Всесоюзядя 11 латенч/о- -."^^яи':нс?мя '« •'-6 ?иот?/;аб. а! . резников

 

ОПИСАН И Е

ИЗОБРЕТЕИИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

l7I854

Союз Советски)!

Социалисти((ески)(Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 1! IV.1963 (№ 830662/26 25) с присоединением заявки №

Приоритет

Кл. 12с, 2

40d, 1(<)

40(1, 1зо

Государственный комитет ло делам изобретений и открытий СССР

МПК B 0ld

С 22f

С 22f

УД К 66.065 (088.8) Опубликовано 22.VI.1965. Бюллетень № 12

Дата опубликования описания 26.VII.1965

СПОСОБ ОТЖИГА КРИСТАЛЛОВ напряжений в кристалле до цагреваиия. После этого кристалл охлаждают. Скорость охлаждения нужно выбирать таким образом, чтобы при каждой температуре термоупругие иапря>кения в том же фиксированном месте кристалла были меньше (по абсолютной всличине) напряжений, оставшихся в кристалле iij)II той же температуре во время нагрева. 11змсряется .характериал величина ианряжсиий.

Например, режим от>кига по предлагаемому способу для моиокристалла 1 )! размсром

20Х20У50 л(л! следующий. Образец иагрсиаюг со скоростью 20%(ин до Т =600 С, затем охлаждают со скоростью 3 /иан. Максимальная величина напряжений растяжеиия, измеренная в средней плоскости параллелепипеда, составляет до от>кига 35 кг/с>и-", после—

5 кг/сл(2, Общая продолжительность режима

220 л(нн, 20

Способ отжига кристаллов, обладающ)гх пределом текучести, иапример мои<)кристалла

25 фтористого г)ития, путем иагр< иаиии и иослсдуюи(его охлажд(!1ил, отл((((л()(((((Й< я Tl ì, IT(), с целью уск<)р llllfl ир<)иесса и и<и)ижеиил т(Mll(. j)атуj)ll(VIIIIII .! )к;)л<) III()(() типа д()стига)<)т и< и)<)T< рми l(ск<)й

30 и, (! < с « I I I l < ! и > г j ) (! ! ! х ! < ! () и к (I Ill)i ! р ! Г) ! .

Пода(сн(>л г/)(/тп Л",>(/

Отжиг, например моиокристаллов LiF, по известному способу проводят в изотермических условиях. При этом процесс требует достаточно высокой температуры, большой выдержки при температуре отжига и медлеиного охлаждения.

Предлагаемый способ быстрого иизкотемпсратуриого отжига заключаетсл в использовании иеизотермической релаксации при быстром нагревании. При этом уровень»апряжешш искусственно повышается за счет иаложеиил иа остаточные иапря>кения термоупругих напряжений (скорость, рассеяние остаточных напряжений возраста(от), температура, до которой надо нагревать моиокристалл, понижается, допустимая скорость последующего охлаждения повышается, а время отжига сокращается.

Пример. Кристалл, подлежащий отжигу, нагревают с большой (постояииой) скоростью длл создаиил в ием значительных тсрмоупругих иапря>ксиий. Одновременно с нагреванием в каком-либо месте кристалла с помощью, например, поляризациоиио-оптического метода, измеря)от вели п(иу виутрсииих иапрлжсиий. Кристалл иагр(иа)от до тех пор, п<н(а пели Illllll срслаксироиап)иих напряжений (отсчиТI>IÈ ll<)Й !)Cv )! (I! )()>! Ii)<У ТРЕИив х IIкении и дав Il<)

Предмет изобрстсиил!

71854

Составитель T. И. Ухорская

Техред Л. К, Ткаченко .Корректор Г. И. Чугунова

Редактор И, Г. Карпас

Заказ 1631!7 Тирлгк 000 Форгвлт бум. 60/90 /в Обьем 0,1 изд. л. Ценл 5 кон.

Ц11И11ПИ Государственного комитета по делам изобретений и открытий СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2

3 стром нагревании, например 20 /.яин, при толщине пластинки 20 мм, до температуры порядка 600 С, при которой величина срелаксировавших напряжений станет равной первоначальной величине остаточных напряжений в образце до нагревания.

Всесоюзядя 11 латенч/о- -.^^яи:нс?мя « •-6 ?иот?/;аб. а! . резников Всесоюзядя 11 латенч/о- -.^^яи:нс?мя « •-6 ?иот?/;аб. а! . резников 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области выращивания активированных монокристаллов и может быть использовано при производстве сцинтилляторов, применяемых в приборостроении для ядерных, космических, геофизических исследований, для медицинской и промышленной компьютерной томографии

Изобретение относится к технологии изготовления изделий из моно- или поликристаллов, используемых в ядерной и космической технике, медицинской диагностике и других областях науки и техники для регистрации ионизирующих излучений
Изобретение относится к области неорганической химии, а именно синтезу широкого класса высокочистых материалов, применяемых в лазерной и инфракрасной технике, а также в волоконной оптике и спецтехнике

Изобретение относится к материалам для лазерной техники
Изобретение относится к области изготовления оптических элементов и может быть использовано в инфракрасной технике
Изобретение относится к обработке композиции, содержащей галогенид редкоземельного элемента, особенно в контексте роста кристаллов из указанной композиции

Изобретение относится к выращиванию из расплава монокристаллов галогенидов, а именно иодида натрия или цезия, в температурном градиенте и с использованием нагревательного элемента, погруженного в расплав

Изобретение относится к сплавам для электронной техники и приборостроения, в частности для термоэмиттеров поверхностно-ионизационных детекторов аминов, гидразинов и их производных

Изобретение относится к технологии изготовления изделий из моно- или поликристаллов, используемых в ядерной и космической технике, медицинской диагностике и других областях науки и техники для регистрации ионизирующих излучений
Наверх