Раствор химического никелирования

 

Изобретение относится к химическому никелированию и может быть использовано в микроэлектронике, в оптической и радиопромышленности . Цель изобретения - получение никелевого покрытия с равномерной оптической плотностью. Раствор химического никелирования содержит, г/л: сульфамат никеля 10-30, гипофосфит натрия 25-45, хлористый аммоний 10-65, уксуснокислый натрий 8-16, кальцинированная сода до рН 6,0-6,4. Использование кальцинированной соды в качестве щелочного агента для обеспечения рН 6,0-6,4 при указанном количественном соотношении всех компонентов обеспечивает получение покрытия с равномерной оптической плотностью .

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК . (я)з С 23 С 18/36

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4767866/26 (22) 09.10.89 (46) 30.05.92. Бюл. й. 20 (71) Переславский филиал Всесоюзного государственного научно-исследовательского и проектного института химико-фотографической промышленности (72) О.Ю. Березин, Г.В, Богданов, Г.А. Ермолаева и О.С. Карпова (53) 621.793.3:669.241(088.8) (56) Патент США

М 3378400, кл. 427-437, опублик, 1968.

Шалкаускас М. и Вашкялис А, Химическая металлиэация пластмасс. Л.: Химия, 1977, с. 129 — 131. . (54) РАСТВОР ХИМИЧЕСКОГО НИКЕЛИРОВАНИЯ

Изобретение относится к химической металлургии, в частности к химическому никелированию и может быть использовано в микроэлектронике, оптической и радиопромышленности для изготовления шаблонов, линеек и других элементов оптического приборостроения.

Известны растворы для химического никелирования для получения плотных покры. тий.

Известен раствор.для химического никелирования, содержащий. г/л: никель сернокислый 16, гипофосфит натрия 11, лимонную кислоту 6, буру 2,5 I-аскорбиновую кислоту, углекислый натрий до рН 8.

Раствор характеризуется недостаточной чувствительностью его к активированной поверхности, что приводит к разбросу величины оптической плотности покрытия на различных участках поверхности, „,. Ж,, 1737018 А1 (57) Изобретение относится к химическому никелированию и может быть использовано в микроэлектронике, в оптической и радиопромышленности. Цель изобретения — получение никелевого покрытия с равномерной оптической плотностью. Раствор химического никелирования содержит, г/л; сульфамат никеля 10-30, гипофосфит натрия

25 — 45, хлористый аммоний 10 — 65, уксуснокислый натрий 8 — 16, кальцинированная сода до рН 6,0 — 6,4. Использование кальцинированной соды в качестве щелочного агента для обеспечения рН 6,0-6,4 при указанном количественном соотношении всех компонентов обеспечивает получение покрытия с равномерной оптической плотностью.

Наиболее близким по технической сущности к предложенному раствору является известный раствор для химического никелирования, содержащий сульфамат никеля, гипофосфит натрия, хлористый аммоний, уксуснокислый натрий и щелочной агент для обеспечения заданного значения рН.

Цель изобретения — получение никелевого покрытия с равномерной оптической плотностью.

Поставленная цель достигается тем, что используют раствор, содержащий г!л: сульфамат натрия 10 — 30, гипофосфит натрия 25 — 46, хлористый аммоний 10 — 65, уксуснокислый натрий 8-16, а в качестве щелочного агента для обеспечения рН 6,06,4 кал ьци ни рован ную соду.

Предложенный раствор апробирован следующим образом.

Стеклянные пластины подготавливали к химическому никелированию традицион1737018

Составитель Р,Ухлинова

Редактор М.Недолуженко Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор М.Пожо

Заказ 1871 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул.Гагарина, 101 ным способом: обезжиривание, сенсибилиэацию в растворе, содержащем, ионы олова (II), активацию в растворе, содержащем ионы палладия, после чего помещали в раствор химического никелирования.

Оптическую плотность покрытия определяли на приборе ДП-1 в разных местах пластины в 10 точках, Чувствительность раствора по отношению к активированной поверхности оценивали величиной р =(Va> /D) "100",, где оп среднеквадратичное отклонение значения оптической плотности от ее средней величины D. Оптически однородной считали поверхности с величиной д 10 .

Использование предлагаемого раствора позволяет получать прецизионные слои с оптической плотностью большей 0,1 и минимальным разбросом значений 0 около среднего.

Формула изобретения

Раствор химического никелирования, 5 содержащий сульфамат никеля, гипофосфит натрия, хлористый аммоний, уксуснокислый натрий и щелочной агент для обеспечения заданного значения рН, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью получения никелевого

10 покрытия с равномерной оптической плотностью, раствор в качестве щелочного агента содержит кальцинированную соду при следующем соотношении компонентов, г/л:

Сульфамат никеля 10-30

15 Гипофосфит натрия 25-45

Хлористый аммоний 10-65

Уксуснокислый натрия 8 — 16

Кальцинированная сода до рН 6,0-6,4 !

Раствор химического никелирования Раствор химического никелирования 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к получению полупроводниковых элементов электрических схем, а именно к химическому никелированию поверхности кремния

Изобретение относится к химическому нанесению никелевых покрытий на изделия из алюминия и его сплавов и может быть использовано в машиностроении, приборостроении

Изобретение относится к химическому нанесению металлических покрытий, в частности к растворам кобальтирования, и может быть использовано в технике изготовления носителей информации накопителей магнитных дисков

Изобретение относится к получению никелевых покрытий химическим путем и может быть использовано в приборостроении, машиностроении, радиоэлектронике

Изобретение относится к области химического никелирования порошкообразных материалов, в частности порошка магния

Изобретение относится к созданию растворов для химического никелирования изделий из металлов и диэлектриков и может быть использовано для экологически чистых технологий в радиотехнической, электронной, машиностроительной и других отраслях промышленности

Изобретение относится к эксплуатации теплоэнергетических установок и может быть использовано в транспортных и стационарных дизелях, водогрейных котлах и системах отопления

Изобретение относится к области нанесения металлических покрытий и может быть использовано в электрической, химической промышленности и машиностроении

Изобретение относится к области химического никелирования металлов и сплавов, в частности алюминия и его сплавов, меди и ее сплавов, стали, и может быть применено во многих отраслях приборостроения и машиностроения
Изобретение относится к химико-термической обработке порошковых сталей и может быть использовано в машиностроении для поверхностного упрочнения изделий из порошковых сталей
Изобретение относится к химическому осаждению аморфных магнитных пленок Co-Р, например, на полированное стекло и может быть использовано в вычислительной технике в головках записи и считывания информации, в датчиках магнитных полей, в управляемых сверхвысокочастотных (СВЧ) устройствах: фильтрах, амплитудных и фазовых модуляторах и т.д
Изобретение относится к области нанесения металлических покрытий и может быть использовано при химическом никелировании стальных деталей, которые могут быть использованы в химической промышленности, машиностроении

Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для химического никелирования широкого класса матриц из стали, чугуна и алюминия
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано для получения химических покрытий на деталях из материалов, которые работают в условиях повышенного износа, высоких давлений, температур, в присутствии агрессивных сред
Изобретение относится к нанесению покрытий на металлические изделия, в частности к получению композиционного покрытия на металлических изделиях методом химического осаждения
Наверх