Устройство для травления металлических пленок

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

<п 5447I3

Союз Сенатских

Сошиалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 17.11.75 (21) 2189586/21 с присоединением заявки № (51) Ч Кл 2 С 23F 1/02

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Опубликовано 30.01.77. Бюллетень № 4

Дата опубликования описания 15.02.77 (53) УДК 621.396.6 (088.8) (72) Авторы изобретения

А. И. Фаличева и H. А. Соловьева (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ

ПЛЕНОК

ГосУларственный комитат (23) Приоритет

Изобретение относится к радиоэлектронной промышленности и может быть использовано при производстве пленочных резисторов, конденсаторов и микросхем.

Известно устройство, использующее анодную головку для нанесения гальванических покрытий на металл. Основными конструктивными элементами данного устройства является корпус, анод, ввод для электролита и тампон (1).

Однако это устройство предназначается ,только для монополярного включения обрабатываемой детали в электрохимическую цепь, т. е. или только в качестве катода, или только в качестве анода.

Цель изобретения — повышение равномерности травления.

Это достигается тем, что в устройстве для травления металлических пленок, содержащем подвижные электроды с закрепленными на них тампонами, смоченными электролитом и соединенными с источником переменного тока, электроды выполнены прямоугольного сечения и размещены на общем изоляционном основании, причем расстояние между электродами равно ширине тампонов.

На чертеже представлены общий вид устройства и схема включения в электрическую цепь стравливаемой пленки.

Устройство состоит из корпуса (основание) 1, выполненного из изоляционного материала; двух одинаковых электродов 2 из проводников первого рода, смонтированных на корпусе

1 и подключенных к источнику переменного тока; двух одинаковых тампонов 3 из пористого материала (фетр, войлок), смоченных электролитом и контактирующих с электродами; стравливаемой пленки 4; изоляционной прокладки 5.

1О Материал электродов выбирается таким образом, чтобы они могли работать в качестве катодов и в качестве нерастворимых анодов в одном и том же электролите. Степень смачивания тампонов, выраженная отношением ве15 са тампона после и до смачивания, должна быть в пределах 1,5 — 2,0.

Устройство работает следующим образом.

Биполярный блок приводится в соприкосновение со стравливаемой пленкой 4, вручную

2О или механически обеспечивается относительное перемещение блока и пленки, Тампоны блока имеют площади касания с пленкой в виде симметрично расположенных прямоугольников, между которыми заключен уча25 сток пленки, шириной ав. При включении тока электрохимическая цепь замыкается по схеме: один полюс источника тока — электрод в тампон 3 — стравлпваемая пленка 4— тампон 3 — электрод — другой полюс источ30 ника тока. Электрохимические процессы идут

544713

Формула изобретения

-д4

Составитель О, Богомолов

Техред Л. Гладкова

Редактор Е. Караулова

1(оррсктор Л. Брахпина

Заказ 126/16 Изд. № 156 Тира>к 1124 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, K-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 на границах электродов с тампонами и тампонов со стравливаемой пленкой. В любой зафиксированный момент времени один электрод является катодом (— ), участок пленки под контактирующим с ним тампоном до середины ав — анодом (+), второй электрод— анодом (+), а соответствующий участок пленки — катодом (— ) . Таким образом, пленка 4 травится в результате протекания катодно-анодных процессов на площади касания тампонов. Полярность электродов и участков пленки меняется с частотой, равной частоте рабочего тока. Равномерность травления обусловливается идеальным распределением плотности тока по поверхности пленки в силу того, что в любом сечении сопротивление указанной выше электрохимической цепи складывается из равноценных составляющих, а величина шунтирующего тока по схеме: электрод — тампон — пленка электролита на стравливаемой металлической пленке — тампон — электрод ничтожно мала при выбранной степени смачиванггя тампонов. Большое сопротивление шунтирующей цепочки обеспечивает возможность непрерывного измерения величины сопротивления стравливаемой пленки с высокой точностью.

Устройство для травления металлических пленок, содержащее подвижные электроды с закреплвнныуги на них тампонами, смоченными электролитом и соединенными с источником переменного тока, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения равномерности травле15 ния, электроды выполнены прямоугольного сечения и размещены на общем изоляционном основании, причем расстояние между электродами равно ширине тампонов.

Источники информации, принятые во вни20 мание при экспертизе.

1. Лвт. св. СССР ¹ 378535, кл. С 23В 1/00, 19б3 (прототип).

Устройство для травления металлических пленок Устройство для травления металлических пленок 

 

Похожие патенты:
Изобретение относится к очистке железных археологических предметов от ржавчины и может быть использовано в археологии и машиностроении
Изобретение относится к травильным растворам и способам клеймения изделий из стали и меди и ее сплавов, покрытых цинком, кадмием, серебром, оловом и его сплавами, и может быть использовано в радиотехнической промышленности, приборостроении, авиационной промышленности и в других областях народного хозяйства для нанесения знаков, характеризующих изделие
Изобретение относится к травильным растворам и способам клеймения изделий из алюминия, титана и легированной стали и может быть использовано в радиотехнической промышленности, приборостроении, авиационной промышленности и в других областях народного хозяйства для нанесения знаков, характеризующих изделие
Изобретение относится к травлению меди и ее сплавов и может быть использовано при изготовлении печатных плат и фасонных изделий

Изобретение относится к области микроэлектронной техники и может быть использовано, в частности, при формировании рисунка элементов на основе органического полупроводника - фталоцианина меди
Наверх