Устройство для оптического фотографирования

 

11 йсзсс з Iял

|Г; .;-, Ъ ° ,I

Союз Соаетскин

Социалистических

Республик

О П И Q А И И е 1111! 44766о

ИЗОБРЕТЕН НЯ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено12.04.72 (21)1773057/ф ф-) 0 (51) N. Кл. б ОЗт 7/ОС с присоединением заявки №

Государстоенный номнтет

6оовта Инннстроо СССР оо делам нзеоретеннй н отнрытнй (23) Приоритет (43) ОпубликованФ5 10 74 Бюллетень ¹39 (45} Дата опубликования описания15,12.74 (53) УДК778,123 (088.8) (72) Авторы изобретения

Н. H Беспутина, Г. Б. Виноградов, А. П. Грамматин и Г, Я. Левченко (11) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОПТИЧЕСКОГО ФОТОГРАФИ! ВЛНИЯ

Изобрел тие относится к полупроводниковой,технике и может быть использовано для печати изображений на полупроводниковых, металлических и друг:x материалах.

Известно устройство для оптического фотографирования, содержащее проекционную систему, источник активного излучения, механизм перемещения пластины в плоскости, I перпендикулярной к оси обьектива, и механизм фиксации положения рабочей плоскости то пластины в плоскости экспозиции.

Предлагаемое устройство .тличается от известного тем, что держатель экспонируемой пластины выполнен в виде скользящего столика, а механизм фиксации рабочей гла- еа стины в плоскости экспозиции - в виде оправы с бесконтактным индикатором, причем оправа снабжена устройством смешения параллельно плоскости пластины.

Это обеспечивает воэможность работы ва .еО пластинах различных размеров и пмзысмть .. точность совмещения.

На фиг. 1 и 2 изображено устройство для оптического фотографирования, общий вид. 26

Устройство содержит обьективы 1 и о, держатель 3 шаблона 4; держатель 5 пласти- ны 6; источник 7 активного излучения; све ! тсфильтр 8; микроскоп 9 для наблюдения процесса совмещения.

Совмещение производится в плоскости пластины. Микроскоп 9 установлен таким образом, что оси его обьективов 10 расно-

1 ложены параллельно плоскости пластины, а; предметная плоскость микроскопа посредст; вом двух прозрачных зеркал 11, располо» енпых над периферийными зонами пластины

1.> од углом 45, совмещена с (плоскостью экспонируемой пластины. Это позволило, во;первых, исключить искажения рисунка при

I совмещении и улуюиить условия освещеннооМ изображения, во-вторых, исключить необходимость применения двух источников света, 1,"г. е. упростить конструкцию, В предлагаемом устройстве как прн сов, мешении, так и при экспонировании используют один и тот же стационарный источник света 7.

Диафрагма 12 и светофильтры 8, обеспе чиваюшив монохромати ческий свет требуемой

447668 длины волны. прн экспозиции и совмещении, расположены s промежутке между объективами. Наличие диафрагмы необходимого диаметра между объективами улучшает изображение. 5

Препятствием для использования серийнь . фотографических объективов в проекционной фотолитографии является несовпадение плоско стей наилучшего изображения в синей обла сти спектра, s которой объектив работает ц) при экспонировании и зеленой области спектра, в которой объектив работает при совме кении.

В предлагаемом устройстве совпадение этих плоскостей изображения при строгом 15 постоянстве увеличения 1-х достигается, пу-, тем одновременного введения в пространство между шаблоном и первым объективом и в пространство между вторым объективом и экспонируемой пластиной двух одинаковъщ 20

" плоскопараллельных компенсационный пластин,) причем пластины 13 и 14, используемые прн совмещении, имеют толщину, отличную от толщины пластин 15 и 16,используемых

Л при экспонировании. Кроме того, использовение компенсационных пластин позволяет применять широкополосные светофильтры вместо интерференцнонньц (синего и зеленого), что снижает эффект интерференции . на качество изображения, набльодвемого в микроскоп.

Дер;.;атель 5 пластины выполнен в виде скользящего столика с рабочей поверхностью высокой плоскостности. Перпендикулярно к рабочей плоскости столике через его крестовину подведен канал, соединенный с отквчной снстемои. Благодаря этому обеспечивается необходимая плоскостность пластин, укрептиемых цв столике. Пля фиксации ра бочей плоскости в плоскости экспозищии 40 использованы смешвющиеся параллельно плоскости пластины оправы с бесконтвктным индикатором 17 в виде соила пневмо электроконтактного датчика.

Наличие бесконтектного средства фиксации пластины в плоскости кспознцни поэволяет исключить вероятность повреждения чувствительного слоя и обеспечить фотографирование на пластинах любого размера и формы.

Устройство работает следующим образом.

Пластину 6 помешают на столике 5. Включают откачную систему, в результате посредством вакууме пластина укрепляется на столике. К соплу 17 от пневмоэлектроконтактного датчика подводят стабилизированный и очищенный воздух, Столик 5 с пластиной поднимают до тех пор, пока меж-. ду пластиной и соплом не образуется требуемый зазор, расход воздуха фиксируют по показаниям стрелки датчика. Затем оправу с соплом отводят; включают источник света 7; затвор 18 открывают; вводят пластины 13 и 15 и светофильтр 8. Наблюдая в микроскоп 9 и перемещая пластину в любом требуемом направлении в плоскости, перпендикулярной к оптической оси, совме . шают рисунок шаблона с рисунком на пластине. Затвор 18 закрывают. Вместо пластин

13 и 15 и светофильтра 8 вводят пласти-, ны 14 и 16 и светофильтр 19. Снова открывают затвор и засвечивают фдточувствитель, ный слой в течение требуемого времени.

Предмет изобретения

Устройство для оптического фотографиро ввния, содерквшее проекционную систему, источник активного излучения, механизм пе ремещения пластины в плоскости, перпендикулярной к оси обектива, и механизм фиксации положения рабочей плоскости пластины в плоскости экспозиции. о т л и ч а ю ш ее с я тем, что, с целью обеспечения возможности работы нв пластинах различных размеров и повышения точности совмещения, держатель экспонируемой пластины выполнен в виде скользящего столика, а механизм фиксации рабочей пластины в плоскости экспо зинни - в виде оправы с бесконтактным индикатором, причем оправа снабжена устройством смещения параллельно плоскости пластины.

Составитель М,ДфбЩ6В

Редактор . «ИЗЯИ03@ Тех ред Д ЭДЗРСКцЯ Коррок г(ф р.)(к опе

За аз 1650 Изд. М рРр тираж фью)

Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, 113035, Раушская наб,, 4

Предприятие «Патент», Москва, Г.á9, 5ережковская наб., 24

Устройство для оптического фотографирования Устройство для оптического фотографирования Устройство для оптического фотографирования Устройство для оптического фотографирования 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх