Способ выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов



 

COIO3 СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

1658668 А1

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

flPM ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

2 (46) 1;.04. З. Ьк. Л 14 (21) 4702506/26 (22) 11.04.89 (72) Н.П. Катрич, А.Я. Данько. 10,П, Мирошников, В.Е. Качала, Г.Т. Адонкин и А.H.

Калашников

: (56) Авторское свидетельство ЧССР

N 208233, кл. С 30 В 15/00, 1980. (54) СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ТУГОПЛАВКИХ ОКСИДОВ (57) Изобретение относится к способу выращивания монокристаллов тугоплавких оксиИзобретение касается выращивания монокристаллов и может быть использовано для выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов из расплавов известными методами. например направленной кристаллизацией расплава в тигле, методом

Чохральского. Степанова, Киропулоса.

Цель изобретения - удешевление и упрощение способа и увеличение выхода годных монокристаллов.

Пример 1. Защитную атмосферу в кристалл иэационной камере создают следующим образом. После откачки камеры форвакуумным насосом до давления 20-30 Па. отЧекают откачку и вводят в камеру 15-20 см этилового (метилового) спирта. затем производят напуск аргона до давления

1000-1500 гПа.

При подьеме температуры пары спирта, начиная с температуры 523 К, диссоциируют на СО и Н2. Таким образом, уже п и столь низких температурах. при KQTopblx еще HB происходит окисленнямолибдена и вольф. рама, атмосфера в кристаллизационнай камере становится резко восстановигельной. (sl)s С 30 В 13/00, 11/00, 15/00, 29/22 дов и позволяет удешевить и упростить способ и увеличить выход годных монокристаллов. В камере, откачанной до 20--30 Па. проводят термическую диссоциацию спирта с выделением Нр и СО. направленную кристаллизацию ведут по давлением 0.1-0,15

МПа в атмосфере следующего состава:

Hz+CO 10-20об.g. пары Н20 неболее5

«10 об, $, аргон — остальное. Получают кри-6 сталлы лейкосапфира беэ инородных включений. 1 табл.

Диссоциация спирта заканчивается при температуре около 623 К. Оптимальный расход спирта составляет 5-10 см на каждые

100 дм объема кристаллизационной каме3 ры.

В этом случае содержание водорода и оксида углерода в защитной атмосфере будет составлять примерно 15-20 . Этого ко-, личества достаточно с небольшим избытком, чтобы связать в пары воды весь присутствующий в камере кислород. Увели-, Ю чение же содержания водорода и оксида О углерода свыше 20;ь нежелательно. так как О приводит к увеличению потребляемой íà- Qg гревателем электрической мощности эа счет высокой теплопроводности водорода.

Введение аргона необходимо для создания избыточного давления в кристаллиэационной камере. Этим устраняется влияние атмосферных течей. которые могут быть дополнительным источником кислорода. Использование атмосферы с давлением более 1500 гПа не дает никаких преимуществ и лишь повышает требования к конструкции кристаллиэационной камгры, 1658668

10

20 скопических пленок

Защитные свойства тазовой атмосферы проявляются следующ11м образом. При подъеме температуры печи кислород, адсорбированный поверхностып экранов L1 нагревателя, частично десорбирует при температурах выше 623 К, а частично окисляет материал этих узлов — вольфрам и молибден. Однако уже при температурах 10001300 К, т.е. при температурах, при которых испарения оксидов этих металлов еще не происходит, они восстанавливаются водородом до металлического вольфрама и молибдена с образованием паров воды, концентрация которых, как установлено экспеоиментально. не должна превышать 3" х 10 мг на 1 дм, Такой концентрации паров

3 добио ются установкой в холодильных местах кристаллизационной камеры тиглей с порошком Р205. интенсивно поглощающим пары воды, либо их вымораживанием с llo мощью жидкого азота.

При таких концентрациях пэров воды массоперенос молибдена и вольфрама практически не происходит. Увеличение же

-5 содержания паров воды (более 3:10 мг нэ

1 дл1 ) приводит к увеличению расхода вольфрама и молибдена и загрязнению кристалла этими примесями.

Аналогично связывается кислород, десорбирооанный с поверхности.экраноо и нагревателя, Дальнейшее пооы1ОЕниЕ тЕМпературы не приводит к каким-либо процессам, способным вызвать мзссоперенос молибдена и вольфрама в зону нагрева.

В процессе плавления оксида алюминия и его кристаллизации при указанных выше давлениях сколько-нибудь заметной реакции между расплэоом и компонентами газовой среды не установлено. Таким образом, проведение кристаллизации о защитной восстановительной а1мосфере

1 состоящей иэ Лг, Иг и СО, в отличие or вакуума или атмосферы инертного газа (аргона) полностью ликвидирует процесс окисления вольфрамовых и молибденовых элементов теплового узла, их мзссоперенос в зону нагрева и загрязнение оксидзми молибдена и вольфрама исходного сь рьч l1, в конечном итоге, выращенного монокристаллз.

Срок службь< элементов теплового узла при этом возрос более чем о 10 раз.

Проведение кристаллизации по указанной выше схеме позволяет также значительно упростить и снизить трудоемкость технологического процесса, тзк кзк образования послекристаллиэациЬнных загрязне- ний не происходит и. всвязи с этим, отпала необходимость прооодить чистку и разборку теплового узла для замены изоляторов под опорами нагревателя. Кроме того, упростилась озкуумная подготовка установки, Высокооакуумный насос иэ комплекта установки может быть исключен. а поскольку откачка форозкуумным насосом осущоствляется только до введения спирта о рабочую камеру(10-15 мин) и в дальнейшем кристаллизация проводится в замкнутом объеме. один форнзсос может обслуживать большое количество устзнооок (до 20 и более).

Наконец, использование защитной атмосферы данного состава позволяет полностью ликвидировать утечки расплава ээ счет проторзния стенок тигля и образование о обьсме кристаллов молибденовых макроЗа счет всех эи:х факторов ттроиэводи., тельность ростового оборудования возрэ- стает примерно в 1,5 раза при одновременном снижении расходных норм оольфрзл1а и молибдена в 3-5 раз.

Данные по примерам 1-10 сведены в таблицу.

<формула изобретения

Способ выращивания монокристаллов тугоплзоких оксидов, включающий направленную кристаллизацию расплава о замкнутом обьеме кристаллизационной камеры о защитной атмосфере. содержащей аргон и оодород,при давлении, превышающем атмосферное, отличающийся тем, что, с целью удешевления и упрощения способа и увеличения выхода годных монокристаллоо, перед кристаллизацией в камере создают давление 20 — 30 Па и проводят в ней термическую диссоциацию спирта с выделенисл1 оодорода и оксида углерода, а кристаллизацию ведут под давлением 0,1-0.15 Mila o атмосФере следующего состава. об. (,: водород и углекислый гаэ 10-20 пары воды - не

6 т с более 5 10 аргон — остальное, 1658668

Состав гаэовоп срелм. об.2

Прлтлва срмэа прооесса л брава ввмгталлов

Воителе гаэогоб ломмм ° ммлрмалмю л от г лнм эллюмллме ° ° рлгрмнл тэаавала греем °

191 а

0,1250 3: IО

Лебормаела ватаева тала 75 ет эа вовеалеева моавос те вагрева, растресаеэавее врестб1тов

Олороалме в гатовмл

Вююмтвнл ра тнмром

1-30 млн ллотм ство м ло 10 см

70 Аг: 30 Явe СО

0 1250 3 ° 10

3аграэвевве вовс таблов 55 болвфрвиом и нолмблв пом, абраэмэаеюе нетвоегг чесэмв плевое м

750

95Ar; 5 б +СО

О, 0900

3»itt

25 м

1, 85Ar; 15

II2 + CO

О, 1600 3 ° 10

dS Ar1 15 III+ CO

S ° t0

dS Ar1 l3 d + СО

О, 1 250

Иассоеерееос эолэбрама л 2$ мвеблева, обрлэоэавла плевое ° армс телла

250

S ° 1О

b0 Ar; 20 Н1 т С0

О, 1000

97

97

91

ВО

Вюотчевла отгреб 4авм е гаэоввюс лтэжьвов ратмтром 1-5 мвм с плотлостъо Ао 10 см,, ;э

1О м

Спабюа1 масгоееревос

° олтбрама л моллбдела требратсэ есеолвэорааеа более слоавмв сествм отвечал, что тевеопогечосаю ° эаоееечесве ве обосровало1

Составитель Н.Пономарева

Техред M.Mîðãåíòàë Корректор М.Демчик

Редактор Л.Лешкова

Заказ 1968 Тираж Подписное

ВНИИ

ИПИ I осударственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35. Раушская наб,. 4/5

Производственно-издательский комбинат "патент", r. Ужгород. ул.Гагарина, 101

90 hr; 10

b$ лв1 15

b5 Arj l5

b5 ill I5 (I5 СО

II ° + C0

В,+СО

Вс+ СО

О, 1500

О, 1250

О,t2SO

0,1250 " асрвалм ов во аэово лел

3 ° Ill

5 10

3 10л

3 ° foë

30 l0л

Обраэоваща атъюосберема AS тачал, овлслем1е погрела тела а варавва, эаэрвэаелое врлсталло ° волвбрамо» м юлмгалном

Раэгерматеэволл врастал 75 лмэаелов1вав самар по ре эмвомал тллгте талам, reenoeeepe распела аргола

1ОООО

t 0000

7500

Клороавте в рбэоаЬв лвлюмемчл равнгроэ1.Г

1-30 мвд иброствр ао 10 см

Ввее, б Вар рбл воеае алтечасвмн1 ма гоааэег ° огсттсе в rlpr

Способ выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов Способ выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов Способ выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов литиевого бората, которые могут быть использованы в пьезотехнике

Изобретение относится к технологи получения кристаллов германата висмута со структурой эвлинита Bi Ge О и может быть использовано для промышленного производства сцинтилляционных кристаллов, находящих применение в ядерной физике , физике высоких энергий, позитронной и технической томографии и других областях науки и техники

Изобретение относится к способу выращивания монокристаллов йодата лития гексагональной модификации и позволяет повысить однородность оптических элементов, изготовляемых из монокристаллов

Изобретение относится к получению высокотемпературных сверхпроводниковых пленочных материалов на основе металлоксидов и может быть использовано при разY-Ba-Cu-0 Super Films prepareted by 1988, работке новых устройств микроэлектроники и полупроводниковой электроники

Изобретение относится к способам обработки активных элементов лазерной и нелинейной оптики и может быть использовано при изготовлении нелинейных элементов на основе монокристалла иодата лития -LilO3 например параметрических преобразователей длины волны лазерного излучения

Изобретение относится к получению высокотемпературных сверхпроводников на основе метаплооксидов и может быть использовано в микроэлектронике

Изобретение относится к получению высокотемпературных сверхпроводников на основе металлооксидов и может быть использовано при разработке новых приборов микроэлектроники

Изобретение относится к получению высокотемпературных сверхпроводников на основе металлооксидоп и может быть использовано при разработке новых приемов микроэлектроники Способ включает нагрев криааплообразующих оксидов и растворителя выдержку попу енного растворарасплава и последующее охлаждение, обеспечивает увеличение размеров фисталлов в кристаллографическом направлении ( 001 Растсоритепь содержит оксид бария и меди в мольном соотношении (0,4 - 0,5) 8аО:СиО

Изобретение относится к устройствам для выращивания монокристаллов методом Чохральского и может быть использовано в электронной технике

Изобретение относится к технологии получения кристаллов вытягиванием из расплава

Изобретение относится к технике получения искусственных кристаллов и обеспечивает снижение высоты устройства, повышение жесткости конструкции и удобства обслуживания

Изобретение относится к электронной промышленности, в частности к производству полупроводниковых соединений, и может быть использовано для выращивания монокристалла на основе A3B5

Изобретение относится к технологии вытягивания кристаллов из смачиваемого расплавом формообразователя и обеспечивает улучшение макрострук туры боковой поверхности кристалла

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов тугоплавких оксидов методом Чохральского

Изобретение относится к технике выращивания искусственных кристаллов и обеспечивает контроль за ростом кристалла из-под слоя флюса в глубоком тигле

Изобретение относится к способу получения монокристаллов германата висмута со структурой эвлитина и позволяет сократить длительность процесса и уменьшить загрязнение расплава и кристаллов и коррозию тигля

Изобретение относится к технологии получения кристаллических изделий методом Степанова, обеспечивает увеличение прочностных и оптических характеристик монокристаллов в виде изделий, имеющих неправильную, геометрическую форму с удлиненными выступами

Изобретение относится к технологии получения кристаллов вытягиванием из расплава

Изобретение относится к получению термоэлектрических материалов (ТЭМ) на основе халькогенидов сурьмы и/или висмута, применяемых для прямого преобразования электрической энергии в тепловую и используемых в холодильных устройствах, агрегатах для конденсирования воздуха и др., обеспечивает повышение производительности процесса при одновременном улучшении электрических и механических свойств материала
Наверх