Подложкодержатель

 

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. Цель изобретения - повышение равномерности покрытия по толщине. Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндричсекий корпус с гнездами, в которых установлены обрабатываемые детали. Выполнение копруса в виде жесткой одно- или многозаходной спирали с шагом витка спирали H2h , где h - высота обрабатываемых деталей, и расстояние между ними Ll , где l - максимальный размер детали, позволяет потоку пара со всех сторон экранироваться на обрабатываемых изделиях. 1 з.п.ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к области нанесения вакуумных покрытий и может быть использовано для нанесения различных покрытий и тонких пленок. Целью изобретения является повышение равномерности покрытия по толщине. Подложкодержатель выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, в гнездах которой устанавливаются обрабатываемые детали. Кроме того, с целью исключения экранирования от потока пара, шаг витка спирали Н 2h, где h - высота обрабатываемой детали, а расстояние между гнездами с учетом производительности равно L l, где l - максимальный размер детали. На фиг. 1 - общий вид подложкодержателя; на фиг. 2 - вид сверху; на фиг. 3 - поперечное сечение витка. Подложкодержатель содержит многоярусный цилиндрический корпус, выполненный в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали 1 с гнездами 2, в которых установлены обрабатываемые детали 3, привод 4 вращения спирали. Подложкодержатель работает следующим образом. Нанесение покрытий производится на установке Булат-3. Спираль 1 в процессе обработки вращается вокруг своей оси. Благодаря тому, что детали расположены под углом и положение их по отношению к ионному потоку в процессе обработки непрерывно меняется, обеспечивается равномерная объемная конденсация покрытия разных поверхностей обрабатываемых деталей.

Формула изобретения

ПОДЛОЖКОДЕРЖАТЕЛЬ, содержащий многоярусный цилиндрический корпус, на ярусах которого размещаются обрабатываемые изделия, и привод вращения, кинематически соединенный с корпусом, отличающийся тем, что, с целью повышения равномерности покрытия по толщине, корпус выполнен в виде жесткой одно- или многозаходной ленточной спирали, при этом шаг спирали равен H h, где H - шаг спирали, мм; h - высота обрабатываемой детали, мм, а расстояние между гнездами равно L l, где L - расстояние между гнездами, мм; l - наибольший размер обрабатываемой детали, мм.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 14-2002

Извещение опубликовано: 20.05.2002        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области нанесения тонких пленок вакуумным напылением и может быть использовано для вращения лопаток турбин в потоке конденсата в вакуумных установках

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки

Изобретение относится к вспомогательным устройствам, входящим в технологический комплекс для нанесения покрытий при производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к области аппаратурного оформления технологий нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на бутылки и к транспортирующему средству для них

Изобретение относится к способу нанесения нанокомпозитных покрытий на плоские поверхности деталей и устройству для его реализации

Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме

Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для электронно-лучевых процессов обработки, в том числе полировки, изделий оптики и микроэлектроники
Наверх