Устройство для очистки веществ поверхностной десублимацией

 

Изобретение относится к устройствам для поверхностной десублимации, может быть использовано для очистки веществ от летучих компонен10тон и позволяет повысить степень очистки десублимата. Устройство содержит камеру десублимации 1, в которой осуществляется процесс поверхностной десублимации, с теплообменной рубашкой 2. Внутри камеры 2 десублимации 1 размещена распределительная камера 3 с перфорированными стенками 4. Камера десублимации 1 и распределительная камера 3 могут быть установлены коаксиально. Отверстия равномерной перфорации выполнены с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отверстий, в результате чего достигается равномерная толщина слоя десублимата. Изготовление отверстий с шагом менее 1,5 и более 2,0 диаметров отверстий приводит к неравномерной толщине слоя десублимата, обусловленной увеличением скорости роста кристаллов в зонах суперпозиции потоков через соседние отверстия при малом шаге, либо в зонах, не охваченных этими потоками, при большом шаге. 1 3. п. ф-лы, 1 ил. с (О (Л 4 to 00 4 О Сл .: :

СОЮЗ СО8ЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (SD 4 В 01 D 7/02

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АBTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТ8ЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4040743/23-26 (22) 26 ..02,. 86 (46) 07.10.88. Бюл. Р 37 (71) Всесоюзный научно-исследовательский институт химических реактивов и особо чистых химических веществ (72) Г.З.Блюм, И.Г,Гах, А.Е.Голуб, А.А.Ефремов, Т.Б.Найда, В.В.Суворов, В.Ф,Федосеев, Л.Г.Цыганенко и Т,М.Чернявская (53) 66 ° 065(088,8) (56) Авторское свидетельство СССР

Р 394349, кл. С 07 С 15/24; 1970.

Авторское свидетельство СССР

М 573166, кл. В 01 D 1/22, 1973.

Авторское свидетельство СССР

Р 259094, кл. F 28 D 7/10, 19?О. (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ВЕЩЕСТВ

ПОВЕРХНОСТНОЙ ДЕСУБЛИМАЦИЕЙ (57) Изобретение относится к устройствам для поверхностной десублимации, может быть использовано для очистки веществ от летучих компонен„„SU„„1428405 А 1 тов и позволяет повысить степень очистки десублимата. Устройство содержит камеру десублимации 1, в которой осуществляется процесс поверхностной десублимации, с теплообменной рубашкой 2, Внутри камеры 2 десублимации 1 размещена распределительная камера 3 с перфорированными стенками 4. Камера десублимации 1 и распределительная камера 3 могут быть установлены коаксиально. Отверстия равномерной перфорации выполнены с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отверстий, в результате чего достигается равномерная толщина слоя десублимата. Изготовление отверстий д с шагом менее 1,5 и более 2,0 диаметров отверстий приводит к неравномерной толщине слоя десублимата, обусловленной увеличением скорости роста кристаллов в зонах суперпозиции потоков через соседние отверстия = при малом шаге, либо в зонах, не охваченных этими потоками, при большом шаге. 1 э. п. ф-лы, 1 ил.

142805

Изобретение относится к устройствам для поверхностной десублимации и может быть использовано для очистки веществ от летучих компонентов.

Пель изобретения — гтавышение степени очистки десублиматя путем обеспечения равномерного ттостуг.тепия пара к поверхности десублимяции.

Ня чертеже изображено предлагаемое

10 устройство.

Устройство содержит камеру 1 JTeсублимации„ в которой осуществляется процесс поверхностной десублимации, с теплообменной рубяшкаи 2, Внутри камеры 1 десублимяции размещена распределительная камера 3 с перфорированными стенками 4„ 0тверстия 5 равномерной перфорации выполнены с шагам 1„5-2,0 диаметра этих отверстий. Для подачи парогазовой смеси предусмотрен штуцер 6, я для отвода неконденсирующихся газов и выводя расплава десублимата соответственно штуцеры 6 и 7, Штуцеры 8 и, 5

9 предназначены соответственно для подачи в рубашку 2 и вывода из нее хладягента или теплоносителя, Камера I десублимяции и распределительная камера > мо,ут быть установлены коак-- -,0 3 ияльно.

Устройство работает следующим образом, Пар очищаемога вещества падают через штуцер 6 в нижнюю часть устройства. В теплоабменную рубашку 2 подают хлядагент через шт pep 9, а выводят через штуцер t0. Проходя через отверстия распределительной камеры 3, поток паря направляется на охлаждаемую поверхность камеры десублимации, на которой происходит рост слоя десублимата, Па окончании процесса подачу хладагентя внутрь рубашки 2 прекращают и подают в нее теплоноситель, с целью оплавления кристаллического слоя. Расплав десублимата отводят через штуцер Я, Цескоттденc »poa,=,.н;яь1е и ле у ие кампо-ненты отводят неттрерывно в течение всего процесса десубл:птации чере= штуцер 7.

Образующаяся B процессе твердая фязя содержит преимущественно очищяе-мый компонент, а удаляемая из устройства часть паровой фазы — ттримесньгй компонент.

Кяибольияя стегень очистки целево-го продукта может быть обеспечена. в;,ппаряте, где создан равномерный поток .. яря в няпрттвттении, нормальном к поверхности десублимации, с лереносом несканденсированных и летучих компонентcâ вдоль этой поверхности.

Эта требование выполняется путем равномерной перфорации стенки распределительной камеры. Расход пара, направляемого к поверхности десублимяции, убывает в направлении отвода несконценсировянных и летучих компонентов, тогда кяк потек несконденсировянных и летучих компонентов изменяется антибатна. Суперпозиция этих потоков приводит к суммарному потоку пара в направлении к поверхности десублимации, который характеризуется одинаковым расходам по высоте аппарата, Анализ температурного поля в устройстве позволяет заключить, что температура хлядагента, B значит и поверхности десублимации, по высоте аппарата повышается, в та время как температура самого потока пара убывает по мере ега продвижения вдоль распределительной камеры, что обеспечивает постоянную скорость кристаллизации и, следовательно, равномерный рост кристаллического слоя по высоте аппарата.

Лтверстия равномерной перфорации выполнены с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отверстий. Изготовление отверстий с шагом менее 1,5 и более 2,0 диаметров отверстий гтриводит к неравномерной толщине слоя десублимата, обусловленной увеличением скоросги роста кристаллов в зонах суперпозиции потоков через соседние отверстия при малом шаге, либо в зонах, не охваченных этими потоками, при большом шаге, При этом коэффициенты распределения имеют такие значения, которые свидетельствуют о низкой степени очистки десублимятя, ф а р м у л я и з а б р е т е н и я

1. Устройства для очистки веществ поверхностной десублимацией, содержащее камеру десублимации с теплоабменной рубашкой, распределительную камеру с перфорированными стенками, штуцер для подачи парогазовой смеси, штуцеры для отвода неконденсирующих. ся газов и расплава десублимата, 14?8405

Составитель Е.Сотникова

Техред М.Ходанич . Корректор О. Кравцова

Редактор Н.Яцола

Тираж 642 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 5067/10

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения степени очистки десублимата путем обеспечения равномерного поступления пара к поверхности десублимации, отверстия в стенке распределительной камеры выполнены с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отверстий.

2. Устройство по и. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что камера десублимации и распределительная камера установлены коаксиально.