Всесоюзну»я пдтеш1^{]..--?«!^!;г^г'о}

 

362073

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Ссветскнн

Социалистичвскин

Респуслин

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 14.XII.1970 (1тв 1601694126-9) с присоединением заявки №

Приоритет

М. Кл. С 23с 13/02

Комитет по лолам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 539.234.002.5(088.8) Опубликовано 13.Х111972. Бюллетень № 2 за 1973

Дата опубликования описания 6.II.1973

Авторы изобретения

K33qp q

+ !lg tь . тс р. чпи

В. Н. Малеев и В. H. Семин

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАГРЕВА ПОДЛОЖЕК В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к технике нанесения тонких пленок в вакууме и может быть использовано при изготовлении элементов микроэлектроники и оптически»; покрытий.

Известны омические и электронные нагреватели для нагрева подложек и термообработки тонких пленок, нанесенных в вакууме.

Электронные нагреватели подложек, содержащие вольфрамовый проволочный катод, экран и изолирующие стойки, имеют небольшой срок службы, а для равномерного нагрева подложек требуют применения массивной металлической выравнивающей пластины.

С целью равномерного нагрева подложек и повышения надежности работы устройства, катод устройства для нагрева расположен внутри герметичного тонкостенного цилиндра из тугоплавкого материала, например молибдена; плоскость катода параллельна нижнему основани|о цилиндра; давление остаточного газа внутри цилиндра соответствует низкому вакууму.

На чертеже изображено предлагаемое устройство и подложка.

Водоохлаждаемый катод 1 с магниевым покрытием 2 посредством вакуумно-плотной сварки через керамический высоковольтный изолятор 8 крепится на держателе 4 устройства. К держателю 4 устройства также вакуумно-плотно приварен цилиндрический корпус 5, изготовленный из тугоплавкого материала (молибден, тантал, титан). К нижней части корпуса параллельно катоду привари5 вается тонкий (0,1 — 0,3 лтя) диск (анод) б основание цилиндра, из такого же тугоплавкого материала. Для уменьшения теплоотдачи с нерабочей стороны нагревателя к держателю 4 приварен экран 7. Из корпуса нагрева10 теля откачан воздух до давления 6 — 3 . 10 2 млт рт. ст. Все устройство крепится посредством держателя 4 внутри вакуумной камеры в непосредственной близости от нагреваемой подложки 8.

1s I(катоду 1 нагревателя подводится высокое напряжение (до 6 кв). При подаче высокого напряжения на катод 1 внутри корпуса 5 в результате ионизации возникает аномальный тлеющий разряд, и между катодом 1 и дис20 ком (анодом) б протекает ток. Под действием тока диск б разогревается. Так как распределение тока в разряде равномерно по всей площади катода, то находящийся против катода анод прогревается с высокой степенью равно25 мерности, а следовательно, посредством тепловой радиации равномерно нагревается и подложка. Вследствие малой толщины диска б потери на теплопроводность и теплоемкость нагревателя минимальны.

362073

Предмет изобретения

Вода!

Составитель M. Порфирова

Техред Л. Богданова

Редактор Л. Струве

Корректор А. Дзесова

Заказ 118/1 Изд. № 1020 Тираж 404 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий прн Совете Министров СССР

Москва, 7К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Для уменьшения распыления катода и увеличения срока службы устройства катод 1 покрыт тонким слоем магния, имеющего наименьший коэффициент распыления.

Как показали проведенные эксперименты, нагреватель предлагаемой конструкции прн напряжении до 6 кв и разрядном токе до 0,3 а обеспечивает равномерный нагрев подложек до 600 С за 5 — 6 мин при расстоянии от подложки до 10 — 20 им, Срок службы предлагаемого нагревателя практически не ограничен и определяется лишь качеством вакуумной сварки корпуса.

Устройство для нагрева подложек в вакууме, содержащее катод, экран и источник

5 постоянного тока, подключенный к катоду, отличавшееся тем, что, с целью обеспечения равномерности нагрева подложек и повышения надежности работы устройства, катод расположен внутри герметичного тонкостен10 ного цилиндра из тугоплавкого материала, например молибдена, причем плоскость катода параллельна нижнему основанию цилиндра, а давление остаточного газа внутри цилиндра соответствует низкому вакууму.

Всесоюзну»я пдтеш1^{]..--?«!^!;г^го} Всесоюзну»я пдтеш1^{]..--?«!^!;г^го} 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки

Изобретение относится к вспомогательным устройствам, входящим в технологический комплекс для нанесения покрытий при производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к области аппаратурного оформления технологий нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройству для нанесения покрытия на бутылки и к транспортирующему средству для них

Изобретение относится к способу нанесения нанокомпозитных покрытий на плоские поверхности деталей и устройству для его реализации

Изобретение относится к области электронной техники, а более конкретно к устройствам для закрепления подложек, работающим в экологически чистых средах и вакууме

Изобретение относится к области технологической обработки подложек в вакууме, а более конкретно к устройствам для охлаждения подложек в вакууме

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для электронно-лучевых процессов обработки, в том числе полировки, изделий оптики и микроэлектроники
Наверх