Способ получения фотопластического слоя электрофотографического материала

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОВРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистнческих

Рес убп iii911445 (6l ) Дополнительное к авт. свид-ву (22)Заявлено 14.07.80 (21) 2958594/28-12 (51)М. Кл.

& 03 G- 5/07 с присоединением заявки М

Ыунирстааых комнтвт CCCP

le а@ми взебретеик1 в открытий (23) Приоритет (») УДК772.93.. 96: 771. 531.

37 {088. 8) Опубликовано 07 . 03 . 82 . Бюллетень Xi, 9

Дата опубликования описания 07.03.82 (72) Авторы изобретения

Н.A. Барба, С.В. Р

Специализиро

"Оптоэлектро ордена Трудо ун (7l ) Заявитель (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОПЛЛСТИЧЕСКОГО СЛОЯ

ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА

Изобретение относится к получению фотопластического слоя электрофотографического материала, который может быть использован в устройствах записи, хранения и обработки оптической информации.

Известен способ получения фотопластического слоя электрофотографического материала путем введения в поли-N-винилкарбазол органического тО фотоэлектрически чувствительного вещества, например, полиина и ацетиленида металла $ 1).

Наиболее близким к предлагаемому является способ получения фотоплас"

15 тического слоя электрофотографического материала f2 ), заключающийся в радикальной сополимеризации карбазолил-9-метилметакрилата с алкилметакрилатом в присутствии инициатора, в качестве которого используют динитрил азодиизомасляной кислоты . при нагревании 70-100 С с последуюо щим выделением целевого продукта известным способом, причем карбазо- . лил-9-этилметакрилата берут 4878 мол.Ф, алкилметакрилата 18-48 мол.4 r а инициатора 2-4 мол.4.

Недостаток известного способа невысокая чувствительность фотоплас-. тического слоя электрофотографического материала 0,1-0,3 л с

4 1

Цель изобретения - повышение чувствительности фотопластического слоя электрофотографического материала.

Поставленная цель достигается тем, что в способе получения фотопластического слоя электрофотографического

-материала, заключающемся в радикальной сополимеризации карбазолил-9-этил метакрилата с октилметакрилатом при нагревании с последующим выделением целевого продукта, радикальную сополимеризацию ведут в присутствии дивинила, причем карбазолил-9-этилметакрилата берут 50-70 мол.i, октилметакрилата 15-20 мол.i и дивинила 15-30 мал.g.

62-75

3 91144

Предлагаемым способом получают фотопластический материал, представляющий собой сополимер карбазолил-9-этилметакрилата, октилметакрилата и дивинила, получаемый радикальной сополимеризацией мономеров в определенном мольном соотношении.

Сополимеры хорошо растворимы в органических растворителях (бензол,хлороформ,толуол и др.) и образуют из 1о растворов прозрачные однородные пленки.

Фотопластический материал обладает следующими характеристиками:

Температура стекло- 15 вания, С: 41-48

Температура текучес ги, С:

Характеристическая вязкость 0,03-0,08 . gp

Фотографическая . чувствительность, лк " с 0,8-1,0

Изобретение иллюстрируется следующими примерами получения Фотоплас- . zs тического слоя сополимеризацией карбазолил-9-этилметакрилата,октилметакрилата и дивинила.

Пример 1. Смесь 3,79 9 г (68 мол.3) карбазолил-9-этилметакри- зв лата,. 0,55 г (14 мол.Ф) октилметакрилата, 0,161 г (15 мол.4) дивинилау0,1 r (3 мол.i) динитрила азодиизомасляной кислоты в качестве инициатора и 5 г. толуола нагревают в запаянной ампуле в течение 1О ч при

100 С. Содержимое ампулы разбавляют толуолом и осаждают продукт из раствора метанолом. Выпавший сополимер сушат в вакуум-сушильном шкафу при 4О

50 С до постоянного веса. Выход сополимера составляет 4,25 r (94,5 мол.Ф); температура стеклования 46-48 С, текучести 74-75 С, характеристическая вязкость 0,03.

5 4 ти 62-65 С, характеристическая вязкость 0,08.

Пример 3. Смесь 3,32 r (58 мол.i) карбазолил-9-этилметакрилата, 0,59 г (15 мол.r) октилметакрилата, 0,27 г (25 мол.3) дивинила, 0,066 г (2 мол.3) динитрила азодиизомасляной кислоты и 4,3 г толуола нагревают в запаянной ампуле

10 часов при 100 С. Обработку ведут аналогично примеру 1. Выход сополимера 3,8 r (92,83), температура стеклования 42-43 С, текучести 66-68 С, характеристическая вязкость 0,039..

Предложенный Фотопластический слой однороден по составу, образует пленки, обладающие хорошей эластичностью.

Снижение температуры стеклования фоо топластического материала до 41-48 С и текучести до 62-75 С позволяет производить зались оптических изображений при пониженных температурах 45о

48 С; При этом кратность фотоответа при освещении 2.лк увеличивается по сравнению с известным более чем в

2 раза.

Увеличение чувствительности Фотопластического материала обусловлено не только понижением температуры записи, но и образованием Ф -комплексов при взаимодействии двойных связей звеньев дивинила с сенсибилизатором.

Подогрев фотопластического слоя до температуры проявления и охлаждения до температуры стеклования происходит за более короткий промежуток времени, что позволяет оперативно пройзводить регистрацию информации и ее сбор.

Формула изобретения

Пример 2. Смесь 2,79 г (50 мол.4) карбазолил-9-этилметакрилата, 0,75 г (19 мол.4) октилметакрилата, 0,30 г (28 мол.Ж) диви- 50 нила, 0,1 r (0,3 мол.i) динитрила азодиизомасляной кислоты и 3 9 г толуола нагревают в запаянной ампуле 10 ч при 100 С. После обработки содержимого ампулы аналогично примеру 1 выход сополимера составляет

3 51 r (91,5 ) температура стеклования 41;48 С, температура текучесСпособ получения фотопластического слоя электрофотографического материала путем радикальной сополимеризации карбазолил-9-этилметакрилата с октилметакрилатом при нагревании с последующим выделением целевого продукта, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью увеличения фоточувствительности слоя, радикальную сополимеризацию ведут в присутствии дивинила,.причем берут 5070 мол.3 карбазолил-9-этилметакри5 911445 лата 15-20 мол.4 октилметакрилата и

15-30 мол.4-дивинила. t

Составитель Е. Безбородова

Редактор И. Ковальчук Техред И.Тепер Корректор С. Шекмар

Тираж 489 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, И-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 1121/37

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,4

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 5

1. Авторское свидетельство СССР

" 169395, кл. 6 03 & 5/07, 1963.

2. Авторское свидетельство СССР по заявке 1" 2719038/28-12, кл. G 03 G 5/07, 1979 (прототип).