Способ вакуумной обработки цветного кинескопа

 

Изобретение относится к электронной технике, в частности к процессам вакуумной обработки цветных кинескопов. Цель изобретения повышение качества вакуумной обработки достигается путем предотвращения поглощения катодом газов, выделившихся в процессе прогрева электронно-оптической системы (ЭОС). Для этого осуществляют прогрев оболочки кинескопа одновременно с откачкой выделяющихся газов, поглощенных деталями кинескопа. Затем прекращают нагрев оболочки и производят предварительное обезгаживание катода путем подачи напряжения на подогреватель катода до достижения катодом температуры 750 950°С. При этой температуре выдерживают 1 2 мин, осуществляют прогрев ЭОС токами высокой частоты и одновременно с нагревом снижают температуру катода до 580 650°С. Затем выполняют активирование катода в стандартном режиме и производят отпайку кинескопа.

Изобретение относится к электронной технике, а именно к процессам вакуумной обработки цветных кинескопов. Целью изобретения является повышение качества вакуумной обработки за счет предотвращения поглощения катодом газов, выделившихся в процессе прогрева электронно-оптической системы. Сущность изобретения заключается в следующем. Осуществляют прогрев оболочки кинескопа с одновременной откачкой выделяющихся газов, поглощенных элементами, деталями кинескопа, прекращение нагрева оболочки, предварительное обезгаживание катода электронно-оптической системы путем подачи напряжения на подогреватель катода до достижения катодом температуры 750-950оС и выдерживают при этой температуре 1-2 мин, осуществляют нагрев и прогрев электронно-оптической системы токами высокой частоты и одновременно с нагревом снижают температуру катода до 580-650оС, затем выполняют активирование катода в стандартном режиме и производят отпайку кинескопа. П р и м е р Производили обработку кинескопа 51ЛК2Ц на линии вакуумной обработки Б.331.40 путем нагрева оболочки до температуры 350-380оС с одновременной откачкой выделяющихся газов. Подавали на подогреватель катода напряжение до достижения катодом температуры 800оС и обрабатывали катод в течение 2 мин. Проводили обезгаживание электронно-оптической системы током высокой частоты, снижали температуру катода до 580оС, которую выдерживали до момента окончания обработки электронно-оптической системы, затем производили активирование катода и отпайку прибора. Использование изобретения позволит повысить эмиссионную способность на 20% и уменьшить брак по виду "мал ток луча" на 0,5%

Формула изобретения

СПОСОБ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЦВЕТНОГО КИНЕСКОПА, включающий прогрев оболочки кинескопа с одновременной откачкой, прекращение прогрева оболочки, нагрев и прогрев электронно-оптической системы токами высокой частоты, активирование катода и отпайку, отличающийся тем, что, с целью повышения качества, перед нагревом электронно-оптической системы производят предварительное обезгаживание катода при температуре t1 (oС), которую выбирают из выражения 750oСt1950oС, в течение 1-2 мин, одновременно с прогревом электронно-оптической системы снижают температуру катода до значения t2 величину которого выбирают из выражения 580oСt2650oС, и прекращают предварительное обезгаживание катода одновременно с окончанием прогрева электронно-оптической системы.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электровакуумной технике и может быть использовано при герметизации оболочки электровакуумного прибора (ЭВП)

Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в процессах изготовления электронных приборов, преимущественно газонаполненных ламп (Л)

Изобретение относится к электронной технике и может использоваться для обезгаживания микроканальных пластин в равномерном потоке электронов

Изобретение относится к электронике

Изобретение относится к электронной промьшшенности, в частности к способу изготовления компонентов заполнения метаплогалогенных ламп.Является дополнительным изобретением к авт
Изобретение относится к электронной технике, в частности, к технологии изготовления электровакуумных приборов с оксидным термоэмиссионным катодом
Изобретение относится к газоразрядной технике и может быть использовано при изготовлении газоразрядных индикаторных панелей (ГИП)

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано, в частности, при изготовлении газоразрядных индикаторных панелей (ГИП) переменного тока, предназначенных для отображения знаковой, графической и образной информации

Изобретение относится к области квантовой электроники, в частности к газоразрядным лазерам
Изобретение относится к электротехнической промышленности и может быть использовано в технологии откачки мощных электровакуумных приборов, в частности с вторично-эмиссионными холодными (безнакальными) катодами

Изобретение относится к электротехнической промышленности и может быть использовано в технологии изготовления газонаполненных приборов, в частности водородных тиратронов, плазменно-пучковых СВЧ-приборов, гироскопов и лазеров
Изобретение относится к электротехнической промышленности, в частности к способам извлечения ртути из ртутных ламп
Изобретение относится к области газоразрядной техники и может быть использовано в производстве газоразрядных индикаторных панелей (ГИП) переменного тока
Наверх