Устройство для обработки формных пластин

 

Изобретение относится к полиграфии . Целью изобретения является повьшение производительности устройства путем исключения простоев, связанных со сменой раствора в резервуаре. Устройство имеет рабочую ванну 1 с транспортными роликами 2. Ванна разделена на две части водораздельной перегородкой 3, в каждой из которых имеются сливные отверстия 4 и 5. В нижней части ванны расположен коллектор 6 с форсунками 7, соединенными трубопроводом 8 с насосом 9, имеющим заборник 10, помещенный в резервуар 11 с рабочим раствором. Резервуар 11 разделен на две емкости лабиринтной перегородкой 12. Одна из емкостей расположена под сливным от-- верстием 4 первой (по ходу движения пластины показанной стрелкой) части ванны 1 и содержит сливной кран 13, заборник 10 насоса 9, дозаторы 14, 15 компонентов раствора и дозатор 16 чистой воды. Другая расположена под сливным отверстием 5 и содержит слив 17 постоянного уровня и сливной кран 18. 2 ил. S (/) СО со со 00 05

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (51) 4 С 03 F 7/00

ВСЕС!1И)ЗН1

;13,", !

5%63!8lTEL L

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 4046218/28-12 (22) 04,04.86 (46) 07.10.87. Бюл. Р 37 (71) Всесоюзный научно-исследовательский институт полиграфического машиностроения (72) Г.К.Бодриков, В.В.Морозов, Б.Т.Тубеншляк, Л.А.Цветков и Г.А.Эпштейн (53) 655.1/3(088.8) (56) Патент ФРГ К - 1960906, кл. С 03 F 7/00, 1973. (54) УСТРОЙСТВО ДПЯ ОБРАБОТКИ ФОРМНЫХ

ПЛАСТИН (57) Изобретение относится к полиграфии. Целью изобретения является повышение производительности устройства путем исключения простоев, связанных со сменой раствора в резервуаре.

Устройство имеет рабочую ванну 1 с ! 7

„„SU„„1343386 А1 транспортными роликами 2. Ванна разделена на две части водораздельной перегородкой 3, в каждой из которых имеются сливные отверстия 4 и 5.

В нижней части ванны расположен коллектор 6 с форсунками 7, соединенными трубопроводом 8 с насосом 9, имеющим заборник 10, помещенный в резервуар 11 с рабочим раствором. Резервуар 11 разделен на две емкости лабиринтной перегородкой 12, Одна из емкостей расположена под сливным от верстием 4 первой (по ходу движения пластины показанной стрелкой) части ванны 1 и содержит сливной кран 13, заборник 10 насоса 9, дозаторы 14, 15 компонентов раствора и дозатор 16 чистой воды. Другая расположена под сливным отверстием 5 и содержит слив

17 постоянного уровня и сливной кран 18. 2 ил, 1343386

Изобретение относится к полиграфии, а более конкретно к оборудованию для обработки формных пластин на основе твердых фотополимеризуюшихся композиций.

Цель изобретения — повышение производительности устройства путем исключения простоев, связанных со сменой раствора в резервуаре.

На фиг. 1 изображена принципиальная схема устройства для обработки формных пластин; на фиг. 2 — график зависимости толщины ЬЬ вымываемого фотополимерного слоя от времени обработки t (пути Ь, пройденного каждым участком пластины).

Устройство для обработки формных пластин (фиг,1) содержит рабочую ванну 1 с транспортными роликами 2.

Ванна разделена на две части водораздельной перегородкой 3, в каждой иэ которых имеются сливные отверстия 4 и 5. В нижней части ванны расположен коллектор 6 с форсунками 7, соединенными трубопроводом 8 с насосом 9, имеющим заборник 10 помещенный в резервуар 11 с рабочим раствором.

Резервуар 11 разделен на две емкости лабиринтной перегородкой 12. Одна из емкостей расположена под сливным отверстием 4 первой (по ходу движения пластины показанной стрелкой) части ванны 1 и содержит сливной кран 13, заборник 1О насоса 9, дозаторы 14 и 15 компонентов раствора и дозатор

16 чистой воды. Вторая емкость расположена под сливным отверстием 5 и содержит слив 17 постоянного уровня и сливной кран 18.

Скорость перемещения формной пластины через устройство для обработки

Ч=0,13 м/мин выбрана исходя из требуемого такта выхода обработанных пластин из устройства, который составляет 5 мин. График фиг. 2 построен по данным, полученным в результате экспериментальных работ, проведенных на макете устройства, Так как площадь под кривой представляет в некотором масшабе объем вымытого слоя, то очевидно ордината графика пропорциональна концентрации вымытого слоя в общем объеме стекающего раствора с соответствующего по длине участка формной пластины. Эта ордината может служить показателем степени чистоты раствора, стекающего иэ рабочей ванны в резервуар 11 с рабочим раствором.

Устройство работает следующим образом.

Формная пластина 19 с приемного стола (не показан) подается в трансl) портные ролики 2 и протягивается ими через ванну 1 в направлении, показанном стрелкой (слева направо). В процессе перемещения поверхность пластины подвергается воздействию струй рабочеI о раствора, подаваемого из форсунок 7, укрепленных в коллекторе 6, с помощью насоса 9. Заборник 10 насоса помещен в резервуар 11 с рабочим

)5 раствором в ту его часть, которая размещена под сливным отверстием 4.

В процессе вымывания раствор, насыщенный вымытым фотополимером, стекает с поверхности пластины и через сливные

20 отверстия 4 и 5 ванны 1 попадает в соответствующие емкости резервуара 11, разделенные лабириятной перегородкой 12, При этом в соответствии с графиком на фиг. 2 в емкость резервуа25 ра 11, находящуюся под сливным отверстием 4, стекает относительно чистый раствор, который снова от насоса 9 подается на пластину 19 через форсунки 7, В емкость резервуара 11, 30 расположенную под сливным отверстием 5 ванны 1, попадает загрязненный вымытым полимером раствор. В этой части бака раствор отстаивается и, проходя через лабиринтную перегородку 12, имеющую в нижней части узкое щелевое отверстие, дросселируется, создавая в этой части бака некоторое превышение уровня, За счет этого часть раствора с пеной (содержащая

40 большое количество вымытого полимера) через слив поддержания постоянного уровня стекает в канализацию, а другая часть через наклонную стенку лабиринтной перегородки 12 перетекает

45 в емкость бака под сливным отверстием 4. При этом раствор частично очищается, проходя лабиринтную перегородку, где за счет расширения канала тока раствора происходит осаждение частиц вымытого фотополимера на дно.

Степень чистоты раствора, попадающего в соответствующие емкости бака, можно регулировать (в соответствии с графиком на фиг. 2), изменяя положение водораздельной перегородки 3, разделяющей потоки раствора в ванне 1.

1:роме того, для поддержания стабильных свойств рабочего раствора насосом 9 устройство снабжено доэатора1343 386

4h (мм) 0,7

О,б

0,5

О,Я

О,f

ММ) иг.

Тираж 420 Поппи-но

Заказ 4822/48

iP I! ИПИ.;оп в. полигр. пр-тие, г. Ужгород, ул. Проектная, ми чистой воды 1б и компонентов раствора 14 и 15. Управление дозаторами осуществляется от путевого выключателя на входе в устройство, который при подаче каждой последующей пластины дает команду на их включение.

Возникающий при этом излишек раствора в резервуаре 11 стекает через слив поддержания 17 постоянного уровня.

Формула и э о б р е т е н и я

Устройство для обработки формных пластин, содержащее резервуар для рабочего раствора, расположенную над резервуаром рабочую ванну с транспортными роликами и сливным отверстием в дне для слива раствора в резервуар, дозаторы компонентов раствора и систему подачи раствора к расположенным в ванне форсункам, снабженную насосом с заборником, который установлен в резервуаре, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью повышения производительности устройства путем исключения простоев, связанных со сменой раствора в резервуаре, по5 следний снабжен дозатором чистой воды, сливом поддержания заданного уровня раствора и лабиринтной перегородкой, размещенной между этим сливом и

)p заборником насоса, при этом рабочая ванна имеет дополнительное сливное отверстие в дне и водораздельную перегородку между сливными отверстиями, разделяющую ванну на две части, 15 расположенные одна эа другой в направлении перемещения обрабатываемых пластин, причем сливные отверстия ванны расположены над обеими частями резервуара, а сливное отверстие первой по

2р ходу перемещения пластины части ванны вместе с дозаторами компонентов раствора и чистой воды расположено над той частью резервуара, в которой размещен эаборник насоса.

Устройство для обработки формных пластин Устройство для обработки формных пластин Устройство для обработки формных пластин 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фотографии, в частности к фотополимеризующейся кеомпозиции (ФПК) для изготовления защитного рельефа матрицы гальванопластического наращивания

Изобретение относится к измерительной технике и позволяет упростить технологию изготовления растров с произвольным шагом

Изобретение относится к полиграфической промьшшенности и позволяет улучшить эксплуатационные характеристики печатной формы путем увеличения силы сцепления при креплении ее на магнитной подставке

Изобретение относится к спектральному приборостроению и позволяет сократить время изготовления копии решетки и повысить ее климатическую устойчивость

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям для сухих пленочных фоторезистов, использующимся в радио- и электротехнической промышленности при производстве печатных плат

Изобретение относится к устройствам для экспонирования светочувствительных материалов и позволяет повысить производительность и расширить класс изготавливаемых плат

Изобретение относится к химико фотографической области и позволяет увеличить адгезию печатающих элементов фотополимерных форм к подложке

Изобретение относится к химико фотографической области и позволяет увеличить адгезию печатающих элементов фотополимерных форм к подложке

Изобретение относится к технологии изготовления форм высокой печати мелкого рельефа и позволяет повысить качество краскопередачи и тиражестойкости формы

Изобретение относится к процессам получения полимерного изделия посредством фотосшивки жидкого светочувствительного состава

Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике

Изобретение относится к синтезу и использованию нового бифильнорастворимого фотоинициатора радикальной полимеризации фотополимеризующихся композиций (ФПК) 2,2-бис- (3-сульфоксипропилокси)- фенилэтанона нижеприведенной формулы

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к двухслойным позитивным маскам, применяемым в микроэлектронике для создания приборов и интегральных схем методами субмикронных литографий, с использованием плазмохимического травления функциональных слоев, а также полиорганосиланам, обладающим фоточувствительными свойствами, для их изготовления общей формулы где R1 - этиладамантил, этил(диметиладамантил); R2 - метил, фенил; R3 - метил, фенил, циклогексил; m =2-3000 n = 2-3000; m : n = 16: (0,1-10)

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе ненасыщенных полиэфиров, которые могут быть использованы для изготовления деталей методом лазерно-стимулированной полимеризации (стереолитографии) без доступа воздуха
Изобретение относится к технологии формирования на поверхности материалов рельефных элементов и может найти применение, например, в области полиграфии при изготовлении печатных форм (клише) для высокой печати, а также в других областях техники, где необходимо получение рисунка заданной глубины с субмикронным разрешением структур формируемых рельефных элементов в функциональных (обрабатываемых посредством механического воздействия) слоях изделий
Наверх