Микроскоп для контроля качества обработки

 

271818

ОП И САНИ Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 01.! Ч.1969 (№ 1321172/25-28) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 26.Ч.1970. Бюллетень № 18

Дата опубликования описания 10.IX.1970

Кл. 42b, 12/02

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

МПК G 01b 11/30

G0Ib 9/04

УДК 531.717.8:531, 715.27 (088,8) Авторы изобретения

В, А. Зверев и А. А, Кучин

Заявитель

МИКРОСКОП ДЛЯ КОНТРОЛЯ КАЧЕСТВА ОБРАБОТКИ

ПОВЕРХНОСТИ

Известен микроскоп для контроля качества обработки поверхности, содержащий источник света, исходный растр, оптическую систему, проецирующую изображение штрихов растра на контролируемую поверхность, и измерительную фотоэлектрическую систему.

Предлагаемый микроскоп отличается от известного тем, что в его измерительную систему введено светоделительное устройство, разделяющее ее на две ветви, в одну из которых в плоскость изображения исходного растра помещен растр сравнения, штрихи которого совпадают по фазе с изображением штрихов исходного растра в этой плоскости, а шаги обоих растров равны.

Это позволяет автоматизировать процесс контроля.

На фиг. 1 изображена принципиальная оптическая схема микроскопа; на фиг. 2 — картина наложения изображения штрихов исходного растра на штрихи растра сравнения (исследуемая поверхность не имеет неровностей); на фиг. 3 — картина наложения изображения штрихов исходного растра на штрихи растра сравнения (исследуемая поверхность имеет ступеньку).

Описываемый микроскоп содержит источник света 1, исходный растр 2, оптическую систему 8, проецирующую изображение штрихов растра на контролируемую поверхность 4, и измерительную фотоэлектрическую систему 5.

В последнюю введено светоделительное устройство б, разделяющее ее на две ветви 7 и

8, в одну из которых в плоскость изображения

5 исходного растра помещен растр сравнения 9, штрихи которого совпадают по фазе с изображением штрихов исходного растра в этой плоскости, а шаги обоих растров равны.

Микроскоп работает следующим образом.

10 Оптической системой 8 на поверхности 4 создается изображение штрихов исходного растра, причем штрихи проектируются на эту поверхность под некоторым углом. В случае отсутствия на поверхности 4 неровностей, 15 штрихи, отразившись от нее без искажения, изображаются в плоскостях а — а и б — б обеих ветвей системы 5.

Вследствие равенства шагов исходного растра и растра сравнения, а также изофазного

20 расположения их штрихов (см. фиг. 2), когда разность фаз каждой пары сопряженных штрихов по всей поверхности растра сравнения одинакова и равна нулю, модулированные световые потоки от обеих ветвей измери25 тельной системы будут иметь максимальные величины и могут быть выравнены. Отношение электрических сигналов в системе 5 в этот момент становится равным единице.

Появление на поверхности 4 неровностей

30 (например, ступеньки) вызывает смещение

271818 изображенных на ней штрихов исходного растра, что, в свою очередь, приводит к изменению фазы их расположения в плоскости изображения б — б (см. фиг. 3). Отношение электрических сигналов в системе 5 становится отличным от единицы. По величине этого отношения системой 5 и вырабатывается автоматически результат контроля.

Предмет изобретения

Микроскоп для контроля качества обработки поверхности, содержащий источник света, исходный растр, оптическую систему, проецирующую изображение штрихов растра на контролируемую поверхность, и измерительную фотоэлектрическую систему, отличающийся

5 тем, что, с целью автоматизации процесса контроля, в измерительную систему введено светоделительное устройство, разделяющее ее на две ветви, в одну из которых в плоскость изображения исходного растра помещен

10 растр сравнения, штрихи которого совпадают по фазе с изображением штрихов исходного растра в этой плоскости, а шаги обоих растров равны.

+uz 2

УЫраилае

vcron агл

ooc mpn

Составитель Лобзова

Техред Л. В. Куклина Корректор Н. С. Сударенкова

Редактор А. Бер

Заказ 2397/13 Тираж 480 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 гс5раии, ао

«.ел@ага аслр с,ааЬю ио

Рас ла сааАелгю

Микроскоп для контроля качества обработки Микроскоп для контроля качества обработки Микроскоп для контроля качества обработки 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к медицинской промышленности, в частности, к способу получения реактива для определения активированного парциального тромбопластинового времени (АПТВ) из отходов производства соевого лецитина
Наверх