Испаритель

 

0 П И С А Н И Е (ii) 433252

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

СациалистическихРеслублик (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 16.07.71 (21) 1680384/26-9 (51) М. Кл. С 23с 13,/12 с присоединением заявки ¹

Государственный комитет

Савета Министров СССР оо делам изобретений и открытий ()2! Пр(н. итет

Опубликовано 25.06.74. Бюллетень ¹ 23

Дата опубликования описания 06.11.75 (53) УДК 621.396.6-181. .5(088.8) (72) Авторы изобретения

В. В. Горбачев, В. Г. Дзевалтовский и Г. П. Жариков

Ордена Ленина институт кибернетики (71) Заявитель (54) ИСПАРИТЕЛЬ

Изобретение относится к электронной технике, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме посредством термического испарения, и может найти, применение в технологии пленочных элементов электронных схем, Известны испарители, содержащие тигель, разделенный перегородками из материала тигля на коаксиально расположенные секции, число которых равно числу испаряемых компонент, и нагреватели, расположенные в секциях тигля и служащие для поддержания заданной температуры испарения для каждой компоненты.

Однако известные испарители не обеспечивают стабилизацию конденсата пленок заданного состава, Целью изобретения является обеспечение стабилизации конденсата пленок заданного состава.

Для этого поперечные сечения секций тигля выбраны в соответствии с требуемым соотношением парциальных давлений паров компонент.

На чертеже приведена схема конструкции испарителя.

Испаритель содержит вакуумную камеру 1, манипулятор 2 с подложками в. кассетах 3, имеющий отверстие 4 для,прохода паров конденсируемого на подложках материала, заслонку 5, испаритель 6 с тиглем, разделенным коаксиальной перегородкой на секции 7 и 8, нагревателем 9 и термопарой 10.

Устройство работает следующим образом.

В секции 7 и 8 испарителя 6 загружаются навески компонент испаряемых материалов, например в секцию 7 загружается железо, а в секцию 8 — никель. После откачки вакуумной камеры 1 испаритель 6 нагревается нагрева)() телем 9 до заданной температуры, контролируемой термопарой 10. Открывается заслонка

5 и поочередным продвижением кассет 3 над отверстием 4 в манипуляторе 2 производится конденсация сплава на поверхности подложек.

Требуемое соотношение парциальных давлений паров компонент достигают за счет подбора соотношения площадей испарения (площадей горизонтального сечения секций тигля)

20 и температуры испарения. При изменении температуры испарения соотношение парциальных давлений паров компонент изменяется вследствие различия в зависимости от скоростей испарения компонент материалов от тем25 пературы.

Усредненное расстояние от разных участков площадей испарения каждой секции до поверхности подложек практически одинаково и, следовательно,-одинаково соотношение пар30 циальных давлений паров компонент над раз433252

Предмет изобретения

Составитель Е. Кукина

Редактор А. Зиньковский

Техред Л. Акимова

Корректор 3. Тарасова

Заказ 2730/1 Изд. № 887 Тираж 902 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Я-35, Раушская наб., д, 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ными участками поверхности подложек и одинаков состав конденсата по площади подложек.

При расположении испарителя 6 .под центром отверстия 4 в манипуляторе 2, усредненный угол .падения пучков паров компонент максимально приближен к нормали к поверхности подложек. При этом «тени» на краях элементов, конденсируемых через трафарет, минимальны. Минимальна также и анизотропия, возникающая в магнитных пленках вследствие косого угла падения пучков пара на поверхность подложек.

Испаритель, содержащий тигель, разделенный перегородками пз материала тигля на коаксиально расположенные секции, число которых равно числу пспарясмых компонент, и нагреватели, служащиc,для поддержания зct данной температуры испарения, отлпчающ и с я тем, что, с целью обеспечения стабилизации конденсата пленок заданного состава, поперечные сечения секций тигля выбраны в соответствии с требуемым соотношением парциальных давлений паров компонент,

Испаритель Испаритель 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх