Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной

 

СПОСОБ КОНТРОЛЯ ОТКЛОНЕНИЯ ФОРМЫ ПОВЕРХНОСТИ ОТ ЭТАЛОННОЙ путем проецирования на контролируемую поверхность двух растров из двух положений, согласованных по эталонной поверхности, отличающийся тем, что, с целью повышения точности, на контролируемую поверхность проецируют нерегулярные растры, один из которых является негативным по отношению к другому , перемещают один из растров до получения в контролируемом участке поверхности освещенности, равной освещенности этого участка на эталонной поверхности , и по величине и направлению перемещения рассчитывают величину и знак отклонения контролируемого участка от эталонной поверхности. S (Л а СП 00 00

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН

4<11 G 01 В 11/24

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 2956757/25-28 (22) 14.07.80 (46) 07.07.85. Бюл. № 25 (72) Б. Н. Колесов и В. А. Духович (71) Горьковский филиал Всесоюзного научно-исследовательского института по нормализации в машиностроении (53) 531.717.21 (088.8) (56) Патент США № 3762818, кл. G 01 В. 11/30, опублик. 1973.

Новицкий В. В. Новые исследования по методу муаров. — Сб. «Расчет пространственных конструкций», вып. XI, М., Стройиздат, 1967, с. 25 — 26. (54) (57) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ОТКЛОНЕНИЯ ФОРМЫ ПОВЕРХНОСТИ ОТ ЭТА„„Я0„„1165881

ЛОННОЙ путем проецирования на контролируемую поверхность двух растров из двух положений, согласованных по эталонной поверхности, отличающийся тем, что, с целью повышения точности, на контроли руемую поверхность проецируют нерегулярные растры, один из которых является негативным по отношению к другому, перемещают один из растров до получения в контролируемом участке поверхности освещенности, равной освещенности этого участка на эталонной поверхности, и по величине и направлению перемещения рассчитывают величину и знак отклонения контролируемого участка от эталонной поверхности.

1165881

Составитель В. Колесов

Редактор А.Шандор Техред И. Верес Корректор М. Самборская

Заказ 4298/32 Тираж 65l Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП «Патент>, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к измерению формы криволинейных поверхностей и может быть исполозовано для измерения неровностей поверхностей.

Целью изобретения является повышение точности контроля отклонения формы поверхности от эталонной.

На чертеже изображена схема, иллюстрирующая реализацию способа.

Схема включает в себя эталонную поверхность 1, нерегулярный растр 2, растр 3, являющийся негативом изображения растра 2 на эталонной поверхности 1, проекторы

4 и 5, контролируемую поверхность 6 (или

7), устанавливаемую на место эталонной.

На эталонную поверхность 1 проектором

4 проецируют нерегулярный растр 2, фотографируют изображение растра проектором 5, доработанным так, чтобы он обеспечивал фотографирование и последующее проецирование негатива без изменения его положения, и получают таким образом растр

3, согласованный с растром 2 по эталонной поверхности. Одновременное проецирование растров 2 и 3 на эталонную поверхность приводит к взаимному перекрытию их темных и светлых зерен, вследствие чего эталонная поверхность будет затенена. Положение растров в проекторах определяют с помощью, например, микрометров. Далее на место эталонной поверхности устанавливают в то же положение контролируемую поверхность 6. В местах отклонений поверхности от эталонной наблюдают светлые муаровые пятна, форма и размеры которых характеризуют форму и размеры искаженных участков. Освещенность в муаровом пятне пропорциональна величине отклонения контролируемой поверхности от эталонной.

Чувствительность способа определяется размерами и плотностью расположения зерен нерегулярного растра и углом между направлениями прОецирования растров. Нарастание освещенности в муаровом пятне 4О происходит до того момента, пока рассогласование растров не достигнет размера зерна растра и особенно резко при начале рассогласования, что повышает точность контроля.

Для восстановления согласования изображений растров в районе, примыкающем например, к точке А искаженного участка, изображение растра 2 необходимо сместить на поверхности влево на величину рассогласования М 4, где М вЂ” масштаб увеличения; A — величина смещения растра в своей плоскости параллельно плоскости, образованной осями проекторов. Измерив величину Ь, находят величину h отклонения поверхности в точке А из соотношения

И.а

Ф

"$ 4+ ф А где,, f — углы между осями проекторов и направлением отклонения.

При отклонении поверхности от эталонной в противоположную сторону (поверхность 7) изображение растра 2 перемещают вправо, определяя тем самым величину

I отклонения в точке А .

Если на контролируемой поверхности имеется несколько участков с отклонениями от эталонной, равными отклонению в точке А, то согласование растров восстанавливается на всех таких участках одновременно, т. е. одним перемещением растра выявляют впадины или выпуклости, имеющие равные величины, что является дополнительным преимуществом способа, повышающим точность контроля.

При доводке поверхности признаком совпадения ее с эталонной на участке обработки является его потемнение, что обеспечивает контролирование поверхности непрерывно в процессе обработки, не прибегая к измерениям и анализу муаровых полос как в известном. Таким образом, способ обеспечивает повышение точности контроля и упрощение его.

Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной Способ контроля отклонения формы поверхности от эталонной 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике, а именно к устройствам для измерения радиуса сферических полированных поверхностей, и может быть использовано при контроле оптических деталей

Изобретение относится к способам оптического контроля деформации поверхности объекта и может быть применено в машиностроении для контроля криволинейности штампованных изделий

Изобретение относится к измерительной технике, к устройствам для определения формы и перемещений поверхности объекта

 

Наверх