема полупроводникового образца в равновесных электрических полях; где

Изобретений относится к области исследования физических параметров полупроводниковых материалов.

Известный способ определения поверхностного потенциала полупроводника основан на эффекте поля и заключается в следующем.

К конденсатору, одной из обкладок которого является металлический электрод, а другой— поверхность полупроводника, прикладывают внешнее электрическое продольное поле, последнее не нарушает термодинамическое равновесие между свободными носителями и решеткой полупроводника. При этом заряд в области пространственного заряда в полупроводнике изменится таким образом, чтобы экранировать объем полупроводника как от поля заряда, локализованного в поверхностных состояниях, так и от внешнего приложенного электрического поля. Соответственно изменится поверхностный потенциал и однозначно связанное с ним поверхностное сопротивление. Поэтому измеряя изменение поверхностного сопротивления, определяют поверхностный потенциал по теоретическим кривым.

Цель изобретения заключается в повышении чувствительности измерения, в возможности определения поверхностного потенциала полупроводника при больших загибах зон в сторону инверсии в устройствах, основанных на разогреве носителей тока электрическим полем, без нарушения целостности этих устройств.

Это достигается изменением объемного сопротивления полупроводника при почти неизменном поверхностном сопротивлении за счет прикладывания к полупроводниковому образцу сильного электрического поля, обеспечивающего нарушение термодинамического равновесия между свободными носителями и

1О решеткой полупроводника.

Предлагаемый способ осуществляется следующим образом. Полупроводниковый образец попеременно помещают в равновесное и нарушающее тер модин амическое равновесие электрические продольные поля, измеряют изменение эффективного сопротивления при заданных напряженностях полей и по теоретическим кривым определяют значения поверх20 ностного потенциала полупроводника.

Теоретическая кривая строится, используя выражения

Способ определения поверхностного потенциала 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх