Способ матирования поверхности фотоформы

 

О П И С А Н И Е 69З24

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СееМДЮТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 04.07.77 (21) 2502861/18-10 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет— (51) М. Кл.

G 03 F 7/02

Государственный комитет

СССР па делам изооретений и открытий (53) УДК776.1 (088.8) Опубликовано 25.06.79. Бюллетень № 23

Дата опубликования описания 30.06.79

О. А. Белицкий, В. И. Запоточный, С. И. Белицкая, В. Б. Васильев и Л. А. Васильева (72) Авторы изобретения

Украинский научно-исследовательский институт полиграфической промышленности (71) Заявитель (54) СПОСОБ МАТИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ФОТОФОРМЫ

Изобретение относится к фотомеханическому изготовлению печатных форм высокой и глубокой печати, а именно к способу матирования зеркальной поверхности эмульсионного слоя фотоформы перед копированием ее на фотополимеризуюшуюся формную пластину.

Известны способы формного производства фотоформы на специальном фотографическом материале, заключающиеся в получении матовой поверхности эмульсионного слоя в процессе изготовления фотоматериала путем введения в состав фотографической эмульсии смеси частиц полиметилметакрилата и двуокиси кремния (1).

Недостатком таких способов является сложность изготовления специального фотографического материала с матовым эмульсионным слоем, что приводит к образованию дефектов на поверхности фотополимерной печатной формы, например местных закопировок, выщербин и др., вызванных попаданием частиц пыли между поверхностями фотоформы и фотополимеризуюшейся пластины.

Известны также способы мати рования поверхности фотоформы, заключающиеся в том, что эмульсионный слой фотоформы перед копированием ее на фотополимеризуюшуюся пластину обрабатывают составом с двуокисью кремния (2).

Недостатком этих способов является попадание на эмульсионный слой фотоформы частиц пыли, что вызывает дефекты поверхности печатной формы.

С целью повышения качества фотополимерной печатной формы по предлагаемому способу в качестве состава с двуокисью кремния используют эфирорганоаэросил.

Способ осуществляется следующим образом.

Эфирорганоаэросил представляет собой высокодисперсную аморфную двуокись кремния, модифицированную одним из органических веществ таких как моноэтаноламин (аэросил АЭА), диэтиленгли коль (аэросил

АДЭГ), молочная кислота (аэросил НВА)

2О и фениламинометиленметилдиэтоксисилан (аэросил Ам-2) и др. Обработку ведут путем протирания поверхности фотоформы со стороны эмульсионного слоя гампоном, на ко669324

Формула изобретения

Составитель Ji. Теплова

Редактор Н. Хлудова Техред О. Луговая Корректор В. Синицкая

Заказ 3656/38 Тираж 547 Подписное

ЦН И И ПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ПП П «Патент», г. Ужгород, ул. Проектная, 4 торый нанесено небольшое количество сухого вещества. Удерживание частиц эфироорганоаэросила на поверхности фотоформы обеспечивается в результате электризации последней, обеспечивающей притяжение частиц эфирорганоаэросила и, одновременно, 5 отталкивание заряженных одноименным зарядом частиц пыли.

Орсглгер. Готовят обычным способом фотоформу (негатив) на фототехнической пленке с зеркальным эмульсионным слоем марок

ФТ-101, Г 05 или Г 06. Фотоформу со сторо- 10 ны эмульсионного слоя протирают тампоном, на который нанесено 0,1 — 0,05 г аэросила

АЭО. В результате протирания поверхность фотоформы преобретает равномерную матовость. Фотоформу матовой стороной накладывают на поверхность фотополимеризующейся пластины на основе ацетосукцината целлюлозы и ведут изготовление фотополимерной печатной формы обычным способом: фотоформу и формный материал помещают на вакуумный цилиндр экспонирующей ус- 20 тановки, экспонируют ультрафиолетовым светом 0 — 15 мин, отделяют фотоформу, помещают формный материал в вымывную установку и вымывают О,!5 /р-ным водным раствором гидроокиси натрия в течение 6 — 7 мин.

После высушивания получают фотополимер2$ ную печатную форму с гладкой поверхностью печатаюпгих элементов, на которых отсутствуют дефекты в виде колец Ньютона, местных закопировок и выщербин.

Аналогично используют любой из выше- т0 указанных эфироорганоаэросилов.

Способ может быть применен также для изготовления печатных форм из фотополимеризующихся пластин на основе других полимеров (поливиниловый спирт, смешанный полиамид и т.д.) с заменой вымывного раствора на соответствующий (вода, смесь этилового спирта с водой в соотношении

80 — 20 и т.д.).

Способ позволяет использовать для изготовления фотополимерных печатных форм более дешевые и менее дефицитные фотографические материалы, улучшает качество форм и печатной продукции и дает большую экономию.

Способ матирования поверхности фотоформы, заключающийся в том, что эмульсионный слой фотоформы перед ее копированием на фотополимеризующуюся пластину обрабатывают составом с двуокисью кремния, отличающийся тем, что, с целью повышения качества фотополимерной печатной формы, в нем в качестве состава с двуокисью кремния используют эфироорганоаэросил.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Патент США ¹ 3411907, кл. 96 — 67, опубл. 1967.

2. Патент Японии № 44 — 22672, кл. 103 Н О опубл. 1969.

Способ матирования поверхности фотоформы Способ матирования поверхности фотоформы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий

Изобретение относится к области микролитографии (в частности, к рентгенолитографии) и может быть использовано при изготовлении, например, печатных форм (клише) для высокой печати с субмикронным разрешением структур рисунка, используемых, преимущественно, при изготовлении денежных знаков и иных ценных бумаг, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением его структур в функциональных слоях изделий

Изобретение относится к ракетным двигателям космических аппаратов и, более конкретно, к ионным двигателям малой тяги
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии
Изобретение относится к области микролитографии, в частности к фотолитографии

Изобретение относится к устройствам экспонирования, а именно к системам для переноса преобразованных в цифровую форму изображений на чувствительную основу

Изобретение относится к полициклическому полимеру, используемому в качестве фоторезиста при изготовлении интегральных плат
Наверх