Способ получения тонких пленок плазменным напылением и устройство для его осуществления

 

1. Способ получения тонких пленок плазменным напылением, включающий зажигание дугового разряда в атмосфере инертного газа между анодом и термокатодом, формирование контрагированной плазменной струи, введение в нее наносимого материала и конденсацию его паров на подложке, отличающийся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их электрофизических свойств и повышения производительности процесса, наносимый материал вводят в плазменную струю в виде порошка с размером частиц 30 - 45 мкм со скоростью 8 - 10 г/мин при скорости истечения плазменной струи 8 - 9 м/с, давлении инертного газа 5,3 - 8,0 Па и потенциале на аноде 300 - 400 В, затем плазменную струю подвергают повторному контрагированию, а конденсацию паров наносимого материала осуществляют при давлении 1,33 - 133 10-8 Па.

2. Устройство для получения тонких пленок плазменным напыливанием, содержащее испаритель, разрядную камеру, термокатод и анод с размещенными между ними соосно разрядной камере промежуточным электродом с конической полостью и диамагнитным расширителем плазмы, отличающееся тем, что, с целью повышения качества пленок за счет улучшения их электрофизических свойств и повышения производительности процесса, угол между образующей конической полости и осью симметрии разрядной камеры составляет 47 - 50o, а испаритель выполнен из немагнитного материала, размещен в расширителе плазмы и снабжен каналом для ввода порошка наносимого материала, а также плазменным и паровым каналами, геометрические оси которых параллельны геометрической оси расширителя, причем геометрические размеры каналов и расстояние между ними удовлетворяют выражениям 2 l1,2/d1,2 2,7, где d1,2 - диаметры парового и плазменного каналов соответственно; l1,2 - длины парового и плазменного каналов соответственно, см; ln - расстояние от точки пересечения геометрической оси каналов для ввода порошка с геометрической осью расширителя плазмы до парового канала, см.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области вакуумной металлизации, а именно, к устройствам электродугового нанесения защитных покрытий

Изобретение относится к электронной технике, в частности к способам получения тонких пленок плазменным реактивным нанесением в вакууме

Изобретение относится к области нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении для нанесения защитных покрытий

Изобретение относится к области микроэлектроники

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в машиностроении и станкостроительной промышленности

Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технике, предназначенной для нанесения покрытий при их одновременном облучении ускоренными ионами и используемой для модификации поверхностей материалов и изделий в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве и других областях

Изобретение относится к области нанесения покрытия и может быть использовано для нанесения покрытий на режущий инструмент с помощью электрической дуги в вакууме в атмосфере химически активных газов

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при упрочнении коленчатых валов двигателей внутреннего сгорания
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке
Изобретение относится к способу нанесения многослойного покрытия на режущий инструмент и может быть использовано в различных отраслях машиностроения при металлообработке

Изобретение относится к области нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме

Изобретение относится к вакуумно- электродуговому устройству для нанесения высококачественных покрытий и может быть использовано в машиностроении, инструментальной, электронной, оптической и других отраслях промышленности для модификации поверхностей материалов
Наверх