Способ измерения объемного времени жизни носителей тока в слоях полупроводников

 

326526

О П И С А Н И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советския

Социал истическик

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

М. Кл. 6 01г 31/26

Заявлено 11.Ч.1970 (М 1424951/26-25) с присоединением заявки М

Приоритет

Опубликовано 19.I.1972. Бюллетень ¹ 4

Дата опубликования описания 29.II.1972

Комитет па делам изобретений и открып к при Совете Министров

СССР

УДК 620.1:621.382. .2/3 (088.8) Авторы изобретения

Н. Ф. Ковтонюк, Г. M. Гуро и Н. М. Амринов

Заявитель

СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ОБЪЕМНОГО ВРЕМЕНИ ЖИЗНИ

НОСИТЕЛЕЙ ТОКА В СЛОЯХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

Известен способ измерения времени жизни неосновных носителей заряда в тонких слоях полупроводников по результатам измерения временной константы установления емкости металл — окисел — полупроводник при приложении к последней напряжения смещения.

Основной недостаток этого способа заключается в том, что он очень чувствителен к дефектам поверхности полупроводникового материала.

Цель изобретения — устранение зависимости результатов измерений от влияния поверхностных свойств (поверхностной рекомбинации) полупроводников и тем самым повышение точности измерений.

Для достижения цели тонкий кристалл полупроводника отделяют от обоих полевых электродов слоями диэлектрика, затем к электродам прикладывают импульс электрического поля, под влиянием которого часть свободных носителей заряда выводится из объема полупроводника в приэлектродные области.

B результате этого тепловая генерация в объеме преобладает над рекомбинацией, и через некоторое время концентрация в объеме достигает исходной величины.

Параметром кривой восстановления проводимости объема является величина тс, которая и определяет время жизни. Время то связано с генерацией только в объеме, а не на поверхности, потому что при наличии поля приповерхностные области обогащены свободными зарядами, экранирующими это поле. При этом ловушечные центры поверхности заполнены, вследствие чего тепловая генерация на поверхности значительно меньше объемной.

Способ поясняется схемой, содержащей генератор СВЧ 1, волноводное устройство 2, полупроводник 8, электроды 4, диэлектрик 5, ге10 нератор б прямоугольных импульсов, детекторную секцию 7, осциллограф 8.

К волноводному устройству 2 с помещенным в него полупроводником 8, отделенным с обе15 их сторон от электродов 4 слоями 5 диэлектрика, подключен с одной стороны генератор

СВЧ 1, а с другой — детекторная секция 7 с осциллографом 8. К полевым электродам волноводного устройства подается импульс с re20 нератора прямоугольных импульсов.

Длительность импульса должна быть в

5 — 6 раз больше времени жизни носителей тока, а фронт включения импульса — меньше измеряемого времени жизни. Величину вос25 станавливающейся при этом проводимости объема полупроводника определяют по изменению величины затухания электромагнитной волны в волноводе. Измеряя постоянную затухания СВЧ-колебаний, определяют объемное

30 время жизни носителей тока.

326526

Предмет изобретения

Составитель Е. Халатова

Техред Л. Куклина Корректор Е. Миронова

Редактор Т. Орловская

Заказ 525/9 Изд. М 101 Тираж 448 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, 0К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Способ измерения объемного времени жизни носителей тока в слоях полупроводников, отделенных от двух полевых электродов слоями диэлектрика, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерений, часть свободных носителей выводят из объема полупроводника в приэлектродные области посредством приложенного импульса электрического поля, измеряют постоянную затухания электромагнитной волны в волноводе, в который помещен исследуемый полупроводник, и по результатам измерений определяют объемное время жизни носителей тока.

Способ измерения объемного времени жизни носителей тока в слоях полупроводников Способ измерения объемного времени жизни носителей тока в слоях полупроводников 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх