Способ выращивания монокристаллов иттрий-алюминиевого граната, легированного неодимом

 

Способ выращивания монокристаллов иттрий-алюминиевого граната, легированного неодимом, из расплава исходных компонентов, содержащих Y2O3, Al2O3, Nd2O3, с заданной скоростью, отличающийся тем, что, с целью получения концентрации неодима в монокристалле до 2,6 мас.% при обеспечении его стехиометрического состава и удешевления процесса, исходные компоненты берут в следующем соотношении, мас.%: Al2O3 - 41,82 - 42,64 Nd2O3 - 7,89 - 2,17 Y2O3 - Остальное и выращивание ведут со скоростью 0,6 - 1,0 мм/ч.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов соединений AIIBVI со структурой вюрцита, применяемых в приборах оптоэлектроники и ИК-техники, и позволяет уменьшить плотность малоугловых границ и упростить ориентирование затравки, а также получать монокристаллы в виде пластин

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов соединений AIIBVI со структурой вюрцита, применяемых в приборах оптоэлектроники и ИК-техники, и позволяет уменьшить плотность малоугловых границ и упростить ориентирование затравки, а также получать монокристаллы в виде пластин

Изобретение относится к выращиванию кристаллов направленной кристаллизацией расплава и может быть использовано в электронной и полупроводниковой промышленности

Изобретение относится к способу получения полупроводниковых соединений и может быть использовано для получения материалов, применяемых в полупроводниковых приборах и приборах нелинейной оптики

Изобретение относится к способам выращивания монокристаллических образцов со структурой беррила и может быть использовано в электронной и ювелирной промышленности

Изобретение относится к области выращивания монокристаллов щелочно-галоидных соединений и может быть использовано для получения монокристаллов направленной кристаллизацией расплава в ампулах

Изобретение относится к технике выращивания кристаллов направленной кристаллизацией расплава в ампуле, в частности к устройствам самих ампул

Изобретение относится к получению сложных полупроводниковых соединений типа A3B5 и A4B6
Наверх