Способ изготовления электростатической электронно- оптической системы

 

1. СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, включающий нанесение на несущие диэлектрические пластины резиста, облучение резиста электронным пучком, последующее травление и сборку, отличающийся тем, что, с целью повышения точности изготовления, облучение и травление осуществляют после сборки пластин . 2. Способ по п. 1, о т л и ч а ющ и и с я тем, что облучение осуществляют путем последовательного отклонения электронного пучка на поверхности пластин.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

COUHIm

РЕСПУБЛИК

g g Н 01 J 9/02

i1! )Ö Ñ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Х АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

0TKZLA

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3599650/18-21 (22) 01.06.83 (46) 07.09.84. Бюл. ¹ 33 (72) В.В. Рыбалко, А.С. Савкин, А.В. Суворинов и А.С. Тихонов (71) Московский институт электронного машиностроения (53) 621.387(088.8) (56) 1. Ahmed А., "Electron beam litography for integrated circuit fabriсаtion", "Phys. Technol.", ч. 11, 1980, № 5, р. 169-174.

2. Авторское свидетельство СССР № 853702, кл. Н 01 J 29/62, 1979 (прототип)....Я0„„И 12430 А (54) (57) 1 . СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, включающий нанесение на несущие диэлектрические пластины резиста, облучение резиста электронным пучком, последующее травление и сборку, отличающийся тем, что, с целью повышения точности изготовления, облучение и травление осуществляют после сборки пластин.

2. Способ по п. 1, о т л и ч а юшийся тем, что облучение осуществляют путем последовательного отклонения электронного пучка на поверхности пластин.

1112430

Составитель В. Гаврюшин

Редактор В. Данко Техред Корректор И. Муска

Заказ 6461/37 Тираж 682 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к электронной технике, в частности к методам изготовления электронно-оптических систем (ЭОС) электронно-лучевых приборов. 5

Известен способ изготовления отдельных элементов ЭОС методами электронолитографии, включающий нанесение на подложку реэиста, облучение его электронным пучком и последующее 1О травление (11.

Данный способ не обеспечивает высокой точности изготовления всей ЭОС.

Наиболее близким по технической сущности к изобретению является спо- 15 соб изготовления электростатической

ЭОС, включающий нанесение на несущие диэлектрические пластины резиста, облучение резиста электронным пучком, последующее травление и сборку Е21. 20

По известному способу возможно достижение более высокой точности изготовления за счет размещения на пластинах нескольких электродов, однако при сборке ЭОС остаются погреш- 25 ности взаимного положения электродов.

Целью изобретения является повышение точности изготовления ЭОС.

Указанная цель достигается тем, что согласно способу изготовления электростатической электронно-оптической системы, включающему нанесение на несущие диэлектрические пластины резиста, облучение резиста электронHbIM пучком, последующее травление и 35 сборку, облучение и травление осуществляют,после сборки пластин.

При этом облучение осуществляют путем последовательного отклонения электронного пучка на поверхности 40 пластин.

Сущность способа заключается в следующем.

На каждую из диэлектрических пластин наносят резист и осуществляют 45 сборку электронно-оптической системы, жестко соединяя пластины в блок в том виде, в каком он устанавливается в приббр. Собранный блок размещают в приборе и последовательно облучают поверхности пластин в соответствии с требуемой формой электродов.

Далее блок снимают и осуществляют травление пластин. Точность полученных таким образом электродов на пластинах определяется точностью облучения пластин, которая может быть достаточно высокой. При этом погрешности, возникающие при сборке ЭОС, исключаются.

Пример. Изготовление отклоняющей системы, содержащей два противолежащих электрода.

На несущие пластины наносят резист и собирают в блок, который устанавливают в канал электроннолучевого прибора. Далее осуществляют облучение пластин. При этом по крайней мере на одну пластину подают ступенчатовозрастающее напряжение с шагом, обеспечивающим отклонение пучка на узел, меньший угловой апертуры пучка на входе в отклоняющую систему.

Напряжение увеличивают до двукратного рабочего напряжения для облучения всей требуемой поверхности пластин. Например, при расстоянии между пластинами 2 мм и угловой апертуре пучка на входе О, 1 рад увеличивают напряжение от 0 до 100 В с шагом 5 В. При токе пучка 10 мА время облучения составляет 10 с.

Затем,облученный резист стравливают, и отклоняющая система может быть использована в рабочем режиме.

Предложенный способ позволит создать более прецизионные электрические

ЭОС и повысить точность управления электронным лучом в приборе.