Фототермопластический слой

 

(i<1 503201

ОПИСАН И Е

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (б1) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 05.06.72 (21) 1792635/23-4 (51) Ч. Кл б 03G 5/06 с присоединением заявки №

Совета Министров СССР по делам изобретений и от«рмтнй (53) УДК 771.53(088.8) Опубликовано 15.02.76. Бюллетень № 6

Дата опуоликования описания 14.05.76 (72) Авторы изобретения

И.-О. П. Вапшинскайте, Г. В. Гураш, Л. И, Левит, Л. И. Нюнько, В. Я. Починок, А. И. Ундзенас, Л. Н. Федорова и Е. В. Блажко

Научно-исследовательский институт электрографии и Киевский ордена

Ленина государственный университет имени T. Г. Шевченко (71) Заявители (54) ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИЙ СЛОЙ

ГосУдаРстввнный комитет (23) Приор итет

Изобретение отно сится,к разделу электрофотографического способа регистрации фототермопластической записи (ФТПЗ), в части создания фототермопластического (ФТП) слоя, обладающего термопластичностью и высо кои фоточувствительностью.

ФТП слои получают введением фотополупроводника в термопластический материал.

В этом случае большую роль играет термопласгичвакая среда.

К ФТП слою предъявляется ряд требований: температура размягчения слоя должна находиться в переделах 60 — 110 С, вязкость при этой температуре не должна превышать

5.10" — 5 10 сП. Сопротивле|ние слоя при температуре проявления должно обеспечивать время релаксации заряда не менее времени проявления, слой не должен быть хрупким, не должен обладать хладотекучестью, должен обладать хорошей адгезией к токо проводящим подложкам, на которые его наносят, и малой электропроводностью.

Известен фототе р мопластичеокий носитель записи, содержащий электроправодящую подложку и фотополупроводниковое покрытие, в котором в качестве термопластического материала применен теломер 1,3-бутадиена и стирола с концевьвми ксантогенными группами, а в качестве фотополупро водникового материала применен поли-N-ви нилкарбазол.

Согласно изобретению с целью расширения ассортимента и улучшения совместимости предложено использовать в качестве фототермопластпческого слоя, пригодного для фототермопластической записи, однородную прозрачную смесь двух полимеров — одного с высокой фоточувствительностью, сопротивлением и с высокой температурой размягчения, другого с низкой температурой размягчения и также с высоким сопротивлением и хорошими пленкообразующими свойствами. ФТП слой с хорошими свойствами может быть изготовлен из смеси поли-N-винилкарбазола (ПВК) и гомополимеро в, в качестве которых используют аллиловые и виниловые эфиры абиетиновой кислоты, живочной, дпспропорциопированной и гидрированной канифоли и их сополимеров. Установлено, что оптимальное содержание ПВК в композиции может

20 составлять 50 — 80%.

Для повышения фоточу вспвительности полученного таким образом фототермопластичес кого слоя может быть использован метод оптической сенсибилизации красителями или

25 введение электроноакцепторных добавок, п рпводящих к образованию комплексов с переносо|м заряда.

Пр им ер 1. Смесь, состоящая из 3 вес. ч. го|мо|полимера винилового эфира абиенти но30 вой кислоты и 7 вес. ч. поли-N-винилкарбазо503201

Формула изобретения

Составитель Л. Иванова

Текред 3. Тараненко

Корректор М. Лейзерман

Редактор E. Хорина

Заказ 1079/2 Изд. № 1205 Тираж 575 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ла, растворяют в толуоле. Полученный прозрачный раствор на носят на токопроводящую подложку и высушивают в вакуумном шкафу.

Толщина слоя 1 — 30 мкм. Фоточувствительность описанной системы,при оптимальных режимах (при введении сенсибилизато|ра) составляла 200 л к. с при освещении от фотолампы мощностью 275 BT (под фоточувствительностью понимается экспозиция, необходимая для уменьшения предельного потенциала на

50%). Предельный потенциал слоя при толщине 10 м|кМ 1400 В.

Фототермопластичные слои, полученные согласно примерам 2 — 4, имеют аналогичные сво и ств а.

Пример 2. Прозрачный фототермопластичеокий слой состоит из 3 вес. ч. сополимера винилового эфира канифоли и октилметакрилата и 7 вес. ч. поли-Х-винилкарбазола.

Очувствление п роиз водилось вышео писавным методом.

Пример 3. Прозрачный фототермопластичеокий слой состоит из 3 вес. ч. сополимера аллилового эфира диспропорционированной канифоли и стирола и 7 вес. ч. поли-N-винилкарбазола.

Пример 4. Прозрачный фототермопластический слой состоит из 3 вес. ч. сополимера винилового эфира гидрированной канифоли со стиролом и 7 вес. ч. поли-iN-винилкарбазола.

Фототермо пластический слой, содержащий электропро|водящую подлож|ку и фотополупроводниковое.покрытие, состоящее из фоточу вствительных полимеров, например поли-N-винилкарбазола и термо пластических полимеров, отл и ч а ю щи и с я тем, что, с целью улучшения со вместимости и расширения аосо ртимента фототермопластических материалов, в качестве термопла стических полимеро в используют гомополимеры аллиловых и виниловых эфиров абиетиновой кислоты, живичной, дис)пропорционированной и гидрированной канифоли и их со полимеров,