Состав для очистки печатных плат

 

О П И С А Н И Е >921128

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советсиик

Социаяистичесиик

Респубпин

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свнд-ву(22)Заявлено01.07.80 (21) 2948114/18-21 (51)М. Кд. с присоединением заявки ЭЙ (23) Приоритет "

Н 05 K 3/26

ГещднрстеанМй коннтет

СССР оо делан нзаеретеннй н открнтнй

Опубликовано 15 04 82 Бюллетень Ме 14 (53) УДК 621.396. .6.002.2(088.8) Дата опубликования описания 17. 04. 82 (54) СОСТАВ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ

Изобретение относится к составам, используемым в радиоэлектронной промышленности для очистки изделий, и может применяться в приборостроении.

Известен состав tl) для очистки печатных плат от канифольных флюсов при следующем соотношении компонентов, вес. :

КОН 0,4-0,65

СаО 0,8-0,95

NaOH . 2,3-2;65

Вода Остальное

Недостатком этого раствора является относительно высокое значение рН, равное 12,50-12,74, и малая флюсоемкость 9-11 г/л. Значения .рН и флюсоемкости в процессе приготовления соста-.. ва зависят от способа приготовления раствора, последнее затрудняет синтез раствора в производственных усло20 виях.

Известен также состав (2j для очистки печатных плат от канифольсодержащего флюса, наиболее близкий по.

2 содержанию к изобретению, включающий водный раствор щелочи, окиси кальция и едкого натрия и добавочное вещество — хлористый аммоний при следующем соотношении компонентов, вес.4:

КОН 0,4-0,65

СаО 0,8-0,95

NaOH 2,3-2,65

ИН,С1 0,5-1,0

Вода Остальное

Недостатком этого состава является наличие в растворе ионов хлора, присутствие, которых на:местах паек и контактов вызывает коррозию, ухудшает качество и надежность паяного изделия. В процессе отмывки отработанные растворы утилизуют путем нейтрализации кислотами. Жидкую фазу раствора сливают в сточные воды предприятия, а образовавшийся осадок направляют на производство активированных флюсов для низкотемпературной пайки. Легирующими компонентами флюса являются ионы (К, Са, Na+, P ), которые выпол4 ствию и по максима) ьному значению флюсоемкости.

Пример, Каждый из составов раствора при 25+5 С были обработаны партии типовых печатных плат. Пайку объектов исследования .осущест вляли припоем ПОС61 с флюсом ФКСп.

Контроль за остатками флюса после пайки и качеством очистки проводят люминесцентным метадом и методом измерения рН по ОСТ 4-20.054.089, а также металлографически под микроскопом ИИИ-7 (увеличение 400"). При расконсервации плат измеряют пробойное напряжение.

Эксперименты показывают, что лучшими свойствами по быстродействию обладает состав, в котором гидроокиси кальция, гидроокиси лития и фосфорноватистокислого кальция содержит соответственно 0,8-1,10; 0,4-0,6;

1,5-1,9. Время очистки плат, контактов и выводов 1+0,5 мин, рН раствора предлагаемого состава при этом находится в пределах 12,0-11,5, что ниже рН раствора известного состава.

Технико-экономический эффект от внедрения составляет 250 тыс. руб.

Данный состав по сравнению с известным позволяет снизить агрессивность моющей среды, повысить флюссоемкость, уменьшить время отмывки.

1 о

Содержание компонентов, вес. 4

КНО NaOH (LiOH (Са(ОН) Са(НаРО )а Вода

Остальное 12,0 3 5 17

1 5

12,0 3 5

1,55 — 11—

04 23 045 09

1,6

12,0 3 5

12,0 315

12,0 3 5

1,7

17 — II—

1,8

3,5

1,9

17

12,0 — II—

28.

1 а5

1 1-,80 2,5

11 9

2,0

1,55

1,6

2,0

11,8

0 95

1,65

2,0

12,0

0,5 2,5 0,5

0,5 2,5 0,5

2,5

1 7

1,0

12,0 — В

3 92112 няют роль не только восстановителей, но и роль антикоррозионных присадок.

Кроме того, процесс очистки достаточно длителен из-за большого значения рН раствора. S

Целью изобретения является повышение качества и ускорение процесса очистки.

Поставленная цель достигается.тем, что состав для очистки печатных плат, О включающий водные растворы едкого кали и едкого натра, дополнительно содержит гидроокись лития, гидроокись кальция и фосфорноватистокислый кальций при следующем количественном со- 1$ отношении компонентов, вес.Ф:

Едкое кали (КОН) 0,4-0,65

Едкий натр (NaOH) 2,3-2,65

Гидроокись лития (LiOH) 0,40 0,60

Гидроокись кальция Са(ОН) 0,80-1, 10

Фосфорноватистокислый кальций са(Н,РО 3 1,5-1 а9

Вода Остальное

В таблице приведены результаты экспериментов по опробованию двадца1 ти композиций раствора с различным содержанием компонентов, в результа- зв те которых выявлен состав, обладающий лучшими свойствами по быстродей0,4 2,3,0,4 0,85

0,4 2,3 0,50 0,95

0 4 2 3 0 55 1 00

04 23 060 1,1

05 25 04 080

0,5 . 2,5 0,45 0,85

0,5 2,5 0,45 0,90 рН . Время Флюсоемкость раста отмывк при 25 Cа, ;ра мин г/л

921128

Продолжение таблицы!

Флюсоемкость при 25 С, r/ë рН раство ра

Время отмывк мин

Вода

0,5 2,5 0,55 1,05

05 25 055 1,10

05 25 060 1,10

1,75

11 9

1,80

11,8

11,8

1 19

0,65 2,65 9,4 О;80

1,5

1 1,.5

0, 6 5 2, 6 5 0, 4 0, 90

0, 65 2, 6 5 0, 4 5 . 0, 95

0, 6 5 2, 6 5 0, 5 0 1, 0

0, 65 2, 65 0, 55 1, 05,1,6

11,5

1,65

11 5

1,7

11,5 — II

1,8

l1 5

0,65 2,65 0,60 1,1

11 ° 5

1 9

У

Гидроокись лития

Гидроокись кальция

Фосфорноватистокислый кальций

Вода

Формула изобретения

0,4-0,6

0,8-.1,1

151,9

Остальное

Составитель В. Милославская

Редактор Т. Кинь Техред А,Ач Корректор Н, Стец

Заказ 2385/76 Тираж 856 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035 . Москва Ж-)5 Раушская наб. g 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

KH0 NaOH LiOH Ca(OH)z Са(Н,РО )z зо

Состав для очистки печатных плат, включающий водные растворы едкого кали и едкого натра, отличаюшийся тем, что, с целью улучшения качества и ускорения процесса очистки, он дополнительно содержит гид" роокись лития, гидроокись кальция и фосфорноватистокислый кальций при следующем количественном соотноше/ о . нии компонентов, вес. 4:

Едкое кали 0,4-0,65

Едкий натр 2,3-2,65

2,5 28

25 28

2,5 28

1,0 35

05 30

05 30

05 - 30

05 30

1,0 35

Источники информации, принятые во. внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

PI 658603, кл. H 05 K 3/26, 1977.

2. Авторское свидетельство СССР по заявке и 2727473/18-21, кл. Н 05 К 3/26, 1979 (прототип).

Состав для очистки печатных плат Состав для очистки печатных плат Состав для очистки печатных плат 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электронной промышленности, в частности к способам получения фотошаблонных заготовок (ФШЗ), одного из основных материалов микроэлектроники

Изобретение относится к способам очистки керамических изделий от примесей, в частности к способу очистки поверхности и объема изделий из керамики ВеО от примеси углерода, в том числе подложек для микросхем и мощных резисторов, транзисторов, окон для СВЧ-радаров, каналов газоразрядных лазеров, поверхности и объема вакуумно-плотных изоляторов, применяемых в камерах с магнитным обжатием-МАГО, для получения высокотемпературной замагниченной водородной плазмы
Изобретение относится к электронной промышленности

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении фотошаблонов для полупроводниковых приборов и интегральных схем
Изобретение относится к способу производства полупроводниковых систем, в частности к вскрытию контактных площадок в печатных платах, шлейфах, микросхемах, изготовленных на основе полиимидной пленки, когда необходимо удаление с контактных площадок адгезива из эпоксидной смолы, которой склеивается медная фольга с полиимидной основой
Изобретение относится к электротехнике, в частности к способу производства полупроводниковых систем, изготавливаемых на основе полиимида, где требуется вскрытие контактных площадок для соединения проводящих слоев разных уровней печатных плат
Изобретение относится к области электротехники, в частности к изготовлению фотошаблонных заготовок, предназначенных для формирования интегральных схем

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и может быть использовано в радиотехнической, электротехнической и приборостроительной промышленности

Изобретение относится к радиоэлектронной промышленности, а именно к очистке печатных плат

Изобретение относится к технологии производства многослойных печатных плат, а именно к устройствам для зачистки контактных поверхностей
Наверх