Способ выращивания монокристаллов типа кдр

 

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов и может быть использовано для скоростного выращивания водно-растворимых кристаллов для нелинейной оптики. Целью изобретения является увеличение скорости роста кристаллов. Выращивание кристаллов ведут при постоянной скорости роста кристалла из точечной затравки Т-образной формы, жестко закрепленной в углублении платформы, путем увеличения пересыщения при снижении температуры водного раствора в соответствии с зависимостью. При этом раствор предварительно перегревают при температуре 75-80oC в течение 1-3 сут в условиях непрерывного перемешивания. Скорость роста кристаллов до 40 мм/сут. 3 ил.

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов и может быть использовано для скоростного выращивания водно-растворимых кристаллов для нелинейной оптики. Целью изобретения является увеличение скорости роста кристаллов. На фиг. 1 изображена затравка Т-образной формы; на фиг. 2 зависимость относительного пересыщения от температуры раствора T и скорости роста, где кривая 1 соответствует скорости роста кристалла 10 мм/сут, кривая 2 20 мм/сут, кривая 3 30 мм/сут, кривая 4 40 мм/сут; на фиг. 3 кривые снижения температуры T во времени t, где кривая 5 соответствует примеру 1, кривая 6 примеру 2. Сущность способа заключается в том, что затравку, имеющую форму, показанную на фиг. 1, жестко укрепляют, например с помощью эпоксидного клея, в отверстии платформы из оргстекла так, чтобы верхняя часть кристалла свободно лежала на поверхности платформы. Раствор готовят на бидистиллированной воде из соли марки "ХЧ" или "ОСЧ" и вымешивают при температуре, на 8-10oC превышающей температуру насыщения раствора до полного растворения соли, затем фильтруют с помощью фильтров с диаметром пор не менее 0,2 мкм, измеряют температуру насыщения с точностью 0,1oC, помещают в герметичный сосуд и вымешивают при температуре 75-80oC и скорости вращения мешалки 60-70 об/мин в течение 1-3 сут. Затем раствор охлаждают до температуры, на 5-7oC превышающей температуру насыщения, и заливают в кристаллизатор с затравкой, предварительно прогретый до той же температуры, включают вращение затравки со скоростью 60-70 об/мин, охлаждают раствор до температуры, соответствующей 3-5% относительно пересыщения, и после полного огранения затравки включают устройство, вращающее магнитную головку контактного термометра с заданной скоростью. Снижение температуры раствора проводится в соответствии с зависимостью 1 для постоянной скорости роста кристалла R. s = Aexp(B/T), (1) где A=2,8410-4-4,8610-6R; B=3010+21 R; относительное пересыщение раствора. Кроме того s можно представить в виде где M=V масса кристалла, г; V объем кристалла, см3; r плотность кристалла г/см3; Pр и Pс исходные веса раствора и соли соответственно, г; C0=a+bT разновесная концентрация при температуре T, г соли/г раствора. Для КДР a=-0,799 гср-ра; b=0,00335 гср-раK; = 2,338 г/см3
Для ДКДР (X=0,9) a=-0,844 гср-ра; b=0,0037 гср-раK; = 2,356 г/см3
Объем кристалла в момент измерения t вычисляется по его размерам, определяемым с помощью ортогональной сетки на платформе и катетометра. На следующий отрезок времени t (например, сутки), зная скорость роста R, можно вычислить предполагаемый объем V и из уравнения

получить температуру Tx, до которой нужно снизить температуру для роста кристалла с R=const за время t Уравнение 3 решается любым численным методом (метод простых итераций или метод деления отрезка пополам) с помощью программируемого калькулятора или ЭВМ. В момент следующего измерения t + t вся процедура повторяется. Пример 1. Выращивание кристалла КДР проводят из соли марки "ХЧ для монокристаллов". Используют кристаллизатор объемом около 5 л, помещенный в водяной термостат. Раствор концентрации 31,7% что соответствует температуре насыщения 60oC, готовят вымешиванием с солью при температуре 70oC до полного растворения соли, потом фильтруют через лавсановый фильтр с диаметром пор 0,2 мкм, измеряют температуру насыщения и вымешивают при 80oC и скорости вращения мешалки 60 об/мин в течение 3 сут. Затем раствор охлаждают до 66oC, заливают в кристаллизатор с затравкой, нагретой до этой же температуры, включают вращение затравки со скоростью 60 об/мин и раствор охлаждается до 55oC, после чего температура снижается в соответствии с кривой 5 на фиг. 3. Скорость роста кристалла поддерживается равной 20 мм/сут до комнатной температуры, затем с уменьшением пересыщения она начинает падать, на 4 сут раствор сливается и кристалл снимается. Его размеры 80х86х86 мм и вес 900 г. Пример 2. Для выращивания кристалла дидейтерофосфата калия (ДКДР) используется соль марки "ОСЧ". Выращивание проводится в таком же кристаллизаторе, фильтрация, скорости вращения мешалки и платформы с затравкой те же, что и в примере 1. Раствор концентрации 36,5% (температура насыщения 55oC) вымешивают при 75oC в течение 2 сут. Охлажденный до 60oC раствор заливается в кристаллизатор с затравкой, нагретой до этой же температуры, включают вращение затравки и раствор охлаждается до температуры 50,6oC, при которой происходит огранение затравки, после чего температура снижается в соответствии с кривой 6 на фиг. 3. Кристалл растет со скоростью 10 мм/сут. Его размеры 75х84х84 мм и вес 840 г. В таблице приведены сравнительные данные по росту кристаллов КДР предложенным способом и по прототипу.


Формула изобретения

Способ выращивания монокристаллов типа КДР, включающий приготовление исходного водного раствора соли КДР, перегрев его выше температуры насыщения и кристаллизацию на затравку, укрепленную в платформе, путем снижения температуры раствора, отличающийся тем, что, с целью увеличения скорости роста кристаллов, перегрев раствора ведут при 75 80oС в течение 1 3 сут при перемешивании, затравку берут Т-образной формы, а снижение температуры при кристаллизации проводят в соответствии с зависимостью
Aexp(B/Tx)-(Pс-V)/(a+bTx)(Pр-V)+1=0,
где А 2,84 10-4 4,86 10-6 R;
В 3010 + 21 R;
R постоянная скорость роста кристалла, мм/сут;
Рс и Рр исходный вес соли и раствора соответственно, г;
V объем кристалла, см3;
- плотность кристалла, г/см3;
а и b коэффициенты температурной зависимости растворимости соли;
Тх текущая температура раствора, К.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способу выращивания монокристаллов йодата лития гексагональной модификации и позволяет повысить однородность оптических элементов, изготовляемых из монокристаллов

Изобретение относится к области выращивания кристаллов, может быть использовано при отработке технологии выращивания кристаллов из растворов и позволяет повысить точность измерения для кристаллов с поперечным размером более 150 мм

Изобретение относится к способу получения монокристаллов висмута и может быть использовано в электронной промышленности для создания твердотельных электронных приборов

Изобретение относится к технологии получения сегнетоэлектрических монокристаллов, которые могут быть использованы в пьезотехнике

Изобретение относится к химической промышленности, в частности к способу получения кристаллической окиси цинка, которая может быть использована при производстве люминофоров, в электрофотографии, для приготовления пигментов и композиций

Изобретение относится к технологии оптических монокристаллов и позволяет повысить качество кристаллов иодата лития (-LiO3)

Изобретение относится к способам повышения оптической и механической прочноаи монокристаллических материалов, используемых в лазерном гр1бороа|эоении, и поздоляет повысить механическую и лазерную прочность

Изобретение относится к отособу термообработки радиационно - поврежденных монокристаллов дидейтерофосфата калия и позволяет улучшить структуру и оптические харааериаики кристаппов , Радиационно - поврежденные кристаллы нагревают со скоростью не более 2 с/ч до температуры на 3 - 5 с ниже температуры фазового перехода (Т )

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из водных растворов и может быть использовано для скоростного выращивания монокристаллов заданной формы и кристаллографической ориентации, например, кристаллов группы КДР

Изобретение относится к технике для выращивания кристаллов из водных растворов и может быть использовано для получения кристаллических заготовок оптических элементов, например, для нелинейной оптики
Наверх