Способ изготовления сегнетокерамической мишени
(19)SU(11)1243397(13)A1(51) МПК 6 C23C14/38(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 17.01.2013 - прекратил действиеПошлина:
(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЕГНЕТОКЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ
Изобретение относится к технике получения керамических мишеней для нанесения покрытий в вакууме распылением и может быть использовано при изготовлении пленочных интегральных схем с сегнетоэлектрическими элементами. Целью изобретения является повышение воспроизводимости параметров получаемых пленок за счет стабилизации сегнетоэлектрического материала по всему объему мишени. Обработка мишени током разряда плотностью менее 10 мА/см2 снижает производительность способа, а использование плотности тока разряда более 400 мА/см2 приводит, как правило, к пробою мишени. При обработке мишени менее 9 ч изменения в ее объеме полностью не завершаются, что приводит к недостаточной воспроизводимости, а обработка более 12 ч нецелесообразна, так как дальнейших изменений в объеме мишени, повышающих воспроизводимость, не обнаружено. П р и м е р. Проводилось изготовление мишеней из керамического титаната бария. Порошок титаната бария с предварительно добавленной связкой (раствор поливинилового спирта) формовали при давлении 49
106 Па. Отформованные заготовки обжигали при температуре однократного спекания керамики титаната бария 1673 К в течение 2 ч. Обожженные заготовки дробили прессом, а затем дальнейшее измельчение проводили в агатовой мельнице. Из полученного порошка повторно формовали заготовки мишеней размером 80.40.10 мм и обжигали при температуре 1533 К в течение 2 ч. Затем обожженные заготовки помещали в вакуумную камеру и, установив давление рабочего газа как при напылении 6,65 Па, обрабатывали объем мишеней разрядным током 1,5 А, превышающим ток при напылении. При этом плотность тока обработки заготовки не превышала 400 мП/см2. После обработки в течение 9-12 ч происходила стабилизация тока разряда, что свидетельствуют о готовности мишени. Мишени, изготовленные по предлагаемому способу, перед напылением каждой серии пленок необходимо подвергать предварительной традиционной "тренировке" (очистке распыляемой поверхности) при закрытой заслонке, также как и мишени, изготовленные известными способами. Пленки, полученные при распылении током разряда 0,5 А в магнетронном ионно-плазменном устройстве с использованием мишеней, изготовленных по предлагаемому способу, имели в серии из 10 напылений 
1630-1680, а tg 
= 0,03-0,035, т.е. разброс по составляет 
1,50, а по tg 7,7%
Формула изобретения
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СЕГНЕТОКЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ для вакуумного нанесения пленок, включающий формовку заготовки из материала мишени с последующим обжигом, отличающийся тем, что, с целью повышения воспроизводимости параметров получаемых пленок, после обжига мишень обрабатывают током разряда плотностью 10-400 мА/см2 в течение 9-12 ч.
