Устройство для позиционирования образца в вакууме

 

Изобретение относится к электронной технике. Устройство для позиционирования образца в вакуу.ме содержит вакуумную ка меру с вводом движения с гибким уплотнительным элементом 1 (сильфоном), на котором закреплен стакан (С) 2 с узлом 3 позиционирования и установочным гнездом 4. В полости С 2 установлен термоэмиссионный нагреватель 6, размещенный на стержне 7 из термостойкого электроизоляционного материала и закрепленный на фланце 8, имеющем возможность перемешаться вдоль оси стержня С 2. Фланец 8 со С 7 через уплотнительную прокладку пристыковывается к фланцу 5 и производится откачка полости стержня до высокого вакуума. Изменением тока накала, изменение.м величины его эмиссионного тока и подбором величины ускоряющего напряжения для эм.митированных электронов задается требуемая температура образца в диапазоне от комнатной до 1ШО°С. 1 ил. i (Л

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

„„SU„„14066 1

А1 (594 Н01 J 372

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ЗСР,".,)щ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ,"" .; ц

К А BTOPCKOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ВЯ д ег (21 ) 4130824/24-21 (22) 02.07.86 (46) 30.06.88. Бюл. М 24 (71) Восточно-Сибирский технологический институт (72) Ю. И. Асалханов, Д. Д. Дондоков и И. Т. Пронькинов (53) 621.52 (088.8) (56) Эшбах Г. Л. Практические сведения по вакуумной технике. М. Л.: Энергия, 1966, с. 149.

Александрова A. Т. Оборудование элсктровакуумного производства. М.: Энергия.

1974, с. 285. (54) УСТРОИСТВО ДЛЯ ПОЗИЦИОНИРОВАНИЯ ОБРАЗЦА В ВАКУУМЕ (57) Изобретение относится к электронной технике. Устройство для позиционирования образца в вакууме содержит вакуумную каФ меру с вводом движения с гибким уплотнительным элементом 1 (сильфоном), на котором закреплен стакан (С) 2 с узлом 3 позиционирования и установочным гнездом 4. В полости С 2 установлен термоэмиссионный нагреватель 6, размещенный на стержне 7 из термостойкого электроизоляционного материала и закрепленный на фланце 8, имеющем возможность перемещаться вдоль оси стержня С 2. Фланец 8 со С 7 через уплотнительную прокладку пристыковывается к фланцу 5 и производится откачка полости стержня до высокого вакуума. Изменением тока накала, изменением величины его эмиссионного тока и подбором величины ускоряющего напряжения для эммитированных электронов задается требуемая тс мпература образца в диапазоне от комнатной qo

1000 С. 1 ил.

Устройство для позиционирования образца в вакууме Устройство для позиционирования образца в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано при анализе эмиттированных поверхностью твердого тела частиц по направлению, энергии и массе в сверхвысоковакуумных установках

Изобретение относится к электронной спектроскопии

Изобретение относится к приборостроению

Изобретение относится к области электронной микроскопии и может быть использовано при конструировании устройств для перемещения объектов в просвечивающих электронных микроскопах

Изобретение относится к технике микроскопии и может быть использовано при исследовании физических свойств металлов в условиях сочетания ультразвукового и статического воздействий на кристаллы и непосредственного изучения этих структур в ,.

Изобретение относится к области оптики и предназначено для использования в качестве дефлектора в системах управления положением оптического луча в пространстве

Изобретение относится к области научного приборостроения и может быть использовано при выпуске просвечивающих электронных микроскопов

Изобретение относится к области микроэлектронной техники и может быть использовано при разработке технологического и тестового оборудования

Изобретение относится к электровакуумным приборам и может быть использовано для управления положением объектов в растровом электронном микроскопе

Изобретение относится к туннельной электронной микроскопии и может быть использовано в приборах для исследования физических свойств поверхностей твердых тел с разрешающей способностью порядка размеров атомов

Изобретение относится к области вакуумного машиностроения и может быть использовано в вакуумных установках для нанесения пленочных материалов и для проведения исследований материалов в сверхвысоком вакууме

Изобретение относится к диафрагмирующим управляемым устройствам электронной микроскопии и может использоваться в качестве исполнительного механизма, работающего автономно в вакууме
Наверх