Способ изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции

 

Изобретение относится к способу изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции. Позволяет повысить производительность способа и улучшить качество форм. Для этого фотополимеризующуюся композицию перед заливкой в прозрачную кассету обрабатывают путем пропускания композиции через магнитное поле. Напряженность магнитного поля равна 2<SP POS="POST">.</SP>10<SP POS="POST">5</SP>А/м. Скорость пропускания выбирают равной 2-2,5 м<SP POS="POST">3</SP>/ч. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (19) (11) А1 (S1) 4 С 03 F 7/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ П(НТ СССР (21) 4226364/30-12 (22) 08.04.87 (46) 07.09.89. Бюл. У 33 (71) Украинский полиграфический институт им. Ив.Федорова и Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промышленности (72) Т.И.Онищенко, Э.Э.Лазаренко, О.Н.Пальчевский и О.P.Êóðîïàñü (53) 655.321 (088.8) (56) Лазаренко Э.Т. Фотохимическое формирование печатных форм. — Львов:

Вища школа, 1984, с.152.

Изобретение относится к технологии изготовления и применения фотополимерных печатных форм иэ жидких фотополимеризующихся композиций и может быть использовано в полиграфической, радиоэлектронной промышленностях и других отраслях народного хозяйства.

Целью изобретения является повышение производительности способа и улучшение качества фотополимерных печатных форм.

Способ состоит в том, что перед заливкой в прозрачную кассету с негатином фотополимериэующуюся композицию подвергают обработке посредством пропускания через магнитное поле напряженностью 2 10 А/м со скоростью

2-2,5 м3/ч. При наложении магнитного поля на текущую фотополимеризующуюся композицию имеют место структурные изменения молекул фотоинициатора по2 (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ НА ОСНОВЕ ЖИДКОЙ

ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩЕЙСЯ КОМПОЗИЦИИ (57) Изобретение относится к способу изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимериэующейся композиции и позволяет повысить производительность способа и улучшить качество форм. Для этого фотополимериэующуюся композицию перед заливкой в прозрачную кассету обрабатывают путем пропускания композиции через магнитное поле. Напряженность магнитного поля равна 2 10 А/м. Ско5 рость пропускания ныбирают равной

2-2,5 м /ч. 1 табл. лимеризации, обуславлинающие увеличение светочувствительности компози- ции и, следовательно, сокращение длительности экспонирования.

Пример 1. Жидкую фотополимеризующуюся композицию, представляющую собой смесь, мас.ч.: о(,() -метакрилди(диэтиленгликоль)фталат 79,0-89,5

Триэтиленгликольдиметакрилат 10,0-20,0

Метилоный эфир бенэоина 0,5-1,0

I перед заливкой в прозрачную кассету экспонирующей установки ФЛ-48 обрабатывают пропусканием через противо-, накипное магнитное устройство ПМУ-1, представляющее собой набор кольцевых постоянных магнитов н цилиндрическом корпусе. При постоянной величине напряженности магнитного поля в устрой3 1506429 4 стве 2 10 A/ì степень его воздейст- Пример 3. Обработку проводят вия на композицию определяется ско- согласно примеру 2 при скорости проростью нагнетания композиции через пускания композиции 2,5 мэ/ч. устройство. После удаления незаполи5

Пример 4 ° Обработку проводят меризовавшейся композиции определяют согласно примеру 2 при скорости просветочувствительность фотополимери- пускания композиции 1 м /ч. э зующейся композиции по величине энер- Пример 5. Обработку проводят гетической экспозиции Н, обеспечива- согласно примеру 2 при скорости проэ

3 ющей получение фотоструктурированно- 10 пускания композиции 3 м /ч. го (сшитого) полимера толщиной 1,0 мм: Значения светочувствительности, времени экспонирования и величины э И ЯрТ искажений размеров печатающих элементов для указанных в примерах 1-5 значений скорости пропускания композиции через магнитное поле приведены в таблице

Формула и э о б р е т е н и я

Шм-Шв — -- ь

Шя где Ш„ширина печатающего элемента на негативе, мкм; ширина печатающего элемента на форме, мкм. м е р 2. Обработку проводят примеру 1 при скорости прокомпозиции 2,3 м /ч. э

Ш Р

При согласно пускания

Искажения раэмеров печатаюСветочувствитепьность

Время экспониПример

Скорость нагнетания компоэиции

l1* и

l рования, с компоэицип череэ омаг вичивающее устройство м /ч щих элементов, Х

2,3

2,5

14,1

14,0

14,0

l1,9

12,2

8

8

11

1О где Š— энергетическая освещенность кассеты (для экспонирующей установки ФЛ-48 равна

88,2 Вт/м );

Т, — время экспонирования поля, сшитого на толщину 1,0 мм.

Для используемой фотополимеризующейся композиции величина Т,=80 > с

С =14,1- 1О Дж м, при скорости пропускания 2 м /ч, Жидкую фотополимеризующуюся композицию заливают в прозрачную касету экспонирующей установки ФЛ-48 и экспонируют через тест-негатив УНИИПП, смонтированный на одной из стенок кассеты в течение 80 с. Тест-негатив содержит шрифтовые, штриховые и раст ровые группы элементов. После удаления неэаполимеризовавшейся композици оценивают качество фотополимерной пе чатной формы по величине искажений размеров печатающих элементов

Как видно из приведенных примеров

20 и таблицы, обработка фотополимеризующейся композиции магнитным полем позволяет сократить время ее экспонирования яа 20-30Х не затрачивая при этом дополнительной энергии, и

25 снизить на 10-307. величину графических искажений.

30 Способ изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой . фотополимеризующейся композиции, соси тоящий в заливке жидкой фотополимеризующейся композиции в прозрачную кассету и формировании печатного рельефа путем экспонирования композиции через негатив с последующим удалением незаполимеризовавшейся композиции, отличающийся тем, . 4p что, с целью повышения производительности способа и улучшения качества форм, композицию перед заливкой обрабатывают путем пропускания ее через магнитное поле напряженностью 2"

45 г«10 А/м, при; этом скорость пропускания магнитной композиции составляет

2-2,5 м /ч.

Способ изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции Способ изготовления фотополимерных печатных форм на основе жидкой фотополимеризующейся композиции 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии микроэлектроники

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано при формировании рисунков микросхемы методом фотолитографии

Изобретение относится к способу изготовления фотополимерных печатных форм на основе из жидкой фотополимеризующейся композиции

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении высокоразрешающих шаблонов для полупроводниковых приборов и интегральных микросхем

Изобретение относится к способу обработки фотополимерных печатных форм, позволяет повысить качество печатной формы путем уменьшения разрушающего действия вымывного раствора , уменьшить энергетические затраты и расход вымьшного раствора

Изобретение относится к устройствам для растрового синтеза фотокопий изображений

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к формированию фоторезистивной маски для обратной фотолитографии

Изобретение относится к полиграфии и позволяет повысить качество форм и обеспечить возможность использования пе.чатной формы как для плоской, так и для глубокой печати

Изобретение относится к полиграфической , электронной и радиотехнической промьшшенности и позволяет улучшить качество композиции для повьшения тиражеустойчивости печатных форм с металлической сеткой

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх