Способ получения матированных рисунков на поверхности стекла

 

Изобретение относится к способам обработки изделий из неорганических стекол и может быть использовано в стекольной, оптической промышяенностях, приборостроении , микроэлектронике. Сущность изобретения состоит в том. что поверхность стекла маскируют любым, применяемым в вакуумной технологии температуростойким и электропроводным материалом, например , Ni, Mo. После этого поверхность стекла нагревают в вакууме до температуры 400- 520°С, обрабатывают электронным лучом с Руд. 5-102-103 Вт/см2 и скоростью 0,1-5 см/с, травят в растворе, содержащем плавиковую кислоту, в течение 1,5-15 мин. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)ю С 03 С 15/00

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) И@1

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ ИЗОБРЕТЕНИЮ (21) 4896339/33 (22) 04.12,90 (46) 15.07.93, Бюл, hh 26 (71) Черкасский филиал Киевского политехнического института им. 50 -летия Великой

Октябрьской социалистической революции (72) Г.Н.Дубровская. Г.B.Êàíàøåâè÷ и

Т.И.Веретельник (56) Бутт Л,M. и Полляк 8.8. Технология стекла, Госстройиздат, 1960, с. 389 — 390. (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МАТИРОВАННЫХ

РИСУНКОВ НА ПОВЕРХНОСТИ СТЕКЛА (57) Изобретение относится к способам обработки изделий из неорганических стекол

Изобретение относится к способам обработки изделий из неорганических стекол и может быть использовано в стекольной, оптической промышленностях, приборостроении, микроэлектронике.

Целью изобретения является снижение трудоемкости процесса.

Поставленная цель достигается тем, что поверхность стекла маскируют любым, применяемым в вакуумной технологии температуростойким и электропроводным материалом, например, Ni, Мо. Поверхность нагревают в вакууме 10 -10 мм рт.ст. до температуры

-4 -5

400 — 520 С, обрабатывают электронным лучом с Руд = 0,5 10 -10 Вт/см травят в рас2 3 2 творе, содержащем плавиковую кислоту; в течение 1,5-15 мин, Скорость обработки электронным лучом составляет 0,1 — 5 см/сек.

Материал маски выбирается таким образом, чтобы обеспечить дополнительный Ы 1827367 А1 и может быть использовано в стекольной. оптической промышленностях, приборостроении, микроэлектронике. Сущность изобретения состоит в том, что поверхность стекла маскируют любым, применяемым в вакуумной технологии температуростойким и электропроводным материалом, например, Ni, Мо, После этого поверхность стекла нагревают в вакууме до температуры 400520 С, обрабатывают электронным лучом с

Руд. = 5 ° 10 — 10 Вт/см и скоростью 0,1-5 см/с, травят в растворе, содержащем плавиковую кислоту, в течение 1.5-15 мин.

1 табл. отбор отрицательного заряда с поверхности стекла при допустимой степени адгезионной загрязненности стекла процессом электронно-лучевой обработки (ЗЛО).

Пример. Берут стекло фотопластины, протирают его ватным тампоном, смоченным в этиловом спирте с поляритом "КРОКУС" и оставляют до высыхания. Высохший образец вытирают сухим ватным тампоном до полного удаления частиц полярита с поверхности стекла.

Качество поверхности стекла после очистки проверяют согласно ГОСТ 11141-90 наблюдением в косоотраженных лучах поверхности стекла на черном фоне под микроскопом МБС-9. После этого на поверхность стекла накладывают съемную никелевую маску с рисунком. Образец помещаюТ в вакууме, с остаточным давлением Р = 10 мм рт.ст., нагревают до темпера1827367

Формула изобретения

Температура предварительного нагрева, С

Марка стекла

Скорость перемещения луча по поверхности. см/с

Удельная мощность электронного луча, Вт/см

Время трэнпеппп, с

Nl4. пп

Полученный результат

Стекло фотопластин

l.0

1.0

0.1

0.5

2.0

t.5

5.0

2.0

1.5

1.0

1.0

0,05

2,0, 103

5 10

5 103

5 103

1 103

103

05 . 103 . 103

1 . 10

1 10

1 10

1 103

1 10

500

5.0

5,0

5.0

5.0

1.5

4.0

10.0

15.0

О.

О о

20.0

Рисунок не контрастный

Контрастный рисунок

6

8

10

Залипание маски на поверхности после ЭЛО д

11

12

Залипание маски на поверхности после ЭЛО

Растравливание необработанной лучом поверхности с сохранением контрастности рисунка

Рисунок не контрастный

5 10

0.5 10

14

510

1,О а,0

1.0

4.0

Составитель Г. Дубровская

Техред M.Моргентал Корректор Н, Король

Редактор

Заказ 2344 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101 туры Т = 520" С и обрабатывают электронным лучом ленточной формы с Руд = 10

Вт/GM и скоростью = т см/c.

Получают следующей результат, Обработанная ДЛС погверхность (незащищенная маской) оплавляется с проявлением прозрачного рисунка, ограниченного краям маски. После этого образец опускают в раствор, содержащий 401 HF, 400/(, глицерина, остальное вода. Выдерживают в течение 5 мин. Образец вынимают, промывают в проточной воде с содой.

S результате на поверхности стекла наблюдают матированный рисунок, края которого повторяют рисунок маски. Матированной является поверхность, обработанная электронным лучом. Наблюдением поверхности под микроскопами МБС-9 и МИИ-4 установлено, что матированный рисунок имеет мелкозернистую поверхность. границы рисунка повторяют границы маски. Области поверхности стекла, обработанные электронным лучом подвергаются более интенсивному растворению.

Другие примеры конкретного выполне34ия сведены в таблицу.

Аналогичные результаты получаем при обработке других марок стекол, например

К-8, К-208, К-108, Травят их после ЭЛО в растворах, содержащих плавиковую кислоту и глицерин.

Из сопоставительного анализа технических показателей предлагаемого решения и прототипа следует, что при этом уменьшаются трудозатраты как минимум в два раза, 10 т.е. имеет место достижение цели изобретения. Следовательно, предлагаемое техническое решение при использовании обеспечит получение положительного эффекта.

Способ получения матированных рисунков на поверхности стекла путем маскирования и травления плавиковой кислотой, 20 отличающийся тем, что. с целью снижения трудоемкости процесса, после маскирования стекло нагревают в вакууме до температуры 400 — 520 С, обрабатывают электронным лучом с удельной мощностью

25 5 10 — 10з Вт/см и скоростью 0,1 — 5 см/с и травят в течение 1,5 — 15 мин.