Устройство для нанесения покрытий в вакууме

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистичсских

Республик

"ДГ+, Зависимое от авт. свидетельства №

М. Кл. С 23< 13. 08

Заявлено 13.! 1.1970 (№ 1403562/22-1) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 21.!Х.1972. Бюллетень № 28

Дата опубликования описания 10.Х.1972

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14.002.51 (088.8) Автор изобретения Ю. В. Сальников

Заявитель Московское ордена Ленина и ордена Трудового Красного Знамени высшее техническое училище им. Н. 3. Баумана

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.

Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены испаритель и вращающаяся подложка с маской. Однако в известном устройстве невозможно наносить слои по заданному закону распределения толщины на поверхности подложек с небольшими радиусами кривизны.

Предлагаемое устройство отличается тем, что оно снабжено механизмом качания подложки, выполненным в виде кривошино-шатунного механизма, связанного рычагом с выходным валом привода вращения подложки.

На чертеже представлено устройство, общий вид.

Устройство состоит из камеры 1, внутри которой расположены испаритель 2, вращающаяся подложка 8 с маской 4, и механизма качания подложки 8, выполненного в виде кривошипно-шатунного механизма 5, связанного рычагом б с выходным валом 7 привода вращения 8 подложки.

На выходном валу 7 привода вращения 8 закреплена подложка 8. Цапфа 9 в центре имеет посадочное отверстие под электродвигатель привода вращения 8, ось качания цапфы пересекает ось подложки в центре кривизны напыляемой поверхности. На опорах цапфы имеются подшипники, наружные кольца которых закреплены в неподвижных стойках 10. Поверхность маски 4 имеет профиль эквидистантный к напыляемой поверхности подложки 8 и расположена на оси испаритель — центр кривизны подложки. Подложка 8 совершает приблизительно гармо10 ническое возвратно-поступательное покачивание около своего центра кривизны и вращается с помощью электродвигателя привода вращения 8. Маску 4 устанавливают в непосредственной близости от подложки 8.

15 В камере 1 может находиться фотометрическое или любое другое устройство 11 для контроля толщин слоев. Испаритель 2 располагается на установочной плите вакуумной камеры на оси, проходящей через центр

20 качания подложки.

На предлагаемом устройстве с помощью изменения кинематики движения и геомег. рии площадей вырезов маски можно управ25 лять процессом нанесения покрытий слоями, толщина которых изменяется по заданному закону, в частности, равнотолщинных, на поверхностях различной кривизны. Скорость вращения, амплитуда и скорость качания

30 подложки 8, форма и расположение вырезов

35 .1931

Составитель И. Резник

Техред Т. Ускова .

Корректор Т. Китаева

Редактор О. Филиппова

Заказ 3418/17 Изд. № 1318 Тираж 406 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, 5К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 на маске, применяемый тип испарителя и геометрия расположения испарителя относительно подложки определяют выполнение заданного закона распределения толщины слоев по круговым зонам поверхности подложки. Распределение толщин слоев в круговых зонах поверхности по заданному закону пропорционально времени открытия маской 4 каждой зоны подложки 3. Закон распределения времени открытия определяется соответствующим подбором соотношений параметров настройки устройства.

Предмет изобретения

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены испаритель и вращающаяся подложка с маской, отличающееся тем, что, с целью получения слоев покрытия по выбранному закону распределения толщин на поверхностях различной кривизны, устройство снабжено механизмом качания подложки, выполненным в виде кривошипно-шатунного механизма, связанного рычагом с выходным валом привода вращения подложки.

Устройство для нанесения покрытий в вакууме Устройство для нанесения покрытий в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки

Изобретение относится к вспомогательным устройствам, входящим в технологический комплекс для нанесения покрытий при производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к области аппаратурного оформления технологий нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на бутылки и к транспортирующему средству для них

Изобретение относится к способу нанесения нанокомпозитных покрытий на плоские поверхности деталей и устройству для его реализации

Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме

Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для электронно-лучевых процессов обработки, в том числе полировки, изделий оптики и микроэлектроники
Наверх