Способ изготовления фотополимерных печатных форм

 

Изобретение относится к полиграфической промышленности для получения печатной продукции и позволяет повысить производительность за счет снижения длительности облучения. Для этого непосредственно перед проведением предварительного облучения фотополимериззпощуюся пластину пропускают между двумя вращающимися металлически ш валками, зазор между которыми на 15-50 MKNj меньше толщины пластины , фрикция вращения валков составляет 1,01-1,25, а линейная скорость движения пластины при прохождении между валками составляет 0,05-1 к/мин. При пропускании фотополимеризующейся пластины через валки происходит уплотнение светочувствительного слоя и разрушение микрокашшляров, образовавшихся как в процессе формирования слоя из раствора фотополимеризующейся композиции. В результате восстанавливается исходная светочувствительность фотополимеризующихся пластин и обеспечивается возможность нормализации технологического процесса изго-. товления фотополимерных печатных форм. 1 таблица. i С

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУбЛИК

<19) (И) А1 (so 4 С 03 F 7/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ н лвто сиомм свидетельству

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3810954/24-10 (22) 10. 11 ° 84 (46) 30.08.86. Бюл. У 32 (71) Украинский научно-исследователь.ский институт полиграфической промышленности (72) О.А.Белицкий, М.К.Гладилович, А.В.Вайнер, Н.д. Щерба н В.М.Ковальшин (53) 68 1.617:655.22(088.8) (56) Патент Канады В 642815, кл. G 03 F опублик. 1970.

Патент Франции Р 1317380, кл. А 01 И, опублик. 1966. (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕР . НЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ (57) Изобретение относится к полиграфической промышленности для получения печатной продукции и позволяет повысить производительность эа счет снижения длительности облучения. Для этого непосредственно перед проведением предварительного облучения фотополимеризующуюся пластину пропускают между двумя вращающимися металлическими валками, зазор между которыми на 15-50 мк; меньше толщины пластины, фрикция вращения валков составляет 1,01-1,25, а линейная скорость движения пластины при прохождении между валками составляет 0,05-1 м/мин.

При пропускании фотополнмеризующейся пластины через валки происходит уплотнение светочувствительного слоя и разрушение микрокапилляров, образовавшихся как в процессе формирования слоя из раствора фотополимеризующейся композиции. В результате восстана- @

Я вливается исходная светочувствительность фотополнмариауипинсн пластин и Q) обеспечивается возможность нормализации технологического процесса изготовления фотополимерных печатных форм. 1 таблица.

1254416 ленными на расстоянии 180 мм от фотополимеризующейся пластины. На пластину устанавливают заслонку, предохраняющую ее от воздействия света. Заслонка снабжена механизмом перемещения со скоростью Ч между лампами н образцом устанавливают светофильтрполяроидную пленку ТАД. Включают лампы и перемещение заслонки, постепенно

10 открывая для действия света образец фотонолимеризующейся пластины. По окончании облучения образец снимают с установки, помещают в вымывную машину и вымывают О, 15Х-ным водным рас15 твором гидроокиси натрия в течение

12 мин, после чего вынимают иэ вьпчывной машины, промывают водой н высушивают в естественньж условиях. С помощью штангенциркуля измеряют длину вы10 мытой зоны на образце S и определяют индукционный период пластины по формуле:

Изобретение относится к способу изготовления фотополимерных печатных форм, которые применяются в полиграфической промышленности для получения печатной продукции.

Цель изобретения - повышение про.изводительности путем снижения длительности облучения.

Существо способа заключается в тог., что непосредственно перед проведением предварительного облучения фотополимеризующуюся пластину пропускают между двумя вращающимися с различной скоростью металлическими валками, причем зазор между ними на 15-50 мкм меньше толщины фотополимериэующейся пластины, фрикция вращения валов

1,01 — 1,25, а линейная скорость движения пластины при прохождении между валками 0,05 - 1,0 м/мин. При пропускении фотополимериэующейся пластины через валки происходит уплотнение светочувствительного слоя и разрушение микрокапилляров, образовавшихся как в процессе формирования слоя из раствора фотополимеризующейся композицни, так и в процессе хранения пластин в результате испарения остаточных растворителей. Это приводит к уменьшению концентрации растворенного молекулярного кислорода в слое и снижению скорости диффузии кислорода воздуха вглубь фотополимеризующегося слоя во время предварительного облучения В результате восстанавливается исходная светочувствительность фотополимернэующихся пластин, утраченная ими в процессе хранения, и обеспечивается возможность нормализации технологическо- го процесса изготовления фотополимерных печатных форм.

П р и и е р 1. Из фотополимеризующейся пластины "Целлофот-2" типа Б (ТУ 6-17-1841-8 1), представляющей собой слой фотополимеризующейся композиции на основе ацетосукцината целлюлозы толщиной 0,7 мм и закрепленной на металлической подложке толщиной

0,25 мк, вырезают образцы форматом, 10 х 100 и 80 х 100 мм.

Образцы форматом 10 х 100 мм используют для определения индукционного периода фотополимеризующейся пластины.

Индукционный период определяют следующим образом. Образец укладывают иа стол установки, снабженной люминесцентнъми лампами ЛУФТ-60, установn S

"wp, °

Толщину образцов фотополимеризую-хся пластин определяют при помощи крометра.

Устанавливают зазор между валками а 30 мкм меньше толщины фотополиме30 ризующейся пластины, обеспечивают фрикцию между валками равную 1,1, скорость движения образца 0,5 м/мин, при этих условиях йропускают между валками образец фотополимериэующейся пластины и определяют, как описано выше, индукционный период.

Образец фотополимеризующейся пластины форматом 80 х 100 мм пропускают при вышеописанных условиях через вал4р ки и производят предварительное облучение лампами ЛУФТ-60, установленными на расстоянии 180 мм от фотополимеризующейся пластины, через полярондную пленку ТАЦ. Время предварительного

41 облучения составляет Э мин.

Оптимальное время экспонирования определяют опытным путем, зкспонируя. образцы, подготовленные, как описано выше, в течение различного времени,и

>0 визуально оценивая качество полученных после вымывания, промывки и сушки фотополимерных печатных форм.

Времени вымывания 12 мин .достаточно для полного удаления иэ пробелов неэанолимеризованной фотополимеризую щж;ся композиции.

Для определения характеристик полученных фотополимерных печатных

1254416 форм готовят образцы, содержащие миру разрешающей способности, миру выделящей способности, отдельно стоящие точки диаметром 200 мкм, а также тест-формы для исследования удельного сопротивления печатающих элементов сдвигу.

Разрешающую способность определяют, рассматривая миру через лупу с увеличением х 10. 10

Выделяющую способность определяют, измеряя размеры наиболее мелких элементов миры при помощи оптической системы .прибора ПИТ-З.

Угол у основания печатающего эле- 15 мента измеряют при помощи транспортира на профиле точки диаметром

200 мкм, зарисованном на часовом проекторе ЧП-2.

Удельное сопротивление печатающих 20 элементов сдвигу определяют на разрывной машине.

В результате проведенных испытаний получены следующие результаты: толщина фотонолимериэующейся пластины 25

1,025 мм, индукционный период до валковой обработки 4,5 мин, зазор между валками 0,995 мм, индукционный период после валковой обработки 3,5 мин, время предварительного облучения

3 мин, оптимальное время экспонирования 7 мин, разрешающая способность

100 см, выделяющая сиособность

40 мкм, угол у основания печатающих элементов 70, удельное сопротивление печатающих элементов сдвигу 27 ИПа, Параллельно готовят образцы иэ той же пластины по способу-прототипу, т. е. без пропускаиия пластины между .

Валками и испытывают их ° как Описано 40 выше. В результате испытаний получены следующие результаты: толщина фото4 полимеризующегося слоя 1,025 мм, индукционный период 4,5 мин, время предварительного облучения 3 мин, оптимальное время экспонирования 12 мнн, разрешающая способность 100 см, выделяющая способность 70 мкм, угол у основания печатающих элементов 68 удельное сопротивление печатающих элементов сдвигу 27 ИПа.

П р и и е р 2-5. Из фотополимеризующихся пластин, взятых из разных партий с различным сроком хранения, вырезают образцы н испытывают их, как описано в примере 1.

Характеристики образцов фотонолимеризующихся пластин по примерам, режимы их обработки валками, режимы технологического процесса изготовления фотополимерных печатных форм и их показатели качества приведены в таблице.

Формула изобретения

Способ изготовления фотополимерных печатных форм, включающий предварительное облучение, экспонирование через негатив, вымывание, промывку и сушку, отличающийся тем, что, с целью повьпаения производительности за счет снижения длительности облучения процесса, фотополимериэующуюся пластину непосредственно перед предварительным облучением дополнительно пропускают между двумя вращающимися металлическими валками, причем зазор между ними íà 15-50 мкм меньше толщины пластины, фрикция вращения валков составляет 1,01-1,25, а линейная скорость движения пластины при прохождении между валками составляет 0,051 м/мин.

1254416

Режим обработки валками .

Пример, У

Индукционый неЗазор меж- Фрикция ду валками, вращемм ния валСкорость движения фотопоков

Толщин ндукционризующих ся пласпе иод, мин тин, м/мин

1 1в025 4в5 Оь995

2 0,980 7 0,96

3 0>995 5 4 0 98

4 1005 4 0 955

5 Оэ995 3э5 0 ° 970

1,1 0,5 3,5

101 02 36

1,05 1

3,55

1, 25 О, 05 3, 45

1э 15 0 ° 8 314

Прототип 1,025 4,5.

Продолжение таблицы, Режимы технологического процесса изготовления фотополимерных пе чатных форм

Пример

Характеристики полученных фотополимерных печатнйх форм

Разрешающая способВыделяющая способУгол у основа ьное ротиние

Оптимальное

Время предваритель» ного облучения, мин

Время вымыва ния, MHH атаюэления ность, «1 см ность мкм печа

«г е таювремя экспотов игу, щих элениро,вания, мин ментов, град

70 27

71 27

7 12

7 12

100

7 12

7 12

7 12

100

40 70 27

40 69 27

40 68 28

Про- .. то- тин 3

100

100 70 68

12 12

ВНИИПИ Заказ 4716/49 Ти аж 436

Подписное

Произв.-полигр. пр-тие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

3

3 3

4 3

Характеристики фотополимери зующихся пластин до обработки риод после пропускания между валка

Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм Способ изготовления фотополимерных печатных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к проекционной литографии и может быть использовано в процессах изготовления интегральных, оптических, оптоэлектронных схем и оригиналов с субмикронными размерами элементов

Изобретение относится к полиграфической промьгашекности и позволяет повысить эксплуатационные характеристики печатной формы

Изобретение относится к полиграфической технике, к корректуре офсетных печатных форм

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх