Датчик температуры

 

Использование: контрольно-измерительная , техника. Сущность изобретения: датчик температуры содержит чувствительный элемент , выполненный в виде анизотропного кристалла с плоскостью двойникования, перпендикулярной базовой области кристалла. При этом в плоскости двойникования выполнен паз, по обе стороны которого на базовой поверхности расположены электроды, образующие туннельный переход. Чувствительность датчика задана глубиной паза, а область измеряемых температур - шириной пазы. 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)5 Н 01 1 29/88

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4872359/25 (22) 26.07.90 (46) 23.04.93. Бюл. hl 15 (71) Специальное конструкторское бюро . микроэлектроники и вычислительной техники AH СССР (72) М.В.Вотченников, В.А.Осорин и

И.Э. Ш крадюк (56) Патент США N 4566023, кл. Н 01 1

29/84, 1986. . Авторское свидетельство СССР

hL 277310; кл. G 01 К 7/22, 1969. (54) ДАТЧИК ТЕМПЕРАТУРЫ

Изобретение относится к контрольно, измерительной технике.

Цель изобретения — расширение области измеряемых температур.

На чертеже изображена структура датчика температуры, поперечный разрез.

Датчик содержит анизотропный кристалл

1, например СаСОз, с базовой поверхностью

2, на которой закреплены электроды 3. Между электродами перпендикулярно базовой поверхности проходит плоскость двойникования 4, в которой выполнен паз 5. Туннельный зазор создается между электродами 3.

При изменении температуры изменяется угол двойникования и зазор между электродами,. в результате чего изменяется туннельный ток, экспоненциально зависящий от зазора и, следовательно, от температуры.

Использование анизотропного кристалла в качестве термочувствительного элемента датчика позволяет .повысить стабильность и воспроизводимость измерений температуры в широком диапазоне.

„„ Ы„„1810931 А1 (57) Использование; контрольно-измерительная техника. Сущность изобретения: датчик температуры содержит чувствительный элемент, выполненный в виде анизотропного кристалла с плоскостью двойникования, перпендикулярной базовой области кристалла. . При этом в плоскости двойникования выполнен паз, по обе стороны которого на базовой поверхности расположены электроды, образующие туннельный переход. Чувствительность датчика задана глубиной паза, а область измеряемых температур — шириной пазы. 1 ил, При подборе материала электродов с коэффициентом теплового расширения P:

P = (а1з!по) + (а созб), (1) ф где  — угол наклона главной кристаллографической оси к плоскости двойникования; а1 и a2 — коэффициенты теплового рас- Q(} ширения кристалла вдоль и поперек главной д кристаллографической оси соответственно С (для одноосного кристалла), О при нагревании и охлаждении датчика будут отсутствовать термические напряжения, свя° аюв ванные с разностью коэффициентов теплового расширения.

Датчик малочувствителен к действию проникающего излучения. ° ваай

При использовании кристалла СаСОз об-. ласть рабочих температур датчика составляет — 4,2 — 800 К.

Датчик может быть выполнен средствами технологии микроэлектроники, при этом кристалл выращивается эпитаксиально, паэ вытравливается ионно-лучевым тра влени1810931 ем, затем распылением наносятся электроды. Датчик может быть выполнен в корпусе интегральной микросхемы, в том числе неполупроводниковой (например, содержащей квантовые логические элементы). В последнем случае датчик может применяться для стабилизации режимов работы одноэлектронных или туннельных вентилей.

Датчик работает следующим образом.

Сначала производится калибровка. Дат-. чик градуируют, производя несколько измерений при известных температурах Т . При известных Ti измеряют туннельный ток li.

li = с ехр(— 1,02594di), (2) где Ф вЂ” работа выхода электрона иэ отрицательного электрода, эВ;

Ф = с(Т вЂ” TJ+ d — зазор между электродами, А; с — константа для данного датчика;

То — известная температура; .do — зазор между электродами при То.

Из выражения (2) получают

Т = То+ Ып1, где То и К определяются иэ калибровочных измерений.

Затем измеряют туннельный ток1 при искомой температуре Т и по току определяют температуру Т.

Чувствительность устройства по току зависит от разности коэффициентов теплового расширения материалов, геометрии датчика и работы выхода электрона: о где Н вЂ” глубина паза, А; а — угловая чувствительность датчика, ° рад.

Для СаСОз а равна 0,00004 рад íà градус.

При глубине паза 2,5 мкм; 25000 А чувствительность датчика составит 200 на градус, или при изменении температуры на

15 0,01 туннельный ток изменится на 2, Изменение ширины паза и, следовательно, начального зазора между электродами изменяет диапазон температур, в котором зазор находится в пределах 1-5 нм, 20 и возможно туннелирование электронов.

Фо рванул а и зо бр е те ни я

Датчик температуры, содержащий чувствительный элемент, включающий два

25 электрода, образующие туннельный переход, отличающийся тем, что, с целью расширения области измеряемых температур, чувствительный элемент выполнен в виде кристалла с плоскостью двойникования, Э0 перпендикулярной базовой поверхности элемента, при этом в плоскостидвойникования выполнен паз, по обе стороны которого на базовой поверхности расположены электроды.

Датчик температуры Датчик температуры 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к структурам на основе металл - диэлектрик - металл и может быть использовано в квантовых приборах и интегральных схемах

Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к функциональным элементам интегральных схем, и может быть использовано в генераторных схемах, а также в вычислительной, измерительной и усилительной технике

Изобретение относится к туннельным приборам, а именно к функциональным элементам наноэлектроники и вычислительной техники, и может быть использовано для приборного и схемотехнического применения нанотехнологии, например для построения одноэлектронных логических схем, создания схем одноэлектронной памяти, работающих при комнатной температуре

Изобретение относится к способам изготовления функциональных элементов наноэлектроники и вычислительной техники и может быть использовано для изготовления одноэлектронных логических схем, схем одноэлектронной памяти, работающих при комнатной температуре

Способ определения вида и концентрации наночастиц в неорганических аморфных средах и композитах на основе полимеров может найти применение в электронике, радиотехнике, природоохранной, химической и нефтяной отраслях для контроля качества проведения технологических процессов и качества готовой продукции, например, при создании полимерных нанокомпозитов, функциональных электронных и радиотехнических элементов. Технической задачей является повышение точности определения концентрации наночастиц в аморфных средах любой природы путем уменьшения влияния фоновых токов на результат измерения. Поставленная задача решается тем, что создается измерительная ячейка, состоящая из двух инжекционных слоев проводящего материала и слоя исследуемого материала между ними, полученная измерительная ячейка помещается в низкотемпературную среду, в которой фоновые токи достигают своего минимального значения и не оказывают существенного влияния на результат измерения, затем измерительная ячейка включается в цепь и снимается вольт-амперная характеристика, по которой определяются значения резонансных потенциалов и соответствующие им значения резонансных токов, далее полученные значения резонансных потенциалов сравниваются с базой данных резонансных потенциалов известных наночастиц и осуществляется идентификация наночастиц в исследуемом материале, затем готовится эталонный образец материала с низкой концентрацией идентифицированных наночастиц, формируется измерительная ячейка, состоящая из двух инжекционных слоев проводящего материала и эталонного материала между ними, полученная эталонная измерительная ячейка помещается в низкотемпературную среду и включается в цепь, после чего снимается вольт-амперная характеристика, по которой определяются резонансные потенциалы и соответствующие им значения резонансных токов, на основании полученных значений резонансных токов в исследуемом и эталонном образцах, а также известного значения концентрации в эталонном образце рассчитывается концентрация наночастиц в исследуемом образце.
Наверх