Способ получения рельефного изображения на металлической подложке

 

Изобретение отно сится к способу получения рельефного изображения на металлической подложке, позволяет улучшить качество получаемого изображения за счет уменьшения градационных искажений этого изображения. Для этого подложку перед нанесением на нее копировального слоя обрабатывают 0,1- 5,0%-ным раствором эпоксидной диановой смолы в -толуоле или этилацетате, или ацетоне, или этилцеллозольве. Предварительную обработку подложки проводят 0,5-5%-ным раствором гидроксида натрия и/или гидроксида калия в этаноле. Для усиления получаемого качества перед экспонированием подложку с нанесенным копировальньЕМ слоем выдерживают при температуре 18-30°С в течение 12-48 ч или при температуре 80-120°С в течение 0,5-2,0 ч. 1 з,п. ф-лы, 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН (19) (!!) F 00 (50 4

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИД

Н А BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Изобретение относится к технологическим процессам изготовления печатных форм и может быть использовано в полиграфической, текстильной, легкой, химической, пищевой промышленности 5 для производства изобразительной продукции, этикеток, обоев, упаковки.

Цель изобретения. — улучшение качества изображения за счет уменьшения градационных искажений этого иэображения.

Согласно предлагаемому способу получения рельефного изображения на ме таллической подложке путем предварительной обработки подложки, нанесения <

1э на подложку копировального слоя, сушки, экспонирования через фотоформу, проявления и травления предварительную обработку подложки проводят 0,55,0X -ным раствором гндроксида натрия и/или гидроксида калия в этаноле, а перед нанесением на подложку копировального слоя ее дополнительно обрабатывают 0,1-57.-ным раствором эпоксидной диановой смолы в толуоле или этилацетате, или ацетоне, или этилцеллозольве.

В некоторых случаях с целью повышения равномерности проявления подложку с нанесенным копировальным слоГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР (21) 4269560/29-12 (22) 29,06.87 (46) 30.01.89. Бюп, № 4 (71) Центральный научно-исследовательский институт бумаги и Центральный научно-исследовательский институт экономики и труда бумажной промьпппенности (72) А.Г.Десятник, Б.С.Покарев, Д.А. Гусельщиков, В. P. Бретош, Г.Б.Штрейс, А.M.Ãoôìàí и А.Л.Дубовский (53) 655.22 (088.8) (56) Авторское свидетельство СССР

¹ 46394!, кл. В 41 С 1/02, 1968.

Технологические инструкции по фотоцинкографским процессам. — М.: Книга, 1970, с. 133, 40, 168, 173. (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНОГО

ИЗОБРАЖЕНИЯ HA МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ (57) Изобретение относится к способу получения рельефного изображения на металлической подложке, позволяет улучшить качество получаемого изображения за счет уменьшения градационных искажений этого изображения. Для этого подложку перед нанесением на нее копировального слоя обрабатывают 0,1—5,0Е-ным раствором эпоксидной диановой смолы в толуоле или этилацетате, или ацетоне, или этилцеллозольве, Предварительную обработку подложки проводят 0,5-5Х-ным раствором гидроксида натрия и/или гидроксида калия в этаноле. Для усиления получаемого качества перед экспонированием подложку с нанесенным копировальным слоем выдерживают при температуре 1 8-30 С в течение 12-48 ч или при температуре

80-120 С в течение 0,5 — 2,0 ч. s.n. ф-лы, l табл.! 455334

20 ние 48 ч.

55 ем дополнительно выдерживают перед о экспонированием при 18-30 С в течение

12-48 ч или при 80-120 С в течение

0 5-2,0 ч.

В качестве подложки используют сталь, медь, латунь, в качестве копировального слоя — фоторезисты типа

ФП (ТУ 6-14-424-78) или ФН (ТУ 6-14631-78), в качестве фотоформы — нега,тив или позитив, в качестве проявителя — слабый щелочной водный раствор (рН 7,5-9,0) или уайт-спирит, в качестве травящего агента — азотную кислоту, в качестве эпоксидных диановых смол — смолы марок ЭД-22, ЭД-16, ЭД-20.

Пример 1. Стальную подложку ! обрабатывают 0 5Х-ным раствором гиду о роксида натрия в этаноле, а затем

12%- ным раствором эпоксидной смолы ЗД-32 в толуоле и наносят на нее копировальный слой на основе хинондиа, зидов (ФП-27-18-ВС, ТУ 6-14-424-78), о сушат при 18 С в течение 10 мин. Перед экспонированием материал подвергают выдержке при 18 С в течение

20 ч, экспонируют 10 мин, проявляют в слабощелочном водном растворе (рН

7,5-9,0) в течение 4 мин и травят

2 ч.

Пример 2. Медную подложку

: обрабатывают 27.-ным раствором гидрок( сида калия в этаноле, а затем 0,17.

1 аствором эпоксидной смолы ЭД-20 в эталацетате и наносят на нее семикратно пульверизатором копировальный слой на основе хинондиазидов (ФПо, 051Т), сушат при 25 C в течение 7мин.

Перед экспонированием материал подвергают выдержке,при 30 С в течение о

12 ч, экспонируют 1! мин, проявляют в слабощелочном водном растворе (рН

7,5-9,0) азотной кислоты в течение

3 мин и травят 4 ч.

Пример 3. Латунную подложку обрабатывают 5Х-ным раствором смеси гидроксида натрия и гидроксида калия в этаноле, затем 57.-ным раствором эпоксидной смолы ЭД-16 в ацетоне, наносят на нее восьмикратно пульверизатором копировальный слой на основе циклокаучука (ФН-11, ТУ 6-14-681-78), сушат при 35 С в течение 5 мин. Полученный материал экспонируют 6. мин, затем проявляют в уайт-спирите в течение !2 мин и травят 3 ч. При этом перед экспонированием необходима вью держка при 30 С в течение 12 ч.

Пример 4.Стальную подложку обрабатывают 57-ным раствором гидроксида натрия в этаноле, затем 2%ным раствором эпоксидной смолы ЭД-20 в этилцеллозальве, наносят на нее десятикратно пульверизатором копировальный слой на основе циклокаучука (ФН-11К), сушат при 20 С в течение

10 мин. Полученный материал экспонируют 8 мин, затем проявляют в уайтспирите в течение 0 мин и травят

2,5 ч. При этом перед экспонированием о необходима выдержка при 100 С в течение 1 ч.

Пример 5. Процесс ведут аналогично примеру 1, но используют для обработки стальной подложки 1%-ный раствор гидроксида натрия- в этаноле и 47.-ный раствор эпоксидной смолы

ЭД-22 в смеси толуола с этилацетатом, о сушку осуществляют при 20 С в течение 7 мин, выдержку при 25 С в тече25 Пример 6. Стальную подложку обрабатывают 0,5Х-ный раствором гидроксида калия в этаноле, затем обрабатывают 37.-ным раствором эпоксидной смолы ЭД-20 в смеси толуоле с этил-. ацетатом и ацетоном и наносят на нее шестикратно пульверизатором копировальный слой на основе циклокаучуков (ФН-11К), сушат при 220 С в течение

6 мин.-Перед экспонированием материо ал подвергают выдержке при 80 С в течение 2 ч, экспонируют 10 мин, проявляют в уайт-спирите в течение 5 мин и травят 2,2 ч.

Пример 7. Медную подложку обрабатывают 0,37-ным раствором гидроксида натрия в этаноле, затем 27.— ным раствором эпоксидной смолы ЭД-16 в смеси толуола, ацетона и этилцеллозольва и наносят на нее пятикратно пульверизатором копировальный слой на основе ФН-11, сушат при 20 С в тео чение 8 мин. Перед экспонированием материал подвергают выдержке при о

120 С в течение 0,5 ч, экспонируют

9 мин, проявляют в ауйт-спирите в течение 4 мин и травят 1 ч.

Показатели качества полученного изображения по примерам 1-7 и известным способам приведены в таблице.

Данные, приведенные в таблице, показывают что предлагаемый способ по> лучения рельефного изображения на металлической подложке по сравнению с

1455334 известным позволяет улучшить качество иэображения за счет уменьшения градационных искажений в 1,6-2,4 раза. ванием подложку с нанесенным копироо вальным слоем выдерживают при 18-30 С о в течение 12-48 ч или при 80-120 С в течение 0,5-2,0 ч.

Пример Показатели качества полученного рельефного изображения

Формула изобретения

1. Способ получения рельефного изображения на метаплической подложке путем предварительной обработки подложки,-нанесения копировального слоя, сушки, экспонирования через фотоформу, проявления и травления, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества получаемого изображения за счет уменьшения градационных искажений этого иэображения, предварительную обработку подложки проводят 0,5-5,0%-ный раствором гндроксида натрия и/ипи гидроксида калия в этаноле, а перед нанесением на подложку копировального слоя ее до.— полнительно обрабатывают 0,1-5,0 -ным раствором эпоксидной диановой смолы в толуоле или этилацетате, или ацетоне, или этипцеллозольве.

2. Способ по и 1, о т л и ч а юшийся тем, что перед экспонироВысота релье фа, мм

Гр ад ацио нные искажения, Х

1,5

15 2

41

24

20

1,5

29

197

25 7

1,6

Известный

1,5

Составитель Л, Носырева

Редактор Л. Пчалинская Техред М. Ходанич Корректор Н. Король

Производственно;полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 г

Заказ 7455/54 Тираж 412 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета,по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Способ получения рельефного изображения на металлической подложке Способ получения рельефного изображения на металлической подложке Способ получения рельефного изображения на металлической подложке 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для растрового синтеза фотокопий изображений

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к формированию фоторезистивной маски для обратной фотолитографии

Изобретение относится к полиграфии и позволяет повысить качество форм и обеспечить возможность использования пе.чатной формы как для плоской, так и для глубокой печати

Изобретение относится к полиграфической , электронной и радиотехнической промьшшенности и позволяет улучшить качество композиции для повьшения тиражеустойчивости печатных форм с металлической сеткой

Изобретение относится к изготовлению фотополимерных печатных форм и позволяет повысить качество фотополимерных печатных форм путем снижения усадки печатающих элементов

Изобретение относится к полиграфии и позволяет улучшить качество печатной формы за счет снижения ее липкости для повышения оптической плотности изображения и снижения графических искажений

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении приборов на поверхностных акустических волнах

Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет повысить качество восстановленных фотошаблонов, Облучсчют дефектное место фотошаблона сфокусированным лазерным излучением со стороны маскирующего слоя и со стороны основания а Осаждают продукт фоторазложения со стороны основания фотошаблона до уменьшения мощности лазерного излучения на 70- 85%, а со стороны маскирующего слоя - до получения оптически плотного слоя Показателем качества ремонта дефектов является интегральная оптическая плотность дефектного места после осаждения , определяемая фотометрированием

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх