И.-д.б. сидаравичус

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

H АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советоких

Сониалиотичеокик

Реопублик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 09.I.1970 (№ 1394977/23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 21.IV.1972. Вюллетень № 14

Дата опубликования описания 29Х,1972

М. Кл, G 03g 5/08

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 772.93(088.8) Авторы изобретения

Л. И. Нюнько, Г. М, Дейч, Л. И. Лаврова, И. 3. Плавина и И.-Д.Б. Сидаравичус

Заявитель

ЭЛ ЕКТРОФОТОГРАФ И Ч ЕСКИ Й МАТЕР ИАЛ

Изобретение касается электрофотографического материала, используемого для фотопластической записи информации.

Известен электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки, слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и слоя из термопластического органического полимера.

Такие слои имеют, как правило, неплохую фоточувствительность, HO являются непрозрачными, так как толщина фотополупроводникового слоя (ФП) обычно составляет не менее 1 мк. Кроме того, фоточувствительность такой системы зависит от толщины фотополупроводника: чем больше его толщина, тем больше фоточувствительность.

Кроме того, двойные ФП слои требуют подзарядки или заземления поверхности переменным коронным разрядом после экспонирования. Это вызвано необходимостью образованияя зарядного рельефа на поверхности слоя, так как продавливающие канавку электростатические силы зависят лишь от плотности поверхностных зарядов и зарядов экранирования, которая после экспонирования не изменяется.

Цель изобретения — получение прозрачного однородного слоя.

Эта цель достигается тем, что получен электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки, слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и термопластического слоя, состоящего из органического фотополупроводника и тер5 мопластического полимера (ТП) с низкой температурой размягчения.

В качестве слоя неорганического фотополупроводника применяют слой селена толщиной 0,01 — 0,1 лтк.

10 В качестве органических фотополупроводников, которые в композиции с термопластическим полимером с низкой температурой размягчения обнаруживают эффект фотоиндуцированной инжекции дырок из тонкого слоя

15 неорганического полупроводника (селена, соленида мышьяка и других) применяются, например, поли-N-винилкарбазол (ПВК) и его производные, поли-U-винилдифениламин и его производные и другие.

20 В качестве термопластических полимеров с низкой температурой размягчения может быть применен целый ряд веществ: композиция полиэтилена с парафином, полиариленовые эфиры, канифоль, сополимер стирала с

25 метилметакрилатом, полибутилметакрилат в композиции с эпоксидными и кремнийорганпческими смолами и т. д.

Двойной слой может работать также при использовании не только тонких пленок

30 аморфного селена. В режиме фотоиндуциро336638

Составитель Э. Рамзова

Техред Л. Евдонов Корректор Л, Бадылама

Редактор Л. Герасимова

Заказ 1499/4 Изд. Ке 607 Тираж 448 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений н открытий при Сввете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ванной HH?KBKIJHH работаег также селения мышьяка в сочетании с композициями

ПВК-ТП. Могут быть найдены и другие пары материалов для изготовления двойного, прозрачного электрофотографического слоя для фототермопластической записи. Однако каждая пара материалов — неорганический-органический фотополупроводник — является индивидуальной.

В качестве термопластика может быть использован сополимер стирола с бутадиеном, с добавками некоторых пластификаторов.

В композиции ПВК-ТП оптимальным является соотношение компонент от 6: 4 до 9: 1. При этом с ростом концентрации ПВК-ТП фоточувствительность возрастает, однако повышается температура размягчения.

Чтобы осуществлялась фотоиндуцированная инжекция из аморфного селена в композиции

ПВК-ТП, необходимо поверхность слоя заряжать отрицательным зарядом. Экспонироваться слой может как со стороны подложки, так и со стороны свободной поверхности.

При этом из-за тонкости фотополупроводникового подслоя в экспонированных участках заряд экранирования не только переходит на границы «фотополупроводник — термопластик», но и рекомбинирует с зарядом поверхности, Это значительно облегчает процесс теплового проявления скрытого изображения, исключая операцию заземления поверхности переменной короной.

Кроме того, слои могут выдерживать многократный нагрев до температуры 90 — 130 С, при этом тонкий слой аморфного селена, покрытого слоем композиции ПВК-ТП, не изменяет своих первоначальных свойств.

Изготовленные слои обладают высокой фоточувствительностью, требуется экспозиция

10 — 30 лк сек для модуляции потенциала

ЛУ

//о

=03 (при толщинах Se 002,як, ПВК-ТП 5 мк).

Такой двойной слой был прозрачен и имеет желтовато-оранжевую окраску. Максимум фоточувствительности находится в области

450 мк.

П р и и е р. На стеклянную подложку, покрытую проводящей прозрачной пленкой двуокиси олова, в вакууме (10 и,н рт. ст.) напыляют тонкий, прозрачный слой аморфного

5 селена (0,02 мк), при температуре подложки

75 С. Затем в бензольном растворе готовят полимерную композиции>, содержащую 70 "/о поли-N-винилкарбозола и 30% сополимера стирала с дивинилом с добавкой полиоргано10 силоксанов в качестве пластификатора.

Из раствора полученную полимерную композицию наносят методом полива на тонкую пленку селена. Толщина полимерного покрытия 5 мк. Затем образцы высушивают в ва15 куумном сушильном шкафу при температуре

50 С в течение 12 час.

Полученный таким образом электрофотографический слой может быть использован для фототермопластической записи. При этом

20 он проявляет максимальную фоточувствительность при зарядке отрицательным коронным разрядом, так как только в этом случае наблюдается фотоиндуцированная инжекция дырок. Величина фоточувствительности равна

25 20 лк сек (количество света, необходимое для уменьшения потенциала на 50%). Начальный потенциал слоя составлял 800 в.

Температура размягчения слоя 55 С.

Предмет изобретения

1. Электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и термопластического слоя, отли35 чаюи1ийся тем, что, с целью получения прозрачного, однородного носителя записи, применен термопластический слой, состоящий из органического фотополупроводника и термопластического полимера с низкой температу40 рой размягчения.

2. Материал по п. 1, отличаюи1ийся тем, что в качестве слоя неорганического фотополупроводника применен слой селена толщиной 0,01 — 0,1 мк.

45 3. Материал по пп. 1 и 2, отличаюи1ийся тем, что в качестве органического фотополупроводника применен поли-N-винилкарбазол.