Устройство для нанесения фотопроводниковых слоев в вакууме

 

1. Устройство для нанесения фотопроводниковых слоев в вакууме, содержащее подложкодержатель для герметичной установки на него цилиндрической подложки, выполненный в виде стяжной трубы со сквозными продольными пазами и системы подвода и отвода теплоносителя в виде двух коаксиальных труб, установленных внутри стяжной трубы, и двух фланцев с прокладками, установленных на стяжной трубе с возможностью вращения, и испарители, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества покрытия за счет повышения равномерности распределения температуры на всей поверхности подложки, на наружной трубе системы подвода и отвода теплоносителя выполнены отверстия, расположенные равномерно, а их площадь равна 0,05-0,1 площади поперечного сечения промежутка между трубами, а расстояние между отверстиями равно 0,33-0,5 расстояния между наружной трубой системы подвода и отвода теплоносителя и внутренней стенкой устанавливаемой подложки.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что система подвода и отвода теплоносителя установлена неподвижно и коаксиально стяжной трубе.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки

Изобретение относится к вспомогательным устройствам, входящим в технологический комплекс для нанесения покрытий при производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к области аппаратурного оформления технологий нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на бутылки и к транспортирующему средству для них

Изобретение относится к способу нанесения нанокомпозитных покрытий на плоские поверхности деталей и устройству для его реализации

Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме

Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для электронно-лучевых процессов обработки, в том числе полировки, изделий оптики и микроэлектроники
Наверх