Способ проявления печатных форм из жидких фотополимеризующихся композиций

 

Изобретение относится к процессам получения полимерного изделия посредством фотосшивки жидкого светочувствительного состава. Цель изобретения - повьпиение производительности способа. Помещают печатную форму, размещенную на каретке, светочувствительным слоем кверху; а также отсасьшающее устройство в газовую среду с повьшенным по отношению к атмосферному давлением на весь цикл проявления. Сжатый воздух, выходя через отсасывающее устройство, удаляет жидкий полимер, проявляя рельеф печатной формы. Скорость удаления определяется давлением газовой среды. 1ЧЭ 00 00

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

А1

„„SU„„278798 ц 4 G 03 F 7 00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А BTOPCKOIVIV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3790316/24-10 (22) l2.09.84 (46) 23. 12.86. Бюл. N - 47 (72) С.Х.Шереметьев и О.В.Горбань (53) 777.4(088.8) (56) Патент Великобритании

В 1336584, кл. С 03 F 7/00, 1970. .Патент Японии У 54-1201, кл. G 03 F 7/00, 1979. (54) СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ПЕЧАТНЫХ

ФОРМ ИЗ ЖИДКИХ ФОТОПОЛИМЕРИЗУЛЦИХСЯ

КОМПОЗИЦИЙ (57) Изобретение относится к процессам получения полимерного иэделия посредством фотосшивки жидкого светочувствительного состава. Цель изобретения — повышение производительности способа. Помещают печатную форму, размещенную на каретке, светочувствительным слоем кверху, а также отсасывающее устройство в газовую среду с повышенным по отношению к атмосферному давлением на весь цикл проявления. Сжатый воздух, выходя через отсасывающее устройство, удаляет жидкий полимер, проявляя рельеф печатной формы. Скорость удаления определяется давлением газовой среды.

Составитель A.Äoáðüäíåâ

Техред М.Ходанич.

Редактор О.Юрковецкая

Корректор Г.Решетник

Заказ 6836/45 Тираж 436

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Производственно-полиграфическое предприятие, г.ужгород, ул.Проектная, 4

1 1278

Изобретение относится к процессам получения полимерного иэделия посредством фотосшивки жидкого светочувствительного состава и может быть использовано для изготовления шильдиков,,трафаретов и рельефных печатных форм.

Цель изобретения — повышение производительности.

Сущность способа заключается в 1О том, .что для удаления незатвердевшей фотополимерной композиции (проявления) отсасывающее устройство, с помощью которого удаляют композицию, и печатную форму, с которой композиция 15 удаляется, помещают в газовую среду с повышенным по отношению к атмосферному давлением на весь цикл проявления .

При этом сжатый газ, покидая каме- 20 ру через отсасывающее устройство, увлекает за собой оставшийся жидкий фотополимер и проявляет тем самым рельеф печатной формы. Скорость удаления и, следовательно, продолжитель- 2з ность операции определяются давлением газа, в среду которого помещена проявляемая печатная форма.

Пример. Негатив со стороны светочувствительного слоя смачивают ЗО раствором, содержащим, мас.ч.: спирт поливиниловый 2 ; спирт этиловый 48; вода дистиллированная 50; высушивают, после. чего, повернув светочувствительным слоем кверху, укладывают на дно светокопировальной кюветы. Кювету наполняют фотополимеризующимся составом, содержащим, мас.ч.: олигоэфир.акрилат марки 100., метилметакрилат

798 2

15; аэросил 5; краситель метиленовый синий 0,04, при толщине слоя 1,5 мм.

Сшивают полимер светом люминесцентной лампы через негатив в течение 8 мин.

Печатную форму, помещенную светочувствительным слоем кверху на каретку, заключают в герметизированную камеру. Открывают доступ в камеру сжатого воздуха и с помощью отсасывающего устройства удаляют жидкую композицию.

Повторив описанные действия в обратном порядке, извлекают из камеры печатную форму, у которой пробелы освобождены от несшитого фотополимера. Поверхность формы промывают раствором, содержащим смесь воды с ацетондм в отношении 3:7, высушивают в потоке воздуха и подвергают воздействию света от ртутной лампы.

Очистка пробелов формы от несшитой композиции на участке длиной

200 мм продолжается около 3 с. Пробелы практически не содержат остатков фотополимера.

Формула из о бр ет ения

Способ проявления печатных форм иэ жидких фотополимериэующихся композиций, заключающийся в удалении незатвердевшей композиции с поверхности печатной формы с помощью отсасывающего устройства, о т л и— ч а ю шийся тем, что, с целью повышения производительности, печатную форму и отсасывающее устройство помещают в газовую среду с повышенным по отношению к атмосферному давлением на весь цикл проявления.

Способ проявления печатных форм из жидких фотополимеризующихся композиций Способ проявления печатных форм из жидких фотополимеризующихся композиций 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет улучшить качество изготовлен ш фотошаблонов

Изобретение относится к полиграфической промышленности для получения печатной продукции и позволяет повысить производительность за счет снижения длительности облучения

Изобретение относится к проекционной литографии и может быть использовано в процессах изготовления интегральных, оптических, оптоэлектронных схем и оригиналов с субмикронными размерами элементов

Изобретение относится к полиграфической промьгашекности и позволяет повысить эксплуатационные характеристики печатной формы

Изобретение относится к полиграфической технике, к корректуре офсетных печатных форм

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх