Способ проявления ядерных фотослоев

 

2I720 8

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 57b, 13/01

Заявлено 16.XI.1966 (№ 1113665/23-4) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 26.1Ч.1968. Бюллетень № 15

Дата опубликования описания 15.Ч11.1968

МПК G 03с

УДК 77.023.417.1(088.8) Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

Авторы изоб оетения

H. П Кочеров, Н. Р. Новикова и H. А. Перфилов

Радиевый институт им. В. Г. Хлопина

Заявитель

СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ЯДЕРНЫХ ФОТОСЛОЕВ

Изобретение относится к способу проявления ядерных эмульсионных слоев любой толщины и различной чувствительности к заряженным частицам.

Известен двухтемпературный способ проявления ядерных фотослоев, заключающийся в том, что ядерный слой пропитывают в проявляющем pBcTBOpL, включающем щавелевокислый калий, феррисульфат и ферросульфат, при 2 — 5 С, после чего проявляют при 18-24 С. При этом возникают деформации эмульсионных слоев, приводящие к искажению траекторий заряженных частиц, вследствие изменения температуры во второй стадии проявления.

С целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности проявления воспроизведения результатов, предлагается пропитывать слои при 16 — 22 С и скислительно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре окислитсль:Io-восстановитсльном потенциале выше порога проявления скрытого изображения.

11ри осуществлении способа различают персуfo и вторую стадии проявления.

В первой стадии слои пропитывают железооксалатным проявителем с величиной окс-ред. потенциала выше порога проявления скрытого изображения. Следы в этом случае не проявляются. Во второй — интенсивно проявляются следы, так как величина окс-ред. потен5 циала в растворе проявителя несколько ниже порога проявления следов самых слабоионизирую;цих частиц, регистрируемых в данном опыте.

Прп обработке ядерных эмульсий возникают

10 меньшие деформации в слоях, благодаря однотемпературному режиму и использованию гроявителя с низким рН, в котором происходит слабое набухание слоев в процессе проявления.

15 Предлагаемый способ обеспечивает полную воспроизводимость процесса, вследствие постоянного потенциометрического контроля, и высокие регистрационные характеристики— максимальная величина чувствительности

20 сравнима с результатами, полученными в пирогаллоламидоловом проявителе двухтемпературным методом. При этом полностью отсутствует дихроическая вуаль и получается низкая величина зерновой вуали.

25 Новый метод предусматривает также возможность проведения избирательного проявления частиц различной природы (дискриминации), т. е. прп использовании эмульсии одной чувствительности (релятивистской) путем

30 изменения величины скс-ред. потенциала про700 лл

15 г

250 г

5 г

1,19 г

1000 мл

700 лл

5 г

250 г

1,19 г

1000 лл

Промывка в прото|ной воде, час

Пропитывииие в проявителе, мин

Промывка в проточной воде, .иин

Проявление, лид

Фиксирование, Толщина фотослоя, лис слоя час

30

400

36 (до осветлеиия)

36 (до осиетлеиия)

6

16

Пластинки

Слон в наклеенном состоянии

400

30

4

2

1 — 2

2 — 10

20 являющего раствора, можно получать весь требуемый интервал чувствительностей, Пример. Готовят проявитель следующего состава: раствор I вода дистиллированная, нагретая до 50 С лимонная кислота щавелевокислый калий феррисульфат бромистый калий вода дистиллированная до раствор II вода дистиллированная, нагретая до 50 С лимонная кислота ферросульфат бромистый калий вода дистиллированная до

Запасные растворы 1 н II хорошо сохраняются длительное время. Рабочий раствор проявителя готовят непосредственно перед проявлением, вливая раствор II в кювету с растХарактеристика обрабатываемого

Пластинки

Слои в ненаклеенпом состоянии .

Пластинки

Пластинки

Пластинки

Образцы для электронного микроскопа

Фиксирование, сушку толстых слоев в спиртовых растворах и наклеивание их на стекло проводят по известному способу.

Плотность зерен в следах заряженных частиц в глубине и на поверхности толстых слоев обеспсчивасгся введением дпухпотенциальной системы проявлсния и большей скоростью проникновения железооксалатного проявителя в глубину слоя и orëè÷oåòñÿ высокой равномерностью: глубина от поверхности слоя, як плотность зерен

50 — 70 40,5

90 — 110 41,3

130 †1 41

При осуществлении предлагаемого способа уменьшается деформация слоя за счет снижения степени набухании в проявителе и применения однотемперагурного режима процесса проявления, сокращается время фотогравором I, где измеряют окс-ред. потенциал. рН проявляющего раствора 3,5.

Количество раствора II, вводимого в раствор I, определяют по потенциалу, величина

5 которого выбирается в зависимости от проявляемого материала.

Для эмульсии ПР-2-релятивистская величиi!bl пороговых потенциалов проявления скрытого изображения, образованного частицами

10 различной пр ироды, следующие, лв: осколки деления — 130 я-частицы — 180

1з-частицы (электроны) — 230

15 На графике представлена зависимость плотности зерен в следах релятивистских электронов от оке-ред. потенциала при второй стадии проявления.

В зависимости от поставленной задачи в

20 эксперименте подбирают требуемую величину окс-ред. потенциала первой стадии, а из данных графика — величину окс-ред. потенциала второй стадии проявления.

В таблице приведен режим фотографиче25 ской обработки эмульсионных слоев различHOH фической обработкл толстых эмульсионных слоев за счет исключения стадии предварительного набухания слоев в дистиллированной воде и устранения стоп-ванны (4 час для

30 слоев толщиной 400 ик), а также сокращения времени пропитывания, вследствие большой скорости пропитывания проявляющего растьора з глубину слоя.

Преимущества предлагаемого способа так35 же в исключении низкотемпературной стадии проявления, требующей специального устройства и дополнительных затрат на охлаждение растворов, в возможности дискриминации частиц различной природы путем проведения

40 избирательного проявления за счет изменения величины окс-ред, потенциала проявляющего раствора. Кроме того отпадает необходимость тсрмостатирования процесса проявления, так как в железсоксалатном проявителе сущест45 уст слабая зависимость плотности проявленных зерен в следах от температуры раствора.

217208

Предмет изобретения

Составитель Э. Рамзова

Редактор С. Лазарева Техред P. М. Новикова Корректоры: С. Ф. Гоптаренко и С. А. Башлыков»

Заказ !694;О Тираж 530 Подписное

ЦПИИПЫ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, lip. Сапунова. 2

Также можно варьировать в широких пределах величин проявленного зерна в следах заряженных частиц путем изменения длительности стадии проявления и температуры проявляющего раствора.

Способ проявления ядерных фотослоев с применением проявляющего раствора, включающего щавелевокислый калий, феррисуль6 фат и ферросульфат, отличающийся тем, что, с целью улучшения регистрационных характеристик слоя, сокращения времени проявления и повышения стабильности воспроизведения

5 результатов, слои пропитывают при 16 — 22 С и окислительно-восстановительном потенциале ниже порога проявления скрытого изображения, после чего проявляют при той же температуре и окислительно-восстановительном

10 потенциале выше порога проявления скрытого изображения.