Устройство для фотоотвержденияпокрытия ha движущейся подложке

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПАТЕНТУ

Союз Советскик

Социалистическик

Республик

< в803851 (61) Дополнительный к патенту (51 1м. Кл. (22) Заявлено 04.11.77 (21) 2542048/05 (23) Приоритет {32) 05.11 е 76

В 05 С 9/04.

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий (31) 739120 (33) дщ

Опубликовано 070281.Бюллетень Но 5 (5З) УД){ 678.023.3 (088.8) Дата опубликования описания 100281

71 Заявитель

Юнион Карбид Корпорейшн (США) (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОТООТВЕРЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЯ

НА ДВИЖУЩЕЙСЯ ПОДЛОЖКЕ

Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к устройствам для отверждения покрытий, отверждающихся под действием света, использующих ртутные лампы.

Известно устройство для фотоотверждения покрытия на движущейся подложке, содержащее входной и выходной туннели, между которыми установлены инжектор для подачи инертного газа на подложку и рабочая камера со смонтированной в ней ртутной лампой с рефлекторным приспособлением t1J .

Однако в данном устройстве ртутные лампы используют вместе с рефлекторами, поверхность которых охлаждают за счет отвода тепла. Во многих случаях избыточное покрытие испаряется с поверхности и осаждается на поверхностях рефлекторов и ламп, вызывая умень-. шение мощности ультрафиолетового излучения и приводя к неравномерному отверждению.

Целью изобретения является предотвращение осаждения паров на по" верхность рефлекторного приспособления.

Поставленная пель достигается тем, что в устройстве для фотоотверждения покрытия на движущейся подложке, содержащем входной и выходной туннели, между которыми установлены инжектор для подачи инертного газа на под" ложку и рабочая камера со смонтироВВННоА в ней ртутной лампой с рефлекторным приспособлением, последнее снабжено охлаждаемым жидкостью теплоотводным приспособлением, установленным с зазором относительно рефлекторного приспособления. Кроме того, устройство снабжено установленным между инжектором для подачи инертного газа и рабочей камерой приспособлением для подачи дополнительного потока инертного газа в направлении движения,а высота выходного туннеля йодложки превышает высоту входного туннеля, причем противолежащие поверхности рефлекторного и теплоотводящего приспособлений имеют черный цвет.

На фиг. 1 схематически изображено устройство, на фиг. 2 — разрез

A-A на фиг. 1.

Устройство содержит рабочую камеру 1, в которой смонтирован источник ультрафиолетового излучения 2, представляющий ряд ртутных ламп среднего давления, рефлекторное (отражательное) приспособление 3, частично окружающее этот источник и служащее

803851 для направления ультрафиолетового излучения на поверхность подложки, которая проходит через входной туннель 4 рабочей камеры, где покрытие на подложке отверждают под действием ультрафиолетового излучения, а затем выходит через выходной туннель 5.

Инертный газ подается из нагнетательной камеры 6 через инжектор 7.

Назначение этого газа состоит в том, чтобы изолировать поверхность движущейся подложки и удалить кислород, который ингибирует отверждение. В устройстве предусмотрен также второй источник инертного газа, который подают через камеру экранирующего газа 8, имеющую выходную щель 9. Над рефлекторным приспособлением 3 с зазором относительно него смонтировано охлаждаемое теплоотводящее приспособление 10. Теплоотвод осуществляется только за счет излучения. . Противолежащие поверхности рефлекторного 3 и теплоотводящего 10 приспособлений имеют черный цвет.

Устройство работает следующим образом.

Подложка с нанесенным покрытием входит в туннель 4 рабочей камеры.

Инертный газ подается из камер б и 8.

Хотя направление потока газа на фиг.1 показано как параллельное перемещению подложки, угол потока может составлять от 5 до 15 о относительно нее. ..Поток экранирующего газа увлекает и захватывает практически все пары, выделяемые с поверхности покрытия, по мере его отверждения, и выносит их через туннель 5. Высота (ht вы-, ходного туннеля 5 больше, чем высота (E) входного туннеля 4. Это позволяет парам более легко покидать рабочую камеру вместе с экранирующим потоком газа. Выделяемые пары собираются под ламинарным потоком экранирующего инертного газа и приподнимают его над поверхностью покрытия, увеличивая тем самым толщину слоя ламинарного потока. Поэтому большая высота выходного туннеля ,5 ло сравнению с высотой входного туннеля 4"облегчает удаление паров иэ устройства. Использование потока экранирующего газа целесообразно, однако, устройство нормально функционирует и без такого потока экраиирующего газа.

Охлаждаемое .водой теплоотводящее приспособление 10 расположено по отношению к поверхности рефлекторного приспособления 3 таким образом, что межщу поверхностью рефлекторного .3 и теллоотводящего 10 приспособлений— перенос тепла осуществляется только за счет излучения. 3а счет регулировровки температуры поверхности рефлек торного .приспособления (c целью уменьшения конвенционных потоков) значительно снижается осаждение Hà его поверхность паров.

Устройство может быть выполнено в различных вариантах.

Например, для уменьшения количества инертного газа, используемого в системе, можно создать экранирующий пары поток воздуха ниже первой камеры 6 и перед второй камерой 8. Могут быть выполнены выпускные туннели перед входным туннелем и после выхбдного туннеля, а также предусмотрена регулировка отношения давления газа в туннелях для распределения потока

15 между каждым из выпускных туннелей таким образом, чтобы поддерживать поток инертного газа, удаляющего

ЗО

3S

50 максимально возможное количество паров.

ПозвОлит предотвратить попадание ч паров на поверхность рефлекторного приспособления за счет использования зкранирующего пары потока газа.

Формула изобретения

1.устройство для фотоотверждения покрытия на движущейся подложке, содержащее входной и выходной туннели, между которыми установлены инжектор для подачи инертного газа на подложку и рабочая камера со смонтированной в ней ртутной лампой с рефлекторным приспособлением, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что с целью предотвращения осаждения паров на поверхность рефлекторного приспособления, последнее снабжено охлаждаемым жидкостью теплоотводным приспособлением, установленным с зазором относительно рефлекторного приспособления.

2.устройство по п.1, о т л ич а ю щ е е с я тем, Что оно снабжено установленным между инжектором для подачи инертного газа и рабочей камерой приспособлением для подачи дополнительного потока инертного газа в направлении движения подложки, З.уст@ойсхво по п.1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что высота выходного туннеля превышает высоту входного туннеля.

4.устройство по п.1, о т л и ч а ющ е е с я тем, что противолежащие поверхности рефлекторного и теплоотводного приспособлений имеют черный цвет.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1.Патент США М 3936950, кл. 34-4, опублик. 10.02.76 (прототип).

803851

Составитель Л.Леонтьев

Редактор Л.утехина Техред Е.Гаврилешко Корректор Г.Рещетник

Заказ 0650/7 Тирам 3 Подписное

ВНИИПИ Государственного коиитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раутская наб., д.4/5

Филиал ППП Патент", r.Óìãîðîä,óë.Ïðîåêòíàÿ.4

Устройство для фотоотвержденияпокрытия ha движущейся подложке Устройство для фотоотвержденияпокрытия ha движущейся подложке Устройство для фотоотвержденияпокрытия ha движущейся подложке 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для нанесения жидких клеев и герметиков на изделия и может быть использовано в различных технологических процессах, в частности при производстве стеклопакетов и других конструкционных элементов

Изобретение относится к устройству для однократного или многократного нанесения покрытия снизу И/ИЛИ сверху на полотнообразные подложки и для изготовления полотен без подложек с одной или несколькими покрывными массами, или из одной или нескольких покрывных масс, таких как битум, при необходимости с нанесением сыпучего материала, как шиферный гранулят, кварцевый песок, тальк и так далее и с выборочным покрытием пленками или тому подобное

Изобретение относится к пропитке и нанесению покрытий на ткани, в частности к оборудованию для получения длинномерных изделий, покрытых литьевым по лиуретановым каучуком, и может быть использовано при производстве покрытий в других отраслях промышленности
Наверх