Способ изготовления фотополимерных печатных форм

 

ОП ИСАЙИ Е

ИЗОБРЕТЕН ИЯ (и) 542167

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 19.11.74 (21) 2077899/12 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано 05.01.77. Бюллетень № 1 (45) Дата опубликования описания 26.04.77 (51) M. Кл

G 03 F 7/10

Государственный комитет

Совета Министров СССР оо делам изобретений н открытий (53) УДК

771.5 (088.8) (72) Авторы изобретения В. С. Illyp, А. Ф. Остапчук, И. П. Лазарева и М. В. Тымчишин

Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промышленности (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ

Изобретение относится к области изготовления печатных форм и может быть использовано в полиграфической промышленности.

Известные способы изготовления печатных форм включают следующие операции: монтаж негатива, сборка формы, заполнение формы композицией, двухстороннее облучение, разборка формы, вымывание пробельных элементов, повторное облучение полученной печатной формы.

Недостатком известных способов изготовления печатных форм является повьппенная липкость пробельных элементов.

С целью улучшения качества печатных форм предлагается способ, по которому повторное облучение производят под слоем жидкости, химически индифферентной к материалу полимеризованной композиции.

Для изготовления печатных форм выполняют следующие операции: — монтаж высококонтрастного фотографического негатива на стеклянной пластине и сборка изложницы, состоящей из двух стеклянных пластин и ростовой рамки; — заполнение собранной изложницы жидкой фотополимеризующейся композицией; двухстороннее облучение (одновременное или попеременное); — разборка кассеты и проявление "ормы растворителем; проявление печатной формы может проводиться всеми известными методами, например воздействием растворителями, применением так называемого "воздушного ножа", отсасыванием незаструктурированной жидкой фотополимеризующейся композиции с пробельных элементов, 1р "промоканием" формы различными впитывающими материалами и др; — повторное облучение полученной печатной формы под слоем жидкости.

В качестве жидкости применяются различные

15 растворители или растворы, не разрушающие незаструктурированные участки проявленных форм; не экстрагирующие или слабо экстрагирующие полимеризационноспособные компоненты и фотоинициатор из гель — слоя; хорошо пропускающие актиничное излучение и эффективно задерживающие тепловое и слабо ингибирующие процесс радикальной фотополимеризации.

Наиболее подходящей "защитной" жидкостью является вода. Желательно, чтобы слой "защитной"

2я жидкости был не менее 50 мм. При использовании

542167

Таблица 1

Без обработки липкая

Дополнительное экспомиров ание

3,0 липкая

Дополнительное экспонирование + обработка

1% ЙаОН

3,0 слабо — липкая

Дополнительное экспонирование + обработка спирто-водной смесью (I:!) 3,0

Дополнительное экспонирование с применением защитной жидкости

ЗО отсутствует лип кость вода

3,0

3,0

3,0 каро<як слабо-липкая для доэкспонирования исто по ков, дающих коротковолновое УФ--излучение (), <250 нм), иногда бывает целесообразным использовать в качестве

"защитной" жидкости растворы минеральных солей

iitI0»CuS04 (йН41 С "О, ндр.,атакже красителей (метйленовый синий и др.) . Использование растворов указанных соединений позволяет выделять актиничную зону спектра излучения н поглощать другие зонъ1 спектра излучения источника света.

Фотополимериэукицнеся композиции, применяемь.е в предлагаемом способе, включают полимеризационноспособные компоненты со средней функциональностью 2 и фотоинициатор. Фотополимеризующиеся композиции могут также содержать наполнители (органического или неорганического происхождения), красители, антноксиданты и другие целевые добавки.

Пример 1. Готовилась жидкая композиция, в кл ючающая, вес.ч,:

0. я однэтиленппн ольманеинатфталвт

20 (поли эфир ПН- 32) 100,0!

Лиметакрнловый эфир триэ иленгли. коля (полиэфир ТГМ-3) 15.0

Стирол 25,0.

Метакриловая кислота 15,0 . Метиловый эфир бецэоина 1,0

Готовая компо.вщия заливалась в изложницу, состоящую иэ двух плоскопараллельцых стеклинных пластин, ростовои рамки прямоугольной формъ с внутренними размерами 300х420 мм и толщиной 1,75 мм, а также прижимного устройства. На внутренней noscpxnocTH одной иэ стеклянных пластин был смонтирован высококонтрастный щтриховой негатив. Собранная и заполненная композицией кассета облучалась нод панелью ламп ЛУФ вЂ” ЯО на расстоянии 80мм в течение 8 мин оо стороми негатива и 1 мии с противоположной стороны (со стороны подложки). По окончании облучения изложница разбиралась и форма проявлялась про-. мывкой водопроводной водой в те вине 1 мин.

Печатная форма имела общую толщину 1,75 мм и высоту печатающих элементов 0,8 мм.

Определялась липкость пробельных элементов по трехбалльной системе (липкая, слабо — липкая, отсутствует лнпкость) .

Данные приведены в табл. 1. вода +

+ 5% CuSO4 отсутствует липкость вода +

+ 5% KNO отсутствует лнпкость

542167

Пример 2. Готовился ряд композиций согласно абл. ". KoMIl03H. ни эалввались в изложницу и облучались, как описано в примере 1. Режимы облуч:ння н результаты испытаний приведены в табл. 2. 5

Использование предложенного способа позэо

Олнгоэфируретанакрилат (на основе ПОНГ—

2000 и 2,4 ТДИ) 80,0 390496 спирт-: липкая лекал отсутствует ацетон лихкость (1:1) 10,0

100

1,0

Олигодненуретанакрилат (продукт

ПДИ вЂ” 4АК) 445371 бензатн липкая ашкая отсутствует лнпкость

80,0

10,0

10,0

Днметакрнлатбио-гризтиленгликольфталат (полнэфнр МГФ вЂ” 9) 418825 ащрт- липкая липкая отсутствует аютан пшкость (1:1) 100,0

Метилметакрилат

Беиэонн

Азроснл . (с СООН-труппами) 20,0

1,0

5,0 ормула нзо ретення! . Способ изготовления фотополимерных печатных форм, состоящий нз заливки фотополимери- 55 зующейся композиции в прозрачную изложницу, на которой смонтирован негатив, облучения компо

:иции, проявжю я а повторного облучения, о т л ич а ю щ н н с а тем, что, . целью улучшения ;1юства печатных форм, повторное облучение про- 40

Метакриловая кислота

Метилметакрилат

Метнловый эфир ба-нзаина

Метилметакрилат

Днметакрилов ый эфир триэтиленпаком (поли ð тГМ-3)

Метнловый эфир бенэоина ляет улучшить качество печатных форм за счет получения форм с нелнпкими пробельными зле мен. таьи н устранеяая перегрева материала формы при донолннтельном облучении, снизить стоимость нэ. готовлення печатных форм за счет применения более дешевых "ннгнбнруемы х" композиций.

Хабли ца 2. нжодят нод слоем жидкости, хитзически нндчф ферентиой м материалу полимеризаванной компо. жции.

2. Способ поп;1,отличающийся тем, ,что в качества яаркостн используют воду.

3. Способ по и. 1, î z л и ч а ю щ и и с я тем, что в качестве жидкос-.и нсполь "уются водные

1 растворы неорганических н оргапчческих веществ, в том числе н красителей,

Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий

Изобретение относится к области микролитографии (в частности, к рентгенолитографии) и может быть использовано при изготовлении, например, печатных форм (клише) для высокой печати с субмикронным разрешением структур рисунка, используемых, преимущественно, при изготовлении денежных знаков и иных ценных бумаг, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением его структур в функциональных слоях изделий

Изобретение относится к ракетным двигателям космических аппаратов и, более конкретно, к ионным двигателям малой тяги
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии

Изобретение относится к устройствам экспонирования, а именно к системам для переноса преобразованных в цифровую форму изображений на чувствительную основу

Изобретение относится к микротехнологии

Изобретение относится к способу формирования рисунка в полимерных пленках, которые могут использоваться в качестве электродов с рисунком или пикселей в оптоэлектронных дисплеях
Наверх