Устройство для двухстороннего нанесения фоторезиста на подложки

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ . К АВУОвйСКОМУ СВИДИЕЛЬСТВУ 439947

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Зависимое от авт. свидетельства— (22) Заявлено 16.05.72 (2! ) 1784582/26-9 с присоединением заявки ¹â€” (32) Приоритет—

Опубликовано 15.08.74. Бюллетеш. ¹ 30

Дата опублпковацня описания 03.04.75 (51) М. Кл. Н 05 k 3/10

Государственный комитет

Совета Министров СССР

ll0 делам изобретений и открытий (53) УДК 621.396.6. .049.75 (088.8) (72) Авторы изобретения

Я. А. Лейзгольд, И. М. Варптал и В. В. Рыхлицкий (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДВУСТОРОННЕГО НАНЕСЕНИЯ

ФОТОРЕЗИСТА НА ПОДЛОЖКИ

Предмет изобретения

Изобретение относится к области фотолитографии и может быть использовано для нанесения пленок на подло>кки методом центрифугирования.

Известно устройство для двустороннего нанесения фоторезиста на подложки, содержащее корпус, держатель подложки, на которую наносят фоторезист, и центрифугу.

Однако это устройство не позволяет производить покрытие подложек при высоких оборотах вращения, т. е. не обеспечивает необходимой равномерности покрытия.

С целью получения равномерного покрытия подложек фоторезистом в предлагаемом устройстве держатель выполнен в виде ножей, лезвия которых служат опорой для подложки.

Иа чертеже приведена конструкция предлагаемого устройства. Оно состоит из корпуса 1, закрепленного на шпинделе центрифуги 2. В четырех пазах корпуса установлены две нары ползунов 3, несущих четыре опорных ножа 1. В центре корпуса установлена чашка 5 для сбора фоторезиста при цсптрифугировании, 2

Опорные ножи имеют грани, которые ограничивают перемещение подложки во время покрытия и заточены под острыми углами.

Грани ножей, контакгирующие с подлож5 кой 6, имеют форму лезвий, за счет чего осуществляется точечное контактирование с гранями подложки.

Благодаря тому, что устройство выдерживает значительныс скорости вращения (10 ш тыс. об/мин) и за счет наличия точечного контакта опорных ножей с гранями подложки, обеспечивается равномерное по толщине покрытие подложек (с колебаниями —. 10%. Это сокращает время на операциях установки и

15 съема подложек, так как устраняется их дополнительное крепление перед покрытием.

Устройство для двустороннего нанесения фоторезиста на подложки, содержащее корпус с держателем подложек н центрифугу, отличаюа(ееся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия фоторсзнста, держатель выполнен в виде ножей. лезвия которых слукат опорой для подложки.

439947

Составитель Л. Фетисова

Редактор Л. Цветкова Тек ред Т. Курил ко Корректор Н. Аук

Заказ 7470 Изд. ¹ 1915 Тираж 760 Подписное

1!НИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, 7К-35, Раушская наб., д 4/5

МОТ, Загорский цек