Диазотипный материал

Авторы патента:

G03C1/52 - составы, содержащие диазосоединения в качестве светочувствительных веществ (G03C 1/64 имеет преимущество)

Диазотипный материал, состоящий из стеклянной подложки и светочувствительного слоя, включающего диазосоединение - n-диазодиэтиланилин хлорцинкат, азосоставляющую - амид циануксусной кислоты, полимерное связующее, отличающийся тем, что, с целью увеличения скорости получения конечной копировальной плотности изображения, светочувствительный слой содержит в качестве полимерного связующего смесь аминоформальдегидного олигомера формулы I или II где n = 2 - 4 и R = C₂H₄OC₂H₅, мол.м 500 - 600, где m = 1 и R₁ = CH₃ мол.м 400 или m = 2 - 3 и R₁ = H, CH₃ 30 (неразделимая фракция), мол.м 350 - 1050, и привитого сополимера желатина с глицидилметакрилатом формулы III где k = 10 - 50 - количество мономерных глицидилметакрилатных звеньев в привитых цепях, полиглицидилметакрилатные цепи привиты к боковым группам аминокислот лизина, гидроксилизина, гистидина, мол.м 8700 - 142000, дополнительно содержит смачиватель формулы IV
и кислотный стабилизатор - муравьиную или лимонную кислоту - при следующем соотношении компонентов, мас.%:
n-диазодиэтиланилинхлорцинкат - 17,1 - 19,0
Амид циануксусной кислоты - 5,3 - 5,8
Аминоформальдегидный олигомер формулы I или II - 29,0 - 57,1
Привитый сополимер желатина с глицидилметакрилатом формулы III - 14,3 - 43,4
Смачиватель формулы IV - 0,1 - 1,4
Муравьиная или лимонная кислота - Остальное

Композиция адгезионного подслоя для диазотипного материала // 1468244

Композиция светочувствительного слоя для диазотипного материала // 1468243

Композиция для изготовления светочувствительного слоя диазотипного материала // 1455903

Копировальный материал // 1423430

Изобретение относится к области производства диазотипных копировальных материалов и позволяет улучшить качество материала для повьшения оптической плотности изображения

Позитивный фоторезист // 1364051

Изобретение относится к позитивным фоторезистам на основе о-нафтохинондиазидов, применяемых в процессах производства радиоэлектронных и микроэлектронных изделий и сверхбольших схем методами контактной и проекционной фотопечати

Способ получения 2-диазо-7-ди(низший алкил)аминофлуоренов // 1246559

Позитивный фоторезист // 1217128

Способ получения везикулярного фотографического изображения // 1216764

Изобретение относится к способам получения бессеребряного фотографического изображения и может быть использовано в электронике

Замещенные анилиды ацето (бензоил) уксусной кислоты в качестве азосоставляющей диазотипных материалов // 1198059

Композиция адгезионного подслоя пленочного материала для лазерных гравировальных автоматов // 2293754

Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов

Азокомпоненты для светочувствительных диазотипных материалов // 1514137

Композиция для изготовления светочувствительного слоя везикулярного материала // 1514138

Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, в частности к композиции для изготовления везикулярных материалов, которые могут быть использованы для получения копий микрофильмов

Азокомпоненты для светочувствительных диазотипных материалов // 1526436

Изобретение относится к фотографии, в частности к применению производных 22-дифтор- 4-метил-1.32-диоксабориновформулы Cf ) где R -Н, R-C Н R или вместе с нЛ I 4 6 4 р R образует ароматические заместители 4-метоксибензо- -2 ,1 или 2,1 ,CH 0,С1

Диазотипный материал // 1538739

Светочувствительный диазотипный материал // 1540529

Способ получения светочувствительной композиции негативного диазотипного материала // 1721581

Способ оптической записи и воспроизведения информации на люминисцентном фотографическом материале // 1770980

Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа (варианты) // 2552461

Группа изобретений относится к способам, предназначенным для изготовления полупроводниковых приборов на твердом теле с использованием светочувствительных составов, например фоторезистов, содержащих диазосоединения в качестве светочувствительных веществ, а именно к способам формирования фоторезистной маски позитивного типа, которые могут найти применение в области микроэлектроники для получения изделий при помощи технологических способов, включающих стадию фотолитографии. Способ формирования фоторезистной маски позитивного типа включает нанесение на подложку позитивного фоторезиста, содержащего новолачную смолу и орто-нафтохинондиазидное соединение, использующееся в качестве светочувствительной компоненты, сушку, экспонирование и проявление. При этом в состав фоторезиста непосредственно перед нанесением его на подложку вводят 1,3-динитробензилиденмочевину, либо 1,5-дифенилсемикарбазид, либо N,N'-метилен-бисакриламид в количестве 5-15% по отношению к количеству орто-нафтохинондиазидного соединения. Результатом является улучшение качества края фоторезистной маски, увеличение срока службы используемого фоторезиста. 3 н.п. ф-лы, 1 табл.