Всесоюзная loatehtho-tex^i^jechai^

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт, свидетельства №

Заявлено 02.X(1.1970 (№ 1603781/26-25) М. Кл. Н 01j 19/32 с присоединением заявки ¹

Приоритет

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений н открытий

Опубликовано 21 VI.1973. Бюллетень № 27

Дата опубликования описания 25.IX.1973

УДК 621.385(088.8) Авторы изобретения

В. Е. Гинзбург и М. М. Зильберман

Заявитель

АНОД ЭЛЕКТРОВАКУУМНОГО ПРИБОРА

Изобретение относится к конструированию электровакуумных приборов, в частности к конструкции камерных анодов электровакуумных приборов.

Известны конструкции камерных анодов электровакуумных приборов, камеры которых образованы пластинчатыми ребрами, из которых удалена внутренняя часть ребра.

Однако, такая конструкция анода не обеспечивает достаточной электрической прочности при сохранении эффекта подавления вторичной эмиссии. Предлагаемая конструкция анода отличается от известной тем, что часть ребра, примыкающая к поверхности анода, выполнена в виде сплошной стенки с высотой порядка расстояния между ребрами, а продолжение стенки выполнено в виде ряда штырей с высотой порядка расстояния между штырями. Это позволяет повысить эффективность подавлен ия вторичной эмиссии.

На чертеже изображена конструкция предлагаемого анода. Анод содержит сплошную стенку 1, примыкающую к поверхности анода

2 и штырь 8.

Каждое ребро выполняется в виде сплошной стенки с высотой, .не меньшей расстояния между ребрами, а продолжением стенки служат штыри с высотой приблизительно равной расстоянию между штырями, которое равно в свою очередь расстоянию между ребрами.

Высота сплошной стенки ребра не должна быть меньше расстояния между ребрами, ибо, в противном случае, возможен выход из коплектора отраженных вторичных электронов подавление ионов будет недостаточно эффективным. Высота штыря определяется тем, что внешнее электрическое поле «провисает» вглубь камеры на расстояние порядка размера входного отверстия. Увеличение высоты штыря за счет уменьшения высоты сплошной

10 стенки нежелательно, поскольку отраженные вторичные электроны или ионы, которые попадали бы на стенку в отсутствие внешних полей, выйдут из коллектора, пройдя между штырями.

15 В этой конструкции камера экранирована от внешних электрических полей, а непосредственно на экранирующие штыри попадает лишь незначительная часть электронов.

Предмет изобретения

Анод электровакуумного прибора камерного типа, камеры которого образованы пластинчатыми ребрами, причем часть ребра удалена, отличающийся тем, что, с целью

25 повышения эффективности подавления вторичной эмиссии, часть ребра, примыкающая к поверхности анода, выполнена в виде сплошной стенки с высотой порядка расстояния между ребрами, а продолжение стенки выпол30 нено в виде ряда штырей с высотой порядка расстояния между штырями.

Редакгор А. Морозова

Составитель И. Ратенберг

Текред Е. Борисова

Корректоры: В. Жолудева и Е. Хмелева

3))ка", 2639,9 Изд. № 704 Тираж 780 Подписное

Ц11ИИГ1И Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, )K-35, Раушская наб., д. 4(5

Тип )Гj)cl(j)HSI, II(). CHH) нойй, 2

Всесоюзная loatehtho-tex^i^jechai^ Всесоюзная loatehtho-tex^i^jechai^ 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано при конструировании и производстве электвовакуумных ламп

Изобретение относится к индикаторной технике и может быть использовано для создания вакуумных люминесцентных индикаторов (ВЛИ), отображающих текстовую и графическую информацию

Изобретение относится к области формирования покрытий на основе углерода на медных подложках и может быть использовано для получения защитного покрытия на внутренней рабочей поверхности медных анодов мощных генераторных ламп цилиндрической формы и анодных блоков магнетронов. Способ получения покрытия из карбида титана на внутренней поверхности медного анода генераторной лампы включает формирование слоя титана на упомянутой внутренней поверхности медного анода и нанесение слоя карбида титана из металлической плазмы посредством распыления вакуумно-дуговым разрядом титанового катода в среде углеродосодержащего газа, который подают в обрабатываемую полость анода со стороны соосно расположенного распыляемого титанового катода. Слой титана наносят толщиной, не превышающей 1/3…1/4 толщины слоя TiC, и затем проводят отжиг. Создается многокомпонентный слой Cu-(Cu-Ti)-(Ti-TiC), обеспечивающий качество формируемого защитного покрытия тугоплавкого металла TiC и упрощение технологического процесса его получения, а также обеспечиваются возможности формирования покрытия на заданном обрабатываемом участке. 2 ил.

Изобретение относится к области создания отрицательных электродов (анодов) для литиевых вторичных химических источников тока (аккумуляторов). Пористый литиевый анод содержит токосъемник из металла, на поверхность которого нанесено многослойное покрытие, содержащее три слоя. Внутренний слой, нанесенный на токосъемник, выполнен из пористой углеродной матрицы, содержащей вертикально ориентированные углеродные наночастицы. Средний слой, напыленный на внутренний слой, выполнен из металла, а наружный слой, напыленный на средний слой, выполнен из металлического лития. Изобретение позволяет увеличить удельную емкость и количество циклов перезарядки аккумулятора, снизить дендритообразование и перенапряжение. 9 з.п. ф-лы, 3 ил.
Наверх